JP2007223101A - 積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
プラスチック基材上の少なくとも片側に少なくともスパッタリング法および真空蒸着法のそれぞれを用いた2層以上のセラミック薄膜が形成された積層体において、スパッタリング法で形成したセラミック薄膜の相対密度(かさ密度/理論密度)が95%以下であることを特徴とする積層体。
【選択図】図1
Description
ミック薄膜層のクラックと言ったミクロ的な破壊を抑制することができる。
カーボンやパーフルオロシラン等が挙げられる。さらに、これらの高分子化合物等が適している。
透明プラスチック基材にPETフィルム188μm原反を用い、紫外線硬化性のアクリル系ハードコート層を10μmの膜厚でマイクログラビアを用いて塗布した。次に巻取式真空装置内で、密着性向上層としてSiOx(x<2)を膜厚5nm成膜した後に、所定の膜厚でスパッタリング法によりITOを、真空蒸着法によりSiO2を交互に2回繰り返し積層し、合計4層のセラミック薄膜を形成した。さらに、防汚層としてフルオロアルキルシラン7nmを塗布形成し、導電層付き反射防止積層体を作製した。なお、ITO成膜において、所定の割合でArとO2を混合したのち、真空ポンプのバルブのコンダクタンスを小さくし、成膜室内の圧力を2Paとして成膜した。
実施例1において、真空ポンプのバルブのコンダクタンスを小さくし、成膜室内の圧力を0.5Paとして成膜した以外は実施例1と同様にして反射防止積層体を作製した。
実施例1と比較例1で成膜したそれぞれの、積層体のITOの密度をXRR(X線回析装置)で測定した結果、圧力が2.0Paで成膜したITOの密度は6.74g/cm3
(相対密度:93.9%)、圧力が0.5Paで成膜したITOの密度は7.06g/cm3(同98.3%)だった。
透明プラスチック基材にPETフィルム100μm原反を用い、巻取式真空装置内で真空蒸着法によりSiOx(x=1.7)バリア膜を20nm、さらにスパッタリング法によりITOを60nm成膜し、導電膜付きバリアフィルム積層体を作製した。なお、ITO成膜において、所定の割合でArとO2を混合したのち、真空ポンプのバルブのコンダクタンスを小さくし、成膜室内の圧力を2.0Paとして成膜した。
実施例2において、真空ポンプのバルブのコンダクタンスを小さくし、成膜室内の圧力を1.1Paとして成膜した以外は実施例1と同様にして反射防止積層体を作製した。
実施例2と比較例2で成膜したそれぞれの、積層体のITOの密度をXRR
で測定した結果、圧力が2.0Paで成膜したITOの密度は6.74g/cm3(相対密度:93.9%)、圧力が1.1Paで成膜したITOの密度は6.95g/cm3(同96.7%)だった。
2…プラスチック基材
3…真空蒸着法により成膜したセラミック薄膜
4…スパッタリングにより成膜したセラミック薄膜
5…密着性向上層
6…ハードコート層
7…防汚層
8…粘着層
10…巻取式積層体製造装置
11a…巻出し/巻取りロール
11b…巻出し/巻取りロール
12a…製膜室
12b…製膜室
12c…製膜室
13…プラスチック基材
14…コーティングドラム
15…ガイドローラ
31…真空蒸着法により成膜したセラミック薄膜
32…真空蒸着法により成膜したセラミック薄膜
41…スパッタリングにより成膜したセラミック薄膜
42…スパッタリングにより成膜したセラミック薄膜
Claims (8)
- プラスチック基材上の少なくとも片側に少なくともスパッタリング法および真空蒸着法のそれぞれを用いた2層以上のセラミック薄膜が形成された積層体において、スパッタリング法で形成したセラミック薄膜の相対密度(かさ密度/理論密度)が95%以下であることを特徴とする積層体。
- 前記セラミック薄膜が形成された積層体は高屈折率セラミック薄膜と低屈折率セラミック薄膜を組み合わせて積層され、光学機能を有することを特徴とする請求項1記載の積層体。
- 前記セラミック薄膜の少なくとも1層が導電性を有するセラミック薄膜であることを特徴とする請求項1又は2記載の積層体。
- 前記セラミック薄膜の密着性を向上させる目的で該セラミック薄膜形成前に密着性向上層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の積層体。
- プラスチック基材の少なくとも片側にハードコートが形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の積層体。
- 前記積層体の少なくとも片側の最表面に防汚および/あるいは易滑層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の積層体。
- 前記積層体の少なくとも片面に粘着層あるいは接着層が形成され、他のデバイスに貼り付けることにより、機能性付与が可能であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の積層体。
- 前記セラミック薄膜積層体がロールツウロールにより搬送されるフィルム基材上に形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載の積層体。
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JP2000052492A (ja) * | 1998-08-12 | 2000-02-22 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体、光学機能性積層体、および表示装置 |
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