JP2003151761A

JP2003151761A - 有機ｅｌ素子を含む発光素子およびそれを用いた光インターコネクション装置

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Publication number: JP2003151761A
Application number: JP2001349094A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Omori; 裕大森; Hiromu Kajii; 博武梶井
Original assignee: Osaka Industrial Promotion Organization
Current assignee: Osaka Industrial Promotion Organization
Priority date: 2001-11-14
Filing date: 2001-11-14
Publication date: 2003-05-23

Abstract

(57)【要約】【課題】単色性および指向性がよい光を発光し、素子
寿命が長い発光素子、およびそれを用いた光インターコ
ネクション装置を提供する。【解決手段】有機ＥＬ素子１１０を含み、波長λをピ
ークとする光を発する発光素子であって、有機ＥＬ素子
１１０を挟むように配置された第１および第２の反射膜
１２０および１３０を備え、第１および第２の反射膜１
２０および１３０から選ばれる少なくとも１つの反射膜
が多層膜であり、第１および第２の反射膜１２０および
１３０が、発光のスペクトルを制御する機能と、有機Ｅ
Ｌ素子１１０を外気から保護する機能とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬ素子を用
いた発光素子およびそれを用いた光インターコネクショ
ン装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＩＴ（Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ
Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）革命が急速に進展する中で、情
報処理を高速に行うことが可能な光情報処理回路の開発
が進められている。光情報処理回路を用いた製品のさら
なる小型・軽量化、および取り扱い易さの向上のために
は、可撓性を有する光情報処理回路を実現することが有
効である。

【０００３】このような可撓性を有する光情報処理回路
を実現するため、ポリマー光導波路フィルムが提案され
ている（疋田：「有機光導波路素子」、電子情報通信学
会誌，Vol.81, No.1, pp.37-40, 1998）。しかし、発光
素子や受光素子などの能動素子が無機の半導体からなる
場合には、能動素子を形成する際に基板を高温に加熱す
る必要があるため、ポリマー光導波路フィルム上にこれ
らの能動素子を直接形成することが困難であった。

【０００４】このような問題を解決するため、可撓性を
有するポリマー光導波路上に、低温で形成が可能な有機
ＥＬ素子を光源とする光集積回路を作製する試みがなさ
れている（Y. Ohmori, M. Hikita, H. Kajii, T. Tsuka
gawa, K. Yoshino, M. Ozaki, A. Fujii, S. Tomaru, "
Organic EL diode with waveguide devices"、S. Imamu
ra, H. Takenaka, J. Kobayashi, and F. Yamamoto, "O
rganic electroluminescent diodes as a light source
for polymeric waveguides: toward organicintegrate
d optical devices, Thin Solid Films, vol. 393, pp.
267-272, 2001参照）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
有機ＥＬ素子はディスプレーの光源などに用いるために
開発されていたため、発光のスペクトルが広く単色性に
欠けていた。このため、ある特定の波長を得るためには
フィルターを用いる必要があった。また、有機ＥＬ素子
は、空気中の水蒸気や酸素などのガスを吸着すると発光
輝度などの特性が低下するという問題があり、素子の寿
命を長くするためには、有機ＥＬ素子を外気から遮断す
る必要があった。

【０００６】このような状況に鑑み、本発明は、単色性
がよい光を発光し素子寿命が長く製造が容易な有機ＥＬ
素子、およびそれを用いた光インターコネクション装置
を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の発光素子は、有機ＥＬ素子を含み、波長λ
をピークとする光を発する発光素子であって、前記有機
ＥＬ素子を挟むように配置された第１および第２の反射
膜を備え、前記第１および第２の反射膜から選ばれる少
なくとも１つの反射膜が多層膜であり、前記第１および
第２の反射膜が、前記光のスペクトルを制御する機能
と、前記有機ＥＬ素子を外気から保護する機能とを有す
ることを特徴とする。

【０００８】上記発光素子では、前記多層膜が、同じ数
だけ交互に積層された第１および第２の層からなり、前
記第１の層の屈折率と前記第２の層の屈折率とが異な
り、前記第１の層の光路長および前記第２の層の光路長
は、それぞれ、前記波長λの４分の１であることが好ま
しい。この構成によれば、波長λの光の発光強度、単色
性および指向性が特に高い発光素子が得られる。

【０００９】上記発光素子では、前記第１および第２の
反射膜に挟まれた前記有機ＥＬ素子の光路長が、λ・ｍ
／２（ｍは１以上の整数）であることが好ましい。この
構成によれば、第１および第２の反射膜間で生じる干渉
によって選択波長の光が減衰することを抑制できる。

【００１０】上記発光素子では、前記第１および第２の
層から選ばれる少なくとも１つの層が、前記有機ＥＬ素
子の特性を劣化させるガスを遮断する材料からなること
が好ましい。この構成によれば、寿命が特に長い発光素
子が得られる。

【００１１】また、本発明の光インターコネクション装
置は、ポリマーからなる光導波路基板と前記光導波路基
板上に形成された発光素子とを備える光インターコネク
ション装置であって、前記発光素子が、上記本発明の発
光素子であることを特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。

【００１３】（実施形態１）実施形態１では、本発明の
発光素子について説明する。実施形態１の発光素子１０
０について、断面図を図１に示す。

【００１４】図１を参照して、発光素子１００は基板２
００上に形成されている。そして、発光素子１００は、
有機ＥＬ素子１１０と、有機ＥＬ素子１１０を挟むよう
に有機ＥＬ素子１１０の両側に配置された第１の反射膜
１２０と第２の反射膜１３０とを備える。発光素子１０
０は、特定の波長λをピークとする光を選択的に出射す
る。以下、発光素子１００が出射するように選択された
光のピーク波長を「選択波長」という場合がある。

【００１５】基板２００は、ポリマー製の光導波路基板
である。基板２００は、屈折率が大きなコア層と、屈折
率が小さなクラッド層とを含むポリマーを用いて形成で
きる。

【００１６】有機ＥＬ素子１１０には、従来の一般的な
有機ＥＬ素子を用いることができる。図１には、一例と
して、陰極１１１、電子注入層１１２、電子輸送層１１
３、発光層１１４、正孔輸送層１１５、正孔注入層１１
６および陽極１１７が積層された有機ＥＬ素子１１０を
示している。有機ＥＬ素子１１０の各層の厚さは、第１
の反射膜１２０と第２の反射膜１３０との間の光路長
（有機ＥＬ素子１１０の光路長）が、選択波長λ（共振
波長）に対して、λ・ｍ／２（ｍは１以上の整数）とな
るように調整することが好ましい。有機ＥＬ素子１１０
は、有機分子線蒸着法によって形成できる。なお、図１
に示した有機ＥＬ素子の構造は一例であり、他の構造の
有機ＥＬ素子を用いてもよい。

【００１７】第１の反射膜１２０と第２の反射膜１３０
は、ともに多層構造を有する多層反射膜である。第１お
よび第２の反射膜１２０および１３０によって構成され
るミラー構造は、発光素子から出射される光のスペクト
ルを制御する機能と、有機ＥＬ素子を外気から保護する
機能とを有する。以下、反射膜の具体的な構成について
説明する。

【００１８】第１の反射膜１２０は、同じ数だけ交互に
積層された第１の層１２１と第２の層１２２とからな
る。同様に、第２の反射膜１３０は、同じ数だけ交互に
積層された第１の層１３１と第２の層１３２とからな
る。第１および第２の層１２１および１２２、ならびに
第１および第２の層１３１および１３２は、それぞれ、
たとえば２層〜１００層（１ペア〜５０ペア）積層され
る。理論的には、これらの層の積層数が多いほどミラー
構造の波長選択性は向上するが、光の散乱、吸収がある
ために最適な積層数が存在する。酸化シリコンからなる
第１の層１２１と窒化シリコンからなる第２の層１２２
とを用い、選択波長を５２０ｎｍとした場合には、最適
な積層数は１０層〜１２層（５ペア〜６ペア）であっ
た。第１および第２の反射膜１２０および１３０の厚さ
は、それぞれ、基板２００の可撓性を損なわない厚さで
あることが好ましく、たとえば１μｍ〜５０μｍの範囲
内である。

【００１９】第１および第２の層１２１および１２２、
ならびに第１および第２の層１３１および１３２は、と
もに選択波長λに対して透明な材料、すなわち、選択波
長λにおける光吸収係数が小さい材料からなる。また、
第１の層１２１の屈折率と第２の層１２２の屈折率は異
なり、第１の層１３１の屈折率と第２の層１３２の屈折
率とは異なる。第１の反射膜１２０を構成する２つの層
は異なる材料によって形成され、第２の反射膜１３０を
構成する２つの層は異なる材料によって形成される。な
お、第１の反射膜１２０を構成する層と第２の反射膜１
３０を構成する層とは同じ材料で形成しても異なる材料
で形成してもよい。第１および第２の層１２１および１
２２、ならびに第１および第２の層１３１および１３２
は、それぞれ、光路長が選択波長の４分の１倍となるよ
うに屈折率（材料）および厚さが選ばれる。

【００２０】第１および第２の層１２１および１２２、
ならびに第１および第２の層１３１および１３２は、そ
れぞれ、シリコン、チタン、マグネシウム、リチウム、
アルミニウムおよびガリウムといった金属または半導体
の、酸化物、窒化物またはフッ化物で形成できる。具体
的には、たとえば、ＳｉＯ₂、ＳｉＮ、ＴｉＯ₂、Ｔｉ
Ｎ、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ
₃Ｎ₄、Ｔａ₂Ｏ₅、ＰｂＯ、ＳｒＯ、ＣａＦ₂、ＩＴＯ、
ＺｎＯなどを用いて形成できる。ここで、第１および第
２の層から選ばれる少なくとも１つの層は、有機ＥＬ素
子１１０の寿命を長く保つために、外気中の水分、酸
素、窒素化合物、硫化化合物などを遮断する材料によっ
て形成されることが好ましい。特に、有機ＥＬ素子１１
０の特性を劣化させるガス（たとえば水蒸気や酸素ガ
ス）を遮断する材料で各層を形成することが好ましく、
窒化シリコン層と酸化シリコン層の積層膜が好ましい。
保護膜としての機能は、単一の材料では効果が少ない
が、異なる材料からなる層を積層することによって高い
効果が得られる。たとえば、酸化シリコン層のみで保護
膜を形成した場合と比較して、酸化シリコン層と窒化シ
リコン層の積層膜を用いることによって、保護膜として
の効果が約３倍に増加する。

【００２１】なお、本発明の発光素子では、有機ＥＬ素
子の透明導電膜（電極）が、多層反射膜の１つの層を兼
ねてもよい。ここで、本明細書では有機ＥＬ素子の外側
に反射膜が形成されていると説明しているが、透明導電
膜のうち注入層と接触している面が電極として機能し、
それ以外の部分が反射膜の一部として機能すると考える
ことができる。

【００２２】以上のように説明した本発明の発光素子１
００では、有機ＥＬ素子１１０の発光層１１４から出射
された光は、第１および第２の反射膜１２０および１３
０によって構成されるミラー構造で選択波長の光が増強
され、ポリマー光導波路基板である基板２００に導かれ
る。この発光素子１００では、ミラー構造によって、選
択波長λをピークとする発光の単色性を高くでき（すな
わち、発光スペクトルをシャープにでき）、選択波長λ
における発光強度を高くできる。また、本発明の発光素
子１００では、ミラー構造によって、指向性が高い光を
出射することができる。さらに、発光素子１００では、
第１および第２の反射膜１２０および１３０をスパッタ
リング法などの低温プロセスで形成できるため、ポリマ
ー製の基板上に形成でき、光情報処理回路の光源として
好適である。

【００２３】さらに、本発明の発光素子では、発光波長
をミラー構造によって選択することによって、同じ有機
ＥＬ素子からピーク波長が異なる複数の光を発生するこ
とができ、波長多重伝送の光源に使用することができ
る。これは、たとえば、有機ＥＬ素子に、選択波長が異
なる反射膜を複数形成することによって達成できる。一
例として、傾斜した膜厚分布を作り、場所によって選択
波長が異なる共振器ミラーとすることができる。

【００２４】なお、本発明の発光素子では、有機ＥＬ素
子を挟むように配置された２つの反射膜のうち、少なく
とも１つの反射膜が多層膜であればよく、一方の反射膜
には金属からなる単一の反射膜を用いてもよい。たとえ
ば、図１の発光素子１００において、第２の反射膜１３
０を金属反射膜としてもよい。また、陰極１１１を金属
で形成し、陰極が反射膜を兼ねてもよい。金属からなる
陰極１１１は、たとえばアルミニウム合金やマグネシウ
ム合金で形成できる。このような陰極１１１は、真空蒸
着法によって形成できる。この場合、陰極１１１を除く
有機ＥＬ素子１１０の光路長が、選択波長λに対してλ
・ｍ／２（ｍは１以上の整数）となるように有機ＥＬ素
子１１０の各層の材料および厚さを選択することが好ま
しい。また、この場合には、反射膜ではない保護膜をさ
らに形成するか、素子全体を外気から保護する構造とす
ることが好ましい。

【００２５】（実施形態２）実施形態２では、本発明の
光インターコネクション装置について説明する。実施形
態２の光インターコネクション装置は、実施形態１の発
光素子１００と、ポリマー光導波路基板である基板２０
０と、受光素子とを含み、さらに必要に応じてコネクタ
ーにより外部の光ファイバーを介して、外部の装置と光
信号で情報伝達を行う装置を含む。本発明の光インター
コネクション装置は、ＣＰＵや画像処理チップなどの演
算処理回路素子、演算処理回路素子を搭載したボードな
どからの電気信号を光信号に変換し、光ファイバーを介
して外部装置と接続するための装置である。

【００２６】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に
説明する。この実施例では、本発明の発光素子を作製し
た一例について、図１を参照しながら説明する。

【００２７】まず、ポリマー光導波路基板である基板２
００上の一部に、反射膜１３０を形成した。具体的に
は、酸化シリコン（屈折率ｎ＝１．４６）からなる層
（厚さ：９６ｎｍ）と、窒化シリコン（ｎ＝２．０４）
からなる層（厚さ：６８ｎｍ）とを１０層ずつ、基板２
００側から酸化シリコン／窒化シリコンという順序で交
互に積層した。これらの層はスパッタリング法によって
形成した。

【００２８】次に、反射膜１３０上に有機ＥＬ素子１１
０を形成した。有機ＥＬ素子１１０の各有機分子層は有
機分子線蒸着法によって形成した。具体的には、１０^-5
Ｐａ程度の高真空中で有機分子を加熱して蒸発させ、物
理的なシャッターで蒸着量を制御することによって、所
望の厚さの有機分子層を形成した。また、有機ＥＬ素子
１１０の無機化合物層は、一般的な蒸着法やスパッタリ
ング法によって形成した。

【００２９】有機ＥＬ素子１１０は、反射膜１３０上
に、陽極１１７〜陰極１１１を順次積層することによっ
て形成した。以下、各層の具体的な構成について説明す
る。

【００３０】陽極１１７は、選択波長の光を透過させる
導電性の材料で形成でき、たとえばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕ
ｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で形成でき
る。ＩＴＯを用いる場合には、陽極１１１の厚さはたと
えば１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内である。この実施
例では、陽極１１７として、膜厚が３００ｎｍのＩＴＯ
膜を用いた。

【００３１】正孔注入層１１６は、たとえば銅フタロシ
アニンで形成できる。正孔注入層１１６の厚さは、たと
えば１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内である。この実施例
では、正孔注入層１１６として厚さ２０ｎｍの銅フタロ
シアニン層を用いた。

【００３２】正孔輸送層１１５は、たとえば、正孔輸送
性が高いジアミン誘導体で形成できる。具体的には、
４，４’−ｂｉｓ［Ｎ−（１−ｎａｐｈｔｙｌ）−Ｎ−
ｐｈｅｎｙｌ−ａｍｉｎｏ］−ｂｉｐｈｅｎｙｌ（α−
ＮＰＤ）や、Ｎ，Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−Ｎ，Ｎ’−
ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−１，１’−
ｂｉｐｈｅｎｙｌ−４，４’−ｄｉａｍｉｎｅ（ＴＰ
Ｄ）を用いることができる。正孔輸送層１１５の厚さ
は、たとえば１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内である。こ
の実施例では、正孔輸送層１１５として、厚さ３０ｎｍ
のα−ＮＰＤ層を用いた。

【００３３】発光層１１４は、希望する選択波長に応じ
た材料で形成される。ルブレン（Ｒｕｂｕｒｅｎｅ）ま
たは４−（ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−２−
ｍｅｔｈｙｌ−６−（ｐ−ｄｉｍｅｔｈｌａｍｉｎｏ
ｓｔｙｒｙｌ）−４Ｈ−ｐｙｒａｎ（ＤＣＭ）を体積分
率が０．１％〜１０％の範囲内となるようにＡｌｑ₃中
に分散させた発光層１１４を用いることによって、中心
波長が５５０ｎｍ〜６１０ｎｍの範囲内である黄色発光
が得られる。発光層１１４の厚さは、たとえば０．１ｎ
ｍ〜１００ｎｍの範囲内である。厚さを０．１ｎｍ以上
とすることによって高い発光効率が得られる。また、厚
さを１００ｎｍ以下とすることによって高い応答速度が
得られる。さらに、厚さを１０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲内
とすることによって発光効率および応答速度をともによ
り高くできる。分散させる色素分子の体積分率は、たと
えば０．０１％〜３０％の範囲内であり、１％〜１０％
の範囲内であることが好ましい。体積分率を０．０１％
〜３０％の範囲内とすることによって高い発光効率が得
られる。最適な体積分率は色素分子の種類によっても異
なるが、上記色素分子の場合には、体積分率を１％〜１
０％の範囲内とすることによって特に高い発光効率が得
られる。発光層１１４から出射される光のスペクトル
は、発光層１１４の材料を変化させることによって制御
できる。この実施例では、Ａｌｑ₃中に７体積％のルブ
レンを分散させた発光層（厚さ：３０ｎｍ）を用いた。

【００３４】電子輸送層１１３は、たとえばキノリノー
ル骨格を有する金属錯体（たとえば８−ｈｙｄｒｏｘｑ
ｕｉｎｏｌｉｎｅａｌｕｍｉｎｉｕｍ（Ａｌｑ₃）や
ｔｒｉｓ（４−ｍｅｔｈｙｌ−８−ｑｕｉｎｏｌｉｎｏ
ｌａｔｅ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ（III）（Ａｌｍｑ₃）な
ど）で形成できる。また、フェニレンオリゴマー（ｐ−
ｓｅｘｉｐｈｅｎｙｌなど）も電気伝導度が大きい輸送
層を形成する材料として用いることができる。電子輸送
層１１３の厚さは、たとえば１０ｎｍ〜２００ｎｍの範
囲内である。この実施例では、電子輸送層１１３とし
て、厚さ１０ｎｍのＡｌｑ₃層を用いた。

【００３５】電子注入層１１２は、陰極１１１と電子輸
送層１１３との間の電位障壁を小さくするための層であ
る。電子注入層１１２を形成することによって、発光開
始電圧を低下させることできる。電子注入層１１２の厚
さは、たとえば０．１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内である。
この実施例では、電子注入層１１２として、厚さ１ｎｍ
のフッ化リチウム層を用いた。このフッ化リチウム層を
形成することによって、３Ｖの電圧で有機ＥＬ素子を発
光させることができた。

【００３６】陰極１１１は、選択波長の光を透過させる
導電性の材料で形成でき、たとえばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕ
ｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で形成でき
る。ＩＴＯを用いる場合には、陰極１１１の厚さはたと
えば１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内である。また、陰
極１１１は、アルミニウムなどの金属からなる薄膜で形
成することもできる。この場合の陰極１１１の厚さは、
選択波長の光を透過させるために１０ｎｍ〜１００ｎｍ
の範囲内とする。この実施例では、陰極１１１として、
膜厚３００ｎｍのＩＴＯ膜を用いた。なお、反射膜１２
０を形成しない場合には、陰極１１１として、膜厚２０
０ｎｍのアルミニウム合金（１原子％のリチウムを混入
したアルミニウム）を用いることができる。

【００３７】上述したようにして有機ＥＬ素子１１０を
形成したのち、有機ＥＬ素子１１０上に反射膜１２０を
形成した。反射膜１２０は、酸化シリコン（ｎ＝１．４
６）からなる層（厚さ：９６ｎｍ）と、窒化シリコン
（ｎ＝２．０４）からなる層（厚さ：６８ｎｍ）とを１
０層ずつ、有機ＥＬ素子１１０側から酸化シリコン／窒
化シリコンという順序で交互に積層した。これらの層は
スパッタリング法によって形成した。

【００３８】このようにして、本発明の発光素子を作製
した。反射膜からなるミラー構造を形成しない場合に
は、有機ＥＬ素子からの発光スペクトルの半値幅は１５
０ｎｍ以上であった。これに対して、ミラー構造を形成
した本実施例の発光素子では、半値幅が１０ｎｍ以下に
なった。また、ピーク波長である５６０ｎｍにおける発
光強度は、ミラー構造がない場合に比べて１０倍以上に
増加した。

【００３９】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず本発明の技術的思想に基づき他の実施形態に適用する
ことができる。

【００４０】なお、反射膜を構成する層や有機ＥＬ素子
について本発明で規定している光路長は、５％程度のず
れがあっても本発明の効果は得られる。特に、反射膜を
構成する層の膜厚が設計値から小さくなる側に多少ずれ
ても本発明の効果が得られやすい。すなわち、これらの
光路長に多少のずれがあっても、本発明の効果が得られ
る限りそれらは誤差の範囲内であって本発明に含まれ
る。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の発光素子
は、無機の半導体ではなく有機ＥＬ素子を光源としてい
るため、ポリマー光導波路基板上に直接素子を形成する
ことができる。また、本発明の発光素子は、ピーク波長
の発光強度、単色性および指向性が高い光を出射するこ
とができる。また、本発明の発光素子では、反射膜が、
反射膜としての機能と保護膜としての機能とを兼ね備え
るため、素子の長寿命化を容易に達成することができ
る。このため、本発明の発光素子は、可撓性を有する光
集積回路の光源として好適である。また、本発明によれ
ば、簡易なプロセスで、可撓性を有し、軽量で加工性に
富む光集積回路を提供することができる。この光集積回
路は、携帯機器などに用いることができる。

【００４２】さらに、本発明の発光素子では、反射膜の
構成を選択することによって、所望の波長の光を選択的
に出射させることができる。さらに、本発明の発光素子
では、発光波長をミラー構造によって選択することによ
って、同じ有機ＥＬ素子からピーク波長が異なる複数の
光を発生することができ、波長多重伝送の光源に使用す
ることができる。

【００４３】また、本発明を光インターコネクション装
置に用いることによって、ＣＰＵ、各種処理ボード、お
よび光ファイバーを相互に高速に接続することができる
ため、データ伝送や演算処理を高速に行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の発光素子について一例を示す断面図
である。

【符号の説明】

１００発光素子１１０有機ＥＬ素子１１１陰極１１２電子注入層１１３電子輸送層１１４発光層１１５正孔輸送層１１６正孔注入層１１７陽極１２０第１の反射膜１２１、１３１第１の層１２２、１３２第２の層１３０第２の反射膜２００基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H047 KA03 MA07 QA05 RA08 TA05 TA41 3K007 AB04 AB11 AB18 BA07 BB06 CA06 DB03 EA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機ＥＬ素子を含み、波長λをピークと
する光を発する発光素子であって、前記有機ＥＬ素子を挟むように配置された第１および第
２の反射膜を備え、前記第１および第２の反射膜から選ばれる少なくとも１
つの反射膜が多層膜であり、前記第１および第２の反射膜が、前記光のスペクトルを
制御する機能と、前記有機ＥＬ素子を外気から保護する
機能とを有することを特徴とする発光素子。
【請求項２】前記多層膜が、同じ数だけ交互に積層さ
れた第１および第２の層からなり、前記第１の層の屈折率と前記第２の層の屈折率とが異な
り、前記第１の層の光路長および前記第２の層の光路長は、
それぞれ、前記波長λの４分の１である請求項１に記載
の発光素子。
【請求項３】前記第１および第２の反射膜に挟まれた
前記有機ＥＬ素子の光路長が、λ・ｍ／２（ｍは１以上
の整数）である請求項１または２に記載の発光素子。
【請求項４】前記第１および第２の層から選ばれる少
なくとも１つの層が、前記有機ＥＬ素子の特性を劣化さ
せるガスを遮断する材料からなる請求項２または３に記
載の発光素子。
【請求項５】ポリマーからなる光導波路基板と前記光
導波路基板上に形成された発光素子とを備える光インタ
ーコネクション装置であって、前記発光素子が、請求項１〜４のいずれか１項に記載の
発光素子であることを特徴とする光インターコネクショ
ン装置。