JP2017518204A - バリア層スタック、バリア層スタックを製造するための方法、並びに超高バリア層及び反射防止システム - Google Patents

バリア層スタック、バリア層スタックを製造するための方法、並びに超高バリア層及び反射防止システム Download PDF

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Abstract

バリア層スタックが提供される。バリア層スタック(10、20、30、40)は、この順で配置されている第1の層(11)、第2の層(12)、第3の層(13)、及び第4の層(14)を含む。第1の層(11)及び第3の層(13)は、少なくとも1.9の屈折率を有しており、第2の層(12)及び第4の層(14)は、1.7未満の屈折率を有している。層(11−14)の各々は、少なくとも70nmの厚さを有している。【選択図】 図1

Description

本開示の実施形態は、バリア層スタック、バリア層スタックを製造するための方法、超高バリア層及び反射防止システムに関する。
有機発光デバイス(OLED)は、水蒸気又は酸素にさらされると、出力が低下したり、早期に故障したりする可能性がある。幾つかのバリアシステムが、OLEDデバイスを水蒸気又は酸素などから保護するために使用されてきた。例として、OLEDをカプセル化するためにガラスが使用されると、ガラスには柔軟性がないため、OLEDデバイスの構造的安定性が損なわれる。
例えば、フレキシブルポリマー基板などの基板上に、上記態様の少なくとも幾つかを克服する、バリアシステムが必要とされる。特に、従来の構造と比較して高度な光学性能を示すバリアシステムが必要とされる。
上記に鑑み、バリア層スタック、バリア層スタックを製造するための方法、超高バリア層及び反射防止システムが提供される。本開示の更なる態様、利点、及び特徴は、請求項、明細書、及び添付の図面から明らかとなる。
本開示の態様に従って、バリア層スタックが提供される。バリア層スタックは、この順で配置されている第1の層、第2の層、第3の層、及び第4の層を含む。第1の層及び第3の層は、少なくとも1.9の屈折率を有しており、第2の層及び第4の層は、1.7未満の屈折率を有している。層の各々は、少なくとも70nmの厚さを有している。
本開示の別の態様に従って、バリア層スタックを製造するための方法が提供される。方法は、少なくとも4つの層を形成するために、第1の層材料及び第2の層材料を基板の上に交互に堆積させることを含み、第1の層材料が少なくとも1.9の屈折率を有しており、第2の層材料が1.7未満の屈折率を有しており、層の各々が少なくとも70nmの厚さを有している。
本開示の更に別の態様によれば、超高バリア層及び反射防止システムが提供される。超高バリア層及び反射防止システムは、基板、及び基板の上に層スタックを含む。層スタックは、この順で配置されている第1の層、第2の層、第3の層、及び第4の層を含む。第1の層及び第3の層は、少なくとも1.9の屈折率を有しており、第2の層及び第4の層は、1.7未満の屈折率を有している。層の各々は、少なくとも70nmの厚さを有している。
実施形態はまた、開示された方法を実行する装置も対象とし、記載されたそれぞれの方法ステップを実行する装置部分も含む。これらの方法ステップは、ハードウェア構成要素、適当なソフトウェアによってプログラムされたコンピュータを手段として、又はこれらの2つの任意の組合せによって、あるいは任意の他の方式で実行することができる。さらに、本開示による実施形態は、記載された装置が動作する方法も対象とする。方法は、装置のあらゆる機能を実行する方法ステップを含む。
本開示の上記の特徴を詳細に理解することができるように、実施形態を参照することによって、上で簡単に概説した本開示のより具体的な説明を得ることができる。添付の図面は、本開示の実施形態に関し、以下において説明される。
A−Cは、本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックの断面図を示す。 本明細書に記載の更なる実施形態によるバリア層スタックの断面図を示す。 本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックの反射率のグラフを示す。 本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックを製造するために使用された堆積装置の概略図を示す。 本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックを製造するための方法のフローチャートを示す。
ここで、本開示の種々の実施形態が詳細に参照されることになり、その一又は複数の例が図示される。図面に関する以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ構成要素を指している。概して、個々の実施形態に関する相違のみが説明される。本開示の説明として各例が与えられているが、本開示を限定するつもりはない。更に、1つの実施形態の一部として図示及び説明されている特徴は、更に別の実施形態をもたらすために、他の実施形態において用いてもよく、又は他の実施形態と併用されてもよい。本明細書は、かかる修正及び改変を含むことが意図されている。
層スタックは、光学的適用(例えば、OLEDの保護)で使用することができるが、特に可視スペクトルにおける透過率を低減する可能性があり、不所望な色を作り出すことがある。本開示は、組み合わされたバリア特性と反射防止特性を有するバリア層スタックを提供することによって、この欠点を克服する。本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックは、色の中性を有することができ、色の中性により、バリア層スタックの改善した光学特性が提供される。
OLED適用についてこれまで述べられてきたが、本開示のバリア層スタックはまた、異なる適用で使用することもできる。例として、本開示のバリア層スタックは、例えば、新鮮なパスタ、スライスされた肉、乾燥フルーツ、又はスナックなど高酸素防御が必要な食品の包装分野で使用することができる。バリア層スタックは、製品を可視化するためにガスバリア及び透明な特性を提供し得る。
本開示は、低い水蒸気及び酸素透過を伴うバリア層システムに関し、特に超高バリア層システム(UHB)に関する。本開示のバリア層スタックは、交互の層(ダイアッド(diades))を含み、特に少なくとも4つの層を含む。個々の層の厚さは、少なくとも70nmであり、特に70nmから300nmの範囲、より具体的には100nmから150nmの範囲にある。個々の層の厚さ及び/又は光学特性は、異なる可能性がある。バリア層スタックは、低屈折率及び高屈折率を有する少なくとも2つの材料を含むことができる。バリア層スタックの層の少なくとも幾つかは、誘電体層とすることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、第1の層、第2の層、第3の層及び更なる層が、誘電体層である。幾つかの実施態様では、バリア層スタックの層のすべてが、誘電体層である。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、最上層、即ち、第4の層などの基板の上に配置される最後の層は、低屈折率を有している。低屈折率を有する最上層を含むバリア層スタックは、改善された光学特性を提供する。
本開示の態様は、例えば、層スタックが配設される基板(コーティングされていない)の透過率より高い透過率を提供するために、個々の層の層厚を提供することである。特に、本開示の態様は、可視領域の基板の透過率より高い透過率を提供することである。
本開示は、バリア層スタックに反射防止特性を提供する。幾つかの実施形態によれば、4つの層を有するバリア層スタックは、NONOとして言及され得、5つの層を有するバリア層スタックは、NONONとして言及され得、6つの層を有するバリア層スタックは、NONONOとして言及され得る。記号N及びOは、層の材料を示し得る。幾つかの実施態様では、記号Nは、高屈折率を有する材料又は層(例えば、SiNx)を示し、記号Oは、低屈折率を有する材料又は層(例えば、SiOx)を示す。低屈折率は、1.4から1.6の範囲、特におよそn=1.46とすることができる。しかしながら、本開示はSiNx及びSiOxに限定されず、少なくとも1.9の高屈折率及び1.7未満の低屈折率を有する任意の適した材料が、高屈折率を有する層及び低屈折率を有する層にそれぞれ使用されてもよいと理解すべきである。幾つかの例は、高屈折率及び低屈折率を有する絶縁材料、例えば、SiOx、TiOx、NbOx、SiNx、SiOxNy、AlOx、AlOxNy、TaOx、ポリマー材料などの有機材料、及びそれらの組合せとすることができる。
幾つかの実施態様では、高屈折率及び低屈折率を有する材料の消光係数は、小さい可能性がある。屈折率及び消光係数は、それぞれ複雑な屈折率の実数部及び虚数部である。特に、光が媒体を通過するとき、その一部が吸収されるだろう。これは、複雑な屈折率をn+ikに等しいと定義することによって説明できる。実数部「n」が位相速度を示す一方で、虚数部「ik」は、電磁波が材料内を伝搬するときの吸収損失の量を示す。
材料又は光学媒体の「屈折率(refractive index又はindex of refraction)」nという用語は、どのように光又は任意の他の放射が材料内を伝搬するかを説明する無次元数である。cが真空における光の速度であり、vが材料における光の速度である場合、n=c/vと定義される。
幾つかの実施形態によれば、本開示の最適化された層システムにより、NONO/NONONO設計の透過率は、例えばコーティングされていないPETの透過率を超えて高めることができる。最適化されていないNONON/NONONON設計と比較して、(絶対)透過率利得は、約4%から約6%の範囲とすることができる(例えば、透過率(Ty)を約88%から約92−94%に増加させる)。コントラスト/色の差は、b<0.3(1976年に国際照明委員会(CIE)によって定義されたb値)であり得る。
図1A−1Cは、本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックを示す。幾つかの実施形態によれば、本発明の実施形態の層スタックは、積み重ねて形成された(例えば、堆積によって)幾つかの膜で構成される。
図1Aには、本開示の実施形態によるバリア層スタック10が図示されている。バリア層スタック10は、この順で配置されている第1の層11、第2の層12、第3の層13、及び第4の層14を含む。第1の層11及び第3の層13は、少なくとも1.9の屈折率を有しており、第2の層12及び第4の層14は、1.7未満の屈折率を有している。層11−14の各々は、少なくとも70nmの厚さを有している。
少なくとも1.9の屈折率を有する第1の層11及び第3の層13、1.7未満の屈折率を有する第2の層12及び第4の層14、並びに少なくとも70nmの厚さを有する層11−14の各々は、組み合わせたバリア機能及び反射防止機能を有するバリア層スタックを提供する。
本明細書の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、バリア層スタックは、第4の層14の上に、一又は複数の更なる層、特に、図1B及び図1Cにそれぞれ示されるような第5の層及び第6の層を含むことができる。
図1Bには、本開示の実施形態によるバリア層スタック20が図示されている。バリア層スタック20は、図1のバリア層スタック10と類似しており、それらの違いは、第5の層15が第4の層14の上に配置されていることである。
図1Cには、本開示の実施形態によるバリア層スタック30が図示されている。バリア層スタック30は、図1Bのバリア層スタック20と類似しており、それらの違いは、第6の層16が第5の層15の上に配置されていることである。
いくつかの実施態様では、奇数の層が少なくとも1.9の屈折率を有しており、偶数の層が1.7未満の屈折率を有している。本明細書全体を通して使用される「偶数」及び「奇数」という用語は、数学におけるパリティ、即ち、整数が2で割り切れる場合には偶数、割り切れない場合には奇数であることを指している。例として、奇数の層は、第1、第3、第5などの層であり、偶数の層は、第2、第4、第6などの層であり得る。
少なくとも1.9の屈折率を有する奇数の層、1.7未満の屈折率を有する偶数の層、及び少なくとも70nmの厚さを有する層の各々は、組み合わせたバリア機能及び反射防止機能を有するバリア層スタックを提供する。
第1から第6の層、即ち、本適用で言及された奇数の層及び偶数の層は、バリア機能及び反射防止機能を提供する層、要するに、少なくとも1.9の屈折率又は1.7未満の屈折率及び少なくとも70nmの厚さを有する層である。したがって、番号付与は、シード層、ハードコーティング、接着層など、更に提供され得る任意の他の層を除外する。
幾つかの実施態様では、バリア層スタックの水蒸気透過度(WVTR:g/cm/dayを単位とする)及び/又は酸素透過度(OTR)は、10−4、特に10−5未満、より具体的には約10−6である。バリア層スタックの透過率は、少なくとも85%であり、特に90%を超えるとすることができる。例として、少なくとも4つの層及び基板を含むバリア層スタックは、87%から95%の範囲、特に88%又は89%、より具体的には93%又は94%の透過率を有し得る。
例として、奇数の層は、少なくとも約1.9、特に約2の屈折率を有することができる。偶数の層は、1.7未満の屈折率、特に1.5未満の屈折率、より具体的には約1.46の屈折率を有することができる。幾つかの実施形態によれば、バリア層スタックの偶数の層が、SiNx、NbOx、SiN、SiOxNy、AlOx、AlOxNy、TiOx TaOx、ポリマー材料などの有機材料、及び/若しくはそれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを含み、並びに/又はバリア層スタックの偶数の層が、SiOx、MgFx、SiOxNy、ポリマー材料などの有機材料、及び/又はそれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを含む。
例として、第1の層11、例えば、第1の誘電体層は、高い屈折率を有することができる。層に交互の又は異なる屈折率を連続的に提供することによって、反射防止特性も有しているバリア層スタックを提供することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、より低い屈折率を有する層(例えば、偶数の層)は、SiOx、MgFx、SiOxNy、ポリマー材料などの有機材料、及び/又はそれらの組み合わせ若しくはそのようなものを含む層によって提供することができる。例えば、より高い屈折率を有する層(例えば、奇数の層)は、NbOx、SiNx、SiN、SiOxNy、AlOx、AlOxNy、TiOx TaOx、ポリマー材料などの有機材料、及び/又はそれらの組み合わせ若しくはそのようなものを含む膜によって提供することができる。
幾つかの実施態様によれば、層(例えば、誘電体膜)は、化学気相堆積又は物理気相堆積、例えば、スパッタリング又は蒸発によって、製造することができる。幾つかの例は、高屈折率及び低屈折率を有する絶縁材料、例えば、SiOx、SiN、TiOx、NbOx、SiNx、SiOxNy、AlOx、AlOxNy、TaOx、ポリマー材料などの有機材料、及び/又はそれらの組合せとすることができる。
本明細書の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、層の少なくとも1つは、100nmを超える厚さを有している。例として、奇数の層の各々の厚さは、偶数の層の各々の厚さ未満である。
幾つかの実施形態では、4つの層を有するバリア層スタックは、例えば、図1Aに示さるように、提供される。第1の層11は、例えば約141nmなど、139nmから143nmの厚さを有し得、第2の層12は、例えば約171nmなど、169nmから173nmの厚さを有し得、第3の層13は、例えば約94nmなど、92nmから96nmの厚さを有し得、第4の層14は、例えば約78nmなど、76nmから80nmの厚さを有し得る。幾つかの実施態様では、第1の層11及び第3の層13は、SiNxを含むかSiNxから作られ得、第2の層12及び第4の層14は、SiOを含むかSiOから作られ得る。バリア層スタックの水蒸気透過度(WVTR)は、10−5未満、特に約10−6とすることができる。バリア層スタックの透過率は、約94%、特に約400nmから700nmの波長範囲とすることができる。
幾つかの実施形態では、5つの層を有するバリア層スタックは、例えば、図1Bに示さるように、提供される。第1の層11は、例えば約140nmなど、138nmから142nmの厚さを有し得、第2の層12は、例えば約165nmなど、163nmから167nmの厚さを有し得、第3の層13は、例えば約122nmなど、120nmから124nmの厚さを有し得、第4の層14は、例えば約157nmなど、155nmから159nmの厚さを有し得、第4の層15は、例えば約116nmなど、114nmから118nmの厚さを有し得る。幾つかの実施態様では、第1の層11及び第3の層13及び第5の層15は、SiNxを含むかSiNxから作られ得、第2の層12及び第4の層14は、SiOを含むかSiOから作られ得る。バリア層スタックの水蒸気透過度(WVTR)は、10−5未満、特に約10−6とすることができる。バリア層スタックの透過率は、特に約400nmから700nmの波長範囲において、約88%とすることができる。
他の実施態様では、第1の層11は、例えば約142nmなど、140nmから144nmの厚さを有し得、第2の層12は、例えば約171nmなど、169nmから173nmの厚さを有し得、第3の層13は、例えば約128nmなど、126nmから130nmの厚さを有し得、第4の層14は、例えば約162nmなど、160nmから164nmの厚さを有し得、第5の層15は、例えば約139nmなど、137nmから141nmの厚さを有し得る。幾つかの実施態様では、第1の層11及び第3の層13及び第5の層15は、SiNxを含むかSiNxから作られ得、第2の層12及び第4の層14は、SiOを含むかSiOから作られ得る。バリア層スタックの水蒸気透過度(WVTR)は、10−5未満、特に約10−6とすることができる。バリア層スタックの透過率は、約88%から約92%の範囲、特に約400nmから700nmの波長範囲とすることができる。
幾つかの実施形態では、6つの層を有するバリア層スタックは、例えば、図1Cに示さるように、提供される。第1の層11は、例えば約139nmなど、137nmから141nmの厚さを有し得、第2の層12は、例えば約162nmなど、160nmから164nmの厚さを有し得、第3の層13は、例えば約116nmなど、114nmから118nmの厚さを有し得、第4の層14は、例えば約156nmなど、154nmから158nmの厚さを有し得、第5の層15は、例えば約87nmなど、85nmから89nmの厚さを有し得、第6の層16は、例えば約77nmなど、75nmから79nmの厚さを有し得る。幾つかの実施態様では、第1の層11及び第3の層13及び第5の層15は、SiNxを含むかSiNxから作られ得、第2の層12、第4の層14及び第6の層16は、SiOを含むかSiOから作られ得る。バリア層スタックの水蒸気透過度(WVTR)は、10−5未満、特に約10−6とすることができる。バリア層スタックの透過率は、約94%、特に約400nmから700nmの波長範囲とすることができる。
本明細書の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、層は、互いの上に形成又は配置される。図1A−図1Cの例では、第2の層12は、第1の層11の上に形成又は配置され、第3の層13は、第2の層12の上に形成又は配置され、第4の層14は、第3の層13の上に形成又は配置される。
例として、「〜の上に(over)」という用語に言及する場合、即ち、1つの層が他の層の上にあるとうような場合には、第1の層11から始まり、第2の層12が第1の層11の上に堆積し、第2の層12の後に堆積する更なる層は、したがって第2の層1の上及び第1の層11の上にあると理解される。換言すれば、「〜の上に」という用語は、起点が基板である場合の層、層スタック、及び/又は膜の順序を定義するために使用される。これは、バリア層スタックが上下逆に図示されているか否かに関わらない。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、層11−14の少なくとも幾つかは、互いに接して直接配設されている。図1Aの例では、第2の層12は、第1の層11に接して形成又は配置され、第3の層13は、第2の層12に接して形成又は配置され、第4の層14は、第3の層13に接して形成又は配置される。換言すれば、幾つかの実施形態では、バリア層スタックの層の間に、更なる層又は膜が存在しない。幾つかの他の実施形態では、バリア層スタックの層の少なくとも幾つかの間に、更なる層を提供することができる。
図2は、本明細書に記載の更なる実施形態によるバリア層スタック40を示す。
本明細書の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、バリア層スタック40は、基板41、特に透明な基板を更に含む。本明細書で使用する「基板」という用語は、特に、ウェブ又は箔などのフレキシブル基板を包含することができる。しかしながら、本開示は、それに限定されず、「基板」という用語はまた、フレキシブルでない基板、例えば、ウエハ、サファイア若しくはそのようなもの透明な結晶の切片、又はガラス板も包含し得る。
本明細書で使用する「透明な」という用語は、比較的低散乱で光を透過し、その結果、例えば、構造体を通して透過する光を実質的に明瞭に見ることができるような構造体の性能を特に含むことができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態では、基板が、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリ(メタクリル酸メチルエステル)(PMMA)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリ(エチレンナフタレート)(PEN)、及びそれらの組み合わせを含む群から選択された透明なポリマー材料を含む。例として、基板は、ポリエチレンテレフタラート(PET)を含む。PETは、約90%の透過率を有することができる。例えば、層11−14は、基板41に接して又は基板41の上に提供される。
図2では、4つの層11−14が基板41の上に配置されるが、本実施形態は、それに限定されない。例えば、図1A−1Cを参照して先ほど説明されたように、任意の数の層を基板の上に配置することができる。
本実施形態の態様によれば、超高バリア(UHB)層及び反射防止システムが提供される。超高バリア(UHB)層及び反射防止システムは、基板、及び基板の上に層スタックを含む。層スタックは、図1A−1C及び図2を参照して先ほど説明されたバリア層スタックのどれか1つであり得る。層スタックは、特に、この順で配置されている第1の層、第2の層、第3の層、及び第4の層を含み得、第1の層及び第3の層は少なくとも1.9の屈折率を有しており、第2の層及び第4の層は1.7未満の屈折率を有しており、層の各々は、少なくとも70nmの厚さを有している。
図3は、本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックの反射率のグラフを示す。本明細書で使用される「反射率(reflectance)」という用語は、反射する放射電磁力の割合である。「反射率(reflectance)」という用語は、「反射率(reflectivity)」という用語と同義的に使用され得る。
図3では、グラフのy軸が反射率を%(パーセント)で示し、x軸が波長λ(ラムダ)をナノメートル(nm)単位で示す。参照番号50で示されるのが、コーティングされていないPET基板の反射率(約5%)である。参照番号51で示されるのが、4つの層(NONO)を有する本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックの反射率であり、約420nmから約680nmの範囲で1%未満である。参照番号52は、6つの層(NONONO)を有する本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックの反射率を示し、また約420nmから約680nmの範囲で1%未満である。
例えば、 基板に材料を堆積させるための方法は、物理気相堆積(PVD)プロセス、化学気相堆積(CVD)プロセス、プラズマ化学気相堆積(PECVD)プロセスなどを含み得る。 例として、プロセスは、コーティングすべき基板が配置される処理装置や処理チャンバ内で実行される。装置内には、堆積材料が供給される。その酸化物、窒化物、又は炭化物などの複数の材料が、堆積に使用され得る。更に、エッチング、構造化、アニーリング又はそのようなものなどの他の処理ステップを処理チャンバ内で実施することができる。
図4は、本明細書に記載の実施形態による層を堆積させる又はコーティングするための、特に本明細書に記載の実施形態によるバリア層スタックを製造するための、例えば、ロールツーロール堆積装置などの装置100の概略図を示す。
装置100は、少なくとも3つのチャンバ部分102A、102B及び102Cを含むことができる。チャンバ部分102Cでは、一又は複数の堆積源630及び任意選択的にエッチングステーション430を処理ツールとして提供することができる。例えばフレキシブル基板などの基板41は、例えば、巻軸を有するなどの第1のロール764上に提供される。フレキシブル基板は、矢印108で示される基板の移動方向によって示されるように、ロール764から巻き出される。分離壁401は、チャンバ部分102Aと102Bとを分離するように提供される。分離壁401には、基板41を通過させるための間隙スルース140を更に提供することができる。チャンバ部分102Bと102Cとの間に提供される真空フランジ112には、最後に幾つかの処理ツールを受容するための開口を提供することができる。
基板41は、コーティングドラム110に提供され、堆積ソース630の位置に対応する堆積エリアを通って移動する。操作中に、コーティングドラム110は、基板41が矢印108の方向に移動するように、軸周囲を回転する。幾つかの実施形態によれば、基板41は、1つ、2つ又はそれ以上のローラを介して、ロール764からコーティングドラム110まで、及びコーティングドラム110から第2のロール764’まで案内され、第2のロール764’は、例えば、基板41がその処理後に巻かれる巻軸を有している。
幾つかの実施形態によれば、堆積源630は、層スタックの層を堆積させるように構成することができる。例として、少なくとも1つの堆積源630は、少なくとも1.9の屈折率を有する層材料堆積のために適合することができ、少なくとも1つの堆積源630は、1.7未満の屈折率を有する層材料堆積のために適合することができる。
幾つかの実施態様では、第1の堆積源は、第1の層を堆積させるように構成することができ、第2の堆積源は、第2の層を堆積させるように構成することができ、第3の堆積源は、第3の層を堆積させるように構成することができ、第4の堆積源は、第4の層を堆積させるように構成することができる。
幾つかの実施態様では、第1のチャンバ部分102Aは、間紙チャンバ部分ユニット102Aと基板チャンバ部分ユニット102A2で分離される。これによって、間紙ロール766/766’及び間紙ローラ105は、装置100のモジュラー要素として提供することができる。装置100は、フレキシブル基板を加熱するための予熱ユニット194を更に含むことができる。更に又は代替的には、RF(高周波)プラズマ源などの前処理プラズマ源192は、チャンバ部分102Cへの侵入前に基板をプラズマで処理するために提供することができる。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるまた更なる実施形態によれば、任意選択的にまた、基板処理の結果を評価するための光学的測定ユニット494及び/又は電荷を基板上に適合するための一又は複数のイオン化ユニット492を提供することができる。
幾つか実施形態によれば、堆積材料は、堆積プロセスおよびコーティングされた基板のその後の用途によって選択され得る。例えば、堆積源630の堆積材料は、ケイ素であり得る。例として、このような材料を含むことができる酸化物、窒化物又は炭化物の層を、材料源から材料を供給することによって、又は反応性堆積、即ち、材料源からの材料が処理ガスからの酸素、窒化物又は炭素のような要素と反応することによって、堆積させることが可能である。
本開示の態様に従い、かつ図4に示されるように、バリア層スタックを製造するための方法700が提供される。方法は、少なくとも4つの層を形成するために、第1の層材料及び第2の層材料を基板上に交互に堆積させることを含み得る。第1の層材料は、少なくとも1.9の屈折率を有しており、第2の材料層は、1.7未満の屈折率を有しており、層の各々は、少なくとも70nmの厚さを有している。第5の層は、例えば、基板に接して堆積され得る(ブロック701)。次いで、第2の層は、第1の層に接して又は第1の層の上に堆積され得る(ブロック702)。その後、第3の層は、第2の層に接して又は第2の層の上に堆積され得る(ブロック703)。第4の層は、第3の層に接して又は第3の層の上に堆積され得る(ブロック704)。
図4の本実施例では4つの層が互いの上に配置されるが、本実施形態は、それに限定されない。例えば、図1A−1C及び図2を参照して先ほど説明されたように、任意の数の層を配置することができる。
以上の説明は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲を逸脱することなく本開示の他の更なる実施形態を考案することができ、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって定められる。

Claims (15)

  1. この順で配置されている第1の層、第2の層、第3の層、及び第4の層を含み、
    前記第1の層及び前記第3の層が、少なくとも1.9の屈折率を有しており、
    前記第2の層及び前記第4の層が、1.7未満の屈折率を有しており、
    前記層の各々が、少なくとも70nmの厚さを有しているバリア層スタック。
  2. 前記第4の層の上に一又は複数の更なる層、特に第5の層又は第5の層及び第6の層を更に含む、請求項1に記載のバリア層スタック。
  3. 前記層が互いに接して直接配設される、請求項1又は2に記載のバリア層スタック。
  4. 奇数の層が少なくとも1.9の屈折率を有しており、偶数の層が1.7未満の屈折率を有している、請求項1から3の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  5. 奇数の層が約2の屈折率を有している、請求項1から4の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  6. 偶数の層が1.6未満、特に約1.46の屈折率を有している、請求項1から5の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  7. 前記バリア層スタックの奇数の層が、SiNx、NbOx、SiN、SiOxNy、AlOx、AlOxNy、TiOx TaOx、有機材料、特にポリマー材料、及びそれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを含み、及び/又は前記バリア層スタックの偶数の層が、SiOx、MgFx、SiOxNy、有機材料、特にポリマー材料、及びそれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを含む、請求項1から4の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  8. 前記層の少なくとも1つが100nmを超える厚さを有しており、特に、100nmから300nmの範囲の厚さを有している、請求項1から7の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  9. 奇数の層の各々の厚さが、偶数の層の各々の厚さ未満である、請求項1から8の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  10. 前記バリア層スタックの水蒸気透過度が、10−4未満、特に10−5未満、具体的には約10−6である、請求項1から9の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  11. 前記バリア層スタックの透過率が、少なくとも85%であり、特に90%を超える、請求項1から10の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  12. 基板を更に含み、前記層が前記基板の上に提供される、請求項1から11の何れか一項に記載のバリア層スタック。
  13. 前記基板が、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラート、ポリ(メタクリル酸メチルエステル)、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー、ポリ(エチレンナフタレート)、及びそれらの組み合わせを含む群から選択された透明なポリマー材料を含む、請求項12に記載のバリア層スタック。
  14. 少なくとも4つの層を形成するために、第1の層材料及び第2の層材料を基板に接して交互に堆積させること
    を含み、
    前記第1の層材料が、少なくとも1.9の屈折率を有しており、
    前記第2の層材料が、1.7未満の屈折率を有しており、
    前記層の各々が、少なくとも70nmの厚さを有している、バリア層スタックを製造するための方法。
  15. 基板と、
    前記基板の上に層スタックと
    を含み、前記層スタックが、
    この順で配置されている第1の層、第2の層、第3の層、及び第4の層を含み、
    前記第1の層及び前記第3の層が、少なくとも1.9の屈折率を有しており、
    前記第2の層及び前記第4の層が、1.7未満の屈折率を有しており、
    前記層の各々が少なくとも70nmの厚さを有している、超高バリア層及び反射防止システム。
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