JP2016192478A - 記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】メモリセル間の干渉が少ない記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態に係る記憶装置は、第1方向に延びる第1配線と、前記第1方向に対して交差した第2方向に延びる第2配線と、前記第1配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第1層と、前記第2配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第2層と、前記第1配線と前記第2配線との間に設けられ、前記第1層及び前記第2層に接した第3層と、を備える。前記第1層は第14族の第1元素を含み、前記第2層は第15族の第2元素及び第16族の第3元素を含み、前記第3層は、前記第1元素、前記第2元素及び前記第3元素を含む。
【選択図】図3
【解決手段】実施形態に係る記憶装置は、第1方向に延びる第1配線と、前記第1方向に対して交差した第2方向に延びる第2配線と、前記第1配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第1層と、前記第2配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第2層と、前記第1配線と前記第2配線との間に設けられ、前記第1層及び前記第2層に接した第3層と、を備える。前記第1層は第14族の第1元素を含み、前記第2層は第15族の第2元素及び第16族の第3元素を含み、前記第3層は、前記第1元素、前記第2元素及び前記第3元素を含む。
【選択図】図3
Description
本発明の実施形態は、記憶装置に関する。
近年、メモリセルを三次元的に集積させた記憶装置が提案されている。このような記憶装置においては、第1方向に延びる複数本のワード線と、第2方向に延びる複数本のビット線が設けられており、各ワード線と各ビット線の間にメモリセルが接続されている。そして、1本のワード線と1本のビット線との間に所定の電圧を印加することにより、それらの間に接続された1つのメモリセルを選択し、このメモリセルに対してデータの書込又は読出を行っている。しかしながら、今後、メモリセルをより一層高集積化しようとすると、メモリセル間の干渉が顕在化する可能性がある。
実施形態の目的は、メモリセル間の干渉が少ない記憶装置を提供することである。
実施形態に係る記憶装置は、第1方向に延びる第1配線と、前記第1方向に対して交差した第2方向に延びる第2配線と、前記第1配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第1層と、前記第2配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第2層と、前記第1配線と前記第2配線との間に設けられ、前記第1層及び前記第2層に接した第3層と、を備える。前記第1層は第14族の第1元素を含み、前記第2層は第15族の第2元素及び第16族の第3元素を含み、前記第3層は、前記第1元素、前記第2元素及び前記第3元素を含む。
実施形態に係る記憶装置は、第1方向に延びる第1配線と、前記第1方向に対して交差した第2方向に延びる第2配線と、前記第1配線における前記第2配線に対向した側面上に形成された抵抗変化層と、を備える。前記第2配線は、前記抵抗変化層に接していない第1導電層と、前記第1導電層に積層され、前記抵抗変化層に接した第2導電層と、を有する。
(第1の実施形態)
先ず、第1の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態に係る記憶装置を示す斜視図である。
図2(a)及び(b)は、本実施形態に係る記憶装置を示す断面図である。
図3(a)及び(b)は、本実施形態に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図であり、(a)は高抵抗状態を示し、(b)は低抵抗状態を示す。
図4(a)及び(b)は、横軸に時間をとり、縦軸に電圧をとって、本実施形態に係る記憶装置の駆動信号を示すグラフ図であり、(a)はセット動作を示し、(b)はリセット動作を示す。
なお、図示の便宜上、図1、図2(a)及び(b)においては、各部を簡略化して描いている。また、図2(b)はローカルビット線31を含むYZ平面を示し、ゲート電極25及びローカルワード線32を図示するために、手前側の層間絶縁膜39を省略している。ゲート電極25及びローカルワード線32は側面が見えているが、図を見やすくするために、ハッチングを付している。
先ず、第1の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態に係る記憶装置を示す斜視図である。
図2(a)及び(b)は、本実施形態に係る記憶装置を示す断面図である。
図3(a)及び(b)は、本実施形態に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図であり、(a)は高抵抗状態を示し、(b)は低抵抗状態を示す。
図4(a)及び(b)は、横軸に時間をとり、縦軸に電圧をとって、本実施形態に係る記憶装置の駆動信号を示すグラフ図であり、(a)はセット動作を示し、(b)はリセット動作を示す。
なお、図示の便宜上、図1、図2(a)及び(b)においては、各部を簡略化して描いている。また、図2(b)はローカルビット線31を含むYZ平面を示し、ゲート電極25及びローカルワード線32を図示するために、手前側の層間絶縁膜39を省略している。ゲート電極25及びローカルワード線32は側面が見えているが、図を見やすくするために、ハッチングを付している。
本実施形態に係る記憶装置は、PCRAM(Phase Change Random Access Memory:相変化メモリ)である。
図1、図2(a)及び(b)に示すように、本実施形態に係る記憶装置1においては、シリコン基板10が設けられている。
以下、説明の便宜上、本明細書においてはXYZ直交座標系を採用する。シリコン基板10の上面に対して平行で、且つ相互に直交する2方向を「X方向」及び「Y方向」とし、シリコン基板10の上面に対して垂直な方向を「Z方向」とする。
図1、図2(a)及び(b)に示すように、本実施形態に係る記憶装置1においては、シリコン基板10が設けられている。
以下、説明の便宜上、本明細書においてはXYZ直交座標系を採用する。シリコン基板10の上面に対して平行で、且つ相互に直交する2方向を「X方向」及び「Y方向」とし、シリコン基板10の上面に対して垂直な方向を「Z方向」とする。
シリコン基板10上には、X方向に延びる複数本のグローバルビット線11が設けられている。複数本のグローバルビット線11は、Y方向に沿って周期的に配列されている。グローバルビット線11は、例えば、シリコン基板10の上層部分が素子分離絶縁体(図示せず)によって区画されて形成されているか、又は、シリコン基板10上に絶縁膜(図示せず)が設けられ、その上に、ポリシリコンによって形成されている。グローバルビット線11上には、配線選択部20が設けられており、その上には、記憶部30が設けられている。
配線選択部20においては、複数本の半導体部材21が設けられている。複数本の半導体部材21はX方向及びY方向に沿ってマトリクス状に配列されており、各半導体部材21はZ方向に延びている。そして、X方向に沿って1列に配列された複数本の半導体部材21が、1本のグローバルビット線11に共通接続されている。各半導体部材21においては、下側、すなわち、グローバルビット線11側から、n+形部分22、p−形部分23、n+形部分24がZ方向に沿ってこの順に配列されている。なお、n形とp形の関係は逆になってもよい。
X方向における半導体部材21間には、Y方向に延びるゲート電極25が設けられている。Z方向において、ゲート電極25同士は同じ位置にある。また、X方向から見て、ゲート電極25は、n+形部分22の上部、p−形部分23の全体及びn+形部分24の下部と重なっている。半導体部材21とゲート電極25との間には、例えばシリコン酸化物からなるゲート絶縁膜27が設けられている。n+形部分22、p−形部分23及びn+形部分24を含む半導体部材21、ゲート絶縁膜27、並びに、ゲート電極25により、nチャネル形のTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)29が構成されている。
記憶部30においては、複数本のローカルビット線31が設けられている。複数本のローカルビット線31はX方向及びY方向に沿ってマトリクス状に配列されており、各ローカルビット線31はZ方向に延びている。ローカルビット線31は、例えば、タングステン(W)等の金属材料により形成されている。なお、ローカルビット線31はポリシリコンにより形成されていてもよい。そして、各ローカルビット線31の下端が各半導体部材21の上端に接続されている。従って、各ローカルビット線31の下端は各半導体部材21を介してグローバルビット線11に接続されている。
X方向において隣り合うローカルビット線31の間には、ローカルワード線32が設けられている。ローカルワード線32はY方向に延び、X方向において2列配置され、Z方向において複数段配列されている。すなわち、あるXZ断面においては、X方向に沿って、1本のローカルビット線31と2列のローカルワード線32が交互に配列されている。グローバルビット線11、半導体部材21、ゲート電極25、ローカルビット線31及びローカルワード線32の間には、例えばシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜39が設けられている。X方向において隣り合うローカルビット線31の間に配置された2本のローカルワード線32の間にも、層間絶縁膜39の一部が配置されている。
図3(a)及び(b)に示すように、ローカルワード線32においては、例えばタングステンからなる本体部32aが設けられており、本体部32aの上面上、下面上及びローカルビット線31に対向する側面上には、例えばチタン窒化物(TiN)からなるバリアメタル層32bが設けられている。本体部32a及びバリアメタル層32bにより、ローカルワード線32が構成されている。なお、バリアメタル層32bは設けられていなくてもよい。
そして、ローカルワード線32の上面上、下面上及びローカルビット線31に対向する側面上、すなわち、バリアメタル層32bの表面上には、ゲルマニウムからなるゲルマニウム(Ge)層34が設けられている。一方、各ローカルビット線31におけるローカルワード線32に対向する側面上には、例えばタングステン酸化物からなる絶縁性のタングステン酸化層31bが設けられている。Ge層34はタングステン酸化層31bを介してローカルビット線31に接している。また、ローカルビット線31と層間絶縁膜39との間には、アンチモン−テルル合金からなるアンチモン−テルル(Sb2Te3)層35が設けられている。Sb2Te3層35は、例えば超格子層である。
Ge層34とSb2Te3層35との間には、ゲルマニウムが局在したSb2Te3領域36s又はゲルマニウムが分散分布したSb2Te3領域36t(以下、総称して「GeSbTe層36」ともいう)が設けられている。換言すれば、GeSbTe層36は、ゲルマニウムが局在したSb2Te3領域36sが支配的な第1状態と、ゲルマニウムが分散分布したSb2Te3領域36tが支配的な第2状態と、をとり得る。なお、「局在」とは、GeSbTe層36中において、ゲルマニウム濃度が99at%以上である領域が存在することをいう。このような領域が電流経路に介在すると、GeSbTe層36の抵抗値が相対的に高くなる。一方、「分散分布」とは、GeSbTe層36中において、ゲルマニウム濃度が99at%以上となる領域が存在しないことをいう。これにより、電流経路全体においてゲルマニウム濃度が99at%未満となるため、GeSbTe層36の抵抗値が相対的に低くなる。そして、各ローカルビット線31と各ローカルワード線32との最近接部分には、GeSbTe層36を抵抗変化層としたメモリセル33が形成されている。
ゲルマニウム(Ge)の抵抗率はアンチモン−テルル(Sb2Te3)の抵抗率よりも高い。従って、図3(a)に示すように、GeSbTe層36がゲルマニウムが局在したSb2Te3領域36sである場合には、ローカルビット線31とローカルワード線32との間の抵抗値は相対的に高く、メモリセル33は高抵抗状態にある。一方、図3(b)に示すように、GeSbTe層36がゲルマニウムが分散分布したSb2Te3領域36tである場合には、メモリセル33は低抵抗状態となる。
図4(a)に示すように、メモリセル33を高抵抗状態から低抵抗状態に移行させる動作、すなわち、セット動作においては、メモリセル33に対して、ローカルビット線31を正極としローカルワード線32を負極とするセット電圧を、例えば10ns(ナノ秒)間かけて電圧を規定値まで上昇させ、例えば50ns(ナノ秒)間印加した後、例えば400ns間かけてゼロまで降下させる。電圧を印加するときのパルス幅(電圧入力時間)は、典型的には50ns以上である。もっとも、パルス幅は、GeSbTe層36の膜厚や材料、組成によっては、50ns未満でもよい。パルス幅は、十分な電圧まで昇圧できればよく、短いパルス幅の場合には、所定の電圧まで配線遅延等により上がらないことを危惧して長めに設定することがある。またパルス立ち上がり時間は、例えば10ns以下であるが、10ns以上でもよく任意である。この動作によって、Ge層34は低電圧(低電位ポテンシャル)のローカルワード線32側に凝集する。その後、十分に長い立ち下り時間で印加電圧が0Vになると、GeSbTe層36が時間をかけて冷却(徐冷)され、凝集したゲルマニウムが熱拡散することにより、ゲルマニウムが分散分布したSb2Te3領域36tが形成され、メモリセル33は低抵抗状態となる。
一方、メモリセル33を低抵抗状態から高抵抗状態に移行させる動作、すなわち、リセット動作においては、メモリセル33に対して、ローカルビット線31を正極としローカルワード線32を負極とするリセット電圧を、例えば10ns間かけて電圧を規定値まで上昇させ、例えば50ns間印加した後、例えば10ns間でゼロまで降下させる。この動作によって、Ge層34は低電圧(低電位ポテンシャル)のローカルワード線32側に凝集する。その後、短い立ち下り時間で印加電圧が0Vになると、GeSbTe層36が短い時間で冷却(急冷)され、凝集したゲルマニウムが局在したSb2Te3領域36sが形成される。この結果、メモリセル33が高抵抗状態に戻る。
次に、本実施形態に係る記憶装置の製造方法について説明する。
図5(a)〜(c)は、本実施形態に係る記憶装置の製造方法を示す断面図である。
先ず、図1、図2(a)及び(b)に示すように、通常の方法により、シリコン基板10上に複数本のグローバルビット線11を形成し、その上に配線選択部20を形成する。
図5(a)〜(c)は、本実施形態に係る記憶装置の製造方法を示す断面図である。
先ず、図1、図2(a)及び(b)に示すように、通常の方法により、シリコン基板10上に複数本のグローバルビット線11を形成し、その上に配線選択部20を形成する。
次に、図5(a)に示すように、配線選択部20上に、層間絶縁膜39と犠牲膜41を交互に積層させて、積層体42を形成する。例えば、層間絶縁膜39はシリコン酸化物により形成し、犠牲膜41はシリコン窒化物により形成する。次に、積層体42に対して、例えばRIE(Reactive Ion Etching:反応性イオンエッチング)等の異方性エッチングを施すことにより、YZ平面に沿って拡がるスリット43を形成する。
次に、図5(b)に示すように、スリット43の側面上にアンチモンとテルルを堆積させて、Sb2Te3層35を形成する。なお、アンチモン−テルル化合物を堆積させてもよい。次に、スリット43内を埋め込むように、Sb2Te3層35上にタングステン膜31aを形成する。
次に、図5(c)に示すように、例えばRIEを施すことにより、積層体42におけるスリット43から離隔した部分に、YZ平面に沿って拡がるスリット44を形成する。そして、スリット44を介して等方性エッチングを施すことにより、層間絶縁膜39を残留させつつ、犠牲膜41を除去する。例えば、犠牲膜41をシリコン窒化物により形成した場合は、エッチング液として熱リン酸を用いたウェットエッチングを行う。これにより、Z方向において隣り合う層間絶縁膜39間に、スリット44に連通した凹部45が形成される。凹部45にはSb2Te3層35を貫通させ、タングステン膜31a内に進入させる。次に、ウェット処理、例えば、純水への浸漬を行う。これにより、タングステン膜31aにおける凹部45の内面に露出した部分が酸化されて、タングステン酸化層31bが形成される。
次に、図3(a)に示すように、スリット44を介して、凹部45の内面上にゲルマニウムを堆積させることにより、Ge層34を形成する。Ge層34はタングステン酸化層31a、Sb2Te3層35及び層間絶縁膜39に接触する。次に、チタン窒化物を堆積させて、Ge層34の表面上にチタン窒化層を形成する。次に、凹部45内を埋め込むようにタングステンを堆積させて、タングステン膜を形成する。次に、スリット44内に堆積されたタングステン膜及びチタン窒化層をエッチングにより除去する。これにより、凹部45内に残留したチタン窒化層がバリアメタル層32bとなり、凹部45内に残留したタングステン膜が本体部32aとなる。このようにして、Z方向において隣り合う層間絶縁膜39間に、バリアメタル層32b及び本体部32aからなるローカルワード線32が形成される。
次に、図2(a)及び(b)に示すように、スリット44内に層間絶縁膜39を埋め込む。次に、各スリット43内に形成されたタングステン膜31a及びSb2Te3層35を、Y方向に沿って分断する。これにより、タングステン膜31aが複数本のローカルビット線31に分割されると共に、Sb2Te3層35がローカルビット線31毎に分割される。次に、ローカルビット線31間に層間絶縁膜39を埋め込む。
次に、フォーミング処理を行う。すなわち、ローカルビット線31とローカルワード線32との間に、ローカルビット線31を正極としローカルワード線32を負極とするフォーミング電圧を印加する。これにより、Ge層34に含まれるゲルマニウム原子がSb2Te3層35内に局所的に拡散して、GeSbTe層36が形成される。なお、フォーミング処理は熱処理によって実施してもよい。このようにして、本実施形態に係る記憶装置1が製造される。
次に、本実施形態の効果について説明する。
図3(a)及び(b)に示すように、本実施形態のメモリセル33においては、ローカルワード線32とSb2Te3層35の間に形成されたGeSbTe層36の抵抗のみが変化する。そして、GeSbTe層36は、X方向、Y方向及びZ方向において隣り合うメモリセル33間で分断されている。これにより、隣り合うメモリセル33間の干渉を抑制することができ、誤動作を抑制することができる。メモリセル33間の干渉が抑制されると、記憶装置1の微細化が容易になる。
図3(a)及び(b)に示すように、本実施形態のメモリセル33においては、ローカルワード線32とSb2Te3層35の間に形成されたGeSbTe層36の抵抗のみが変化する。そして、GeSbTe層36は、X方向、Y方向及びZ方向において隣り合うメモリセル33間で分断されている。これにより、隣り合うメモリセル33間の干渉を抑制することができ、誤動作を抑制することができる。メモリセル33間の干渉が抑制されると、記憶装置1の微細化が容易になる。
また、メモリセル33が低抵抗状態である場合には、ローカルビット線31からローカルワード線32に流れる電流の大部分は、ゲルマニウムが分散分布したSb2Te3領域36t又はゲルマニウムが局在したSb2Te3領域36sからなるGeSbTe層36を介して流れる。このため、セット動作時及びリセット動作時に加熱される領域はGeSbTe層36及びその周辺に限定され、隣のメモリセルのGeSbTe層36を加熱する程度が少ない。これによっても、メモリセル33間の干渉を抑制することができる。
更に、図5(c)に示すように、本実施形態においては、エッチングにより凹部45を形成する際に、凹部45の先端をタングステン膜31a内に進入させている。このときの進入長さには、ある程度の許容範囲がある。従って、凹部45を形成するためのエッチングの停止位置を厳密に制御する必要がない。このため、本実施形態に係る記憶装置は、製造が容易である。
このように、本実施形態によれば、微細化してもメモリセル間の干渉が少なく、動作が安定な記憶装置を容易に製造することができる。
なお、Ge層34の材料には、ゲルマニウム(Ge)の替わりに、第14族(第IV族)に属するゲルマニウム以外の元素を用いてもよく、例えば、シリコン(Si)又は炭素(C)を用いてもよい。また、Sb2Te3層35の替わりに、第15族(第V族)に属するアンチモン以外の元素と第16族(カルコゲン)との化合物層を用いてもよく、遷移金属のカルコゲナイト化合物層を用いてもよく、例えば、ビスマス−テルル(BiTe)層を用いてもよい。
(第1の実施形態の第1の変形例)
次に、第1の実施形態の第1の変形例について説明する。
図6(a)及び(b)は、本変形例に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図であり、(a)は高抵抗状態を示し、(b)は低抵抗状態を示す。
次に、第1の実施形態の第1の変形例について説明する。
図6(a)及び(b)は、本変形例に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図であり、(a)は高抵抗状態を示し、(b)は低抵抗状態を示す。
図6(a)に示すように、本変形例に係る記憶装置1aにおいては、凹部45がSb2Te3層35を貫通しておらず、ローカルビット線31とローカルワード線32との間の領域の略全体に、GeSbTe層36が設けられている。従って、GeSbTe層36の形状はYZ平面に沿って拡がる板状であり、GeSbTe層36は、ローカルビット線31の側面31s及びローカルワード線32の側面32sのそれぞれに面状に接している。
これにより、図6(b)に示すように、メモリセル33が低抵抗状態であるときに、GeSbTe層36は、ローカルワード線32の側面32sの略全体を覆うように、平面状に形成される。この結果、低抵抗状態のときに流れる電流が大きくなり、高抵抗状態のときに流れる電流量に対する低抵抗状態のときに流れる電流量の比(オン/オフ比)が高くなる。これにより、読出動作がより安定する。
また、本変形例においても、抵抗変化層であるGeSbTe層36は隣り合うメモリセル33間で分断されているため、メモリセル33間の干渉が少ない。また、セット動作時及びリセット動作時の発熱領域がGeSbTe層36及びその周辺に限定されているため、隣のメモリセル33に及ぼす熱影響が少ない。
本変形例における上記以外の構成、動作、製造方法及び効果は、前述の第1の実施形態と同様である。
本変形例における上記以外の構成、動作、製造方法及び効果は、前述の第1の実施形態と同様である。
(第1の実施形態の第2の変形例)
次に、第1の実施形態の第2の変形例について説明する。
図7(a)及び(b)は、本変形例に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図であり、(a)は高抵抗状態を示し、(b)は低抵抗状態を示す。
次に、第1の実施形態の第2の変形例について説明する。
図7(a)及び(b)は、本変形例に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図であり、(a)は高抵抗状態を示し、(b)は低抵抗状態を示す。
図7(a)に示すように、本変形例に係る記憶装置1bにおいては、前述の第1の変形例に係る記憶装置1aと比較して、Ge層34とSb2Te3層35の位置が逆になっている。すなわち、ローカルビット線31の側面31s上にGe層34が形成され、ローカルワード線32の上面上、下面上及び側面32s上にSb2Te3層35が形成されている。
図7(b)に示すように、この構成によっても、低抵抗時にはローカルワード線32の側面32s上の略全体にGeSbTe層36が形成される。
本変形例における上記以外の構成、動作、製造方法及び効果は、前述の第1の変形例と同様である。
本変形例における上記以外の構成、動作、製造方法及び効果は、前述の第1の変形例と同様である。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態について説明する。
図8は、本実施形態に係る記憶装置を示す斜視図である。
図9(a)は本実施形態に係る記憶装置を示す断面図であり、(b)は本実施形態に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図である。
次に、第2の実施形態について説明する。
図8は、本実施形態に係る記憶装置を示す斜視図である。
図9(a)は本実施形態に係る記憶装置を示す断面図であり、(b)は本実施形態に係る記憶装置のメモリセルを示す断面図である。
図8及び図9(a)に示すように、本実施形態に係る記憶装置2は、記憶部30の構成が、前述の第1の実施形態に係る記憶装置1(図1参照)とは異なっている。すなわち、記憶装置2においては、X方向において隣り合う2本のローカルビット線31間に、Y方向に延びるローカルワード線32がZ方向に沿って1列に配置されている。従って、あるXZ断面においては、X方向に沿って、ローカルビット線31とローカルワード線32が交互に配列されている。
そして、ローカルビット線31におけるX方向両側に向いた側面31s上の全面に、抵抗変化層としてのGeSbTe層36が設けられている。GeSbTe層36は超格子層である。なお、単層のGeSbTe層36の替わりに、Ge層とSb2Te3層との積層膜が設けられていてもよい。各GeSbTe層36は、Z方向を厚さ方向とし、Y方向を幅方向として、Z方向に延びている。これにより、ローカルビット線31とローカルワード線32との間には、GeSbTe層36が介在している。
図9(b)に示すように、ローカルワード線32においては、例えばタングステン(W)からなる本体部32aが設けられており、本体部32aの上面上には、例えばチタン窒化物(TiN)からなるバリアメタル層32bが設けられている。バリアメタル層32bは、本体部32aの下面上及びローカルビット線31に対向した側面上には設けられていない。本体部32aのZ方向の厚さはバリアメタル層32bのZ方向の厚さよりも厚く、本体部32aの抵抗率はバリアメタル層32bの抵抗率よりも低い。
また、本体部32aとGeSbTe層36との間には、例えばシリコン酸化物(SiO2)からなる絶縁部材51が設けられている。但し、絶縁部材51はバリアメタル層32bとGeSbTe層36との間には設けられていない。このため、バリアメタル層32bは絶縁部材51上にも配置され、その側面はGeSbTe層36に接している。これにより、ローカルビット線31からGeSbTe層36を介してローカルワード線32に流れる電流は、バリアメタル層32bにおける絶縁部材51上に配置された部分を通過することになる。
次に、本実施形態に係る記憶装置の製造方法について説明する。
図10(a)〜(c)、図11(a)及び(b)は、本実施形態に係る記憶装置の製造方法を示す断面図である。
図10(a)〜(c)、図11(a)及び(b)は、本実施形態に係る記憶装置の製造方法を示す断面図である。
先ず、図8に示すように、通常の方法により、シリコン基板10上に複数本のグローバルビット線11を形成し、その上に配線選択部20を形成する。
次に、図10(a)に示すように、配線選択部20上に、例えばシリコン酸化物からなる層間絶縁膜39、例えばタングステンからなるタングステン膜52、例えばチタン窒化物からなるチタン窒化膜53を、この順に繰り返し形成する。これにより、積層体55が形成される。なお、タングステン膜52とチタン窒化膜53の積層順序は逆でも構わない。次に、積層体55にYZ平面に沿って拡がるスリット56を形成する。これにより、タングステン膜52及びチタン窒化膜53がスリット56により分断されて、それぞれ、ローカルワード線32の本体部32a及びバリアメタル層32bとなる。
次に、図10(b)に示すように、スリット56を介して等方性エッチングを施す。このエッチングの条件は、シリコン酸化物及びチタン窒化物に対してタングステンが優先的にエッチングされるような条件とする。これにより、スリット56の側面における本体部32aの露出領域が後退し、Y方向に延びる凹部57が形成される。
次に、図10(c)に示すように、例えばALD(Atomic Layer Deposition:原子層堆積)法によりスリット56の内面上にシリコン酸化膜58を形成する。シリコン酸化膜58は、凹部57内にも埋め込む。
次に、図11(a)に示すように、スリット56を介してシリコン酸化膜58をエッチバックすることにより、シリコン酸化膜58における凹部57の外部に堆積された部分を除去する。これにより、シリコン酸化膜58における凹部57内に残留した部分が、絶縁部材51となる。
次に、図11(b)に示すように、スリット56の内面上にGeSbTe層36を形成する。GeSbTe層36は、層間絶縁膜39、絶縁部材51及びバリアメタル層32bに接触するが、本体部32aからは絶縁部材51によって離隔される。
次に、図9(a)及び(b)に示すように、スリット56内を埋め込むように、タングステンを堆積させる。次に、例えばフォトリソグラフィ法により、タングステン及びGeSbTe層36をY方向に沿って分断する。これにより、スリット56内のタングステンが複数本のローカルビット線31に加工される。次に、スリット56内におけるローカルビット線31間及びGeSbTe層36間に、層間絶縁膜39を埋め込む。このようにして、本実施形態に係る記憶装置2が製造される。
次に、本実施形態の効果について説明する。
図12(a)及び(b)は、本実施形態の効果を示す図であり、(a)は本実施形態に係る記憶装置を示し、(b)は比較例に係る記憶装置を示す。
図12(a)及び(b)は、本実施形態の効果を示す図であり、(a)は本実施形態に係る記憶装置を示し、(b)は比較例に係る記憶装置を示す。
図12(a)に示すように、本実施形態に係る記憶装置2においては、ローカルワード線32の本体部32aとGeSbTe層36との間に絶縁部材51が設けられているため、ローカルビット線31からGeSbTe層36を介してローカルワード線32に至る電流経路において、絶縁部材51と層間絶縁膜39との間の部分は、バリアメタル層32bに限定される。
このように、GeSbTe層36の近傍において電流経路が狭窄されることにより、GeSbTe層36における相変化部分36aもZ方向における幅が狭くなり、熱影響部36bのZ方向における幅も狭くなる。この結果、GeSbTe層36において、あるメモリセル33に属する相変化部分36aを相変化させたときに、この動作に伴う熱影響部36bが、隣のメモリセル33に属する部分36cに到達することを抑制でき、隣のメモリセル33の動作に干渉することを防止できる。この結果、メモリセル33間の距離を短くすることができ、記憶装置2の微細化を図ることができる。
これに対して、図12(b)に示すように、比較例に係る記憶装置102においては、絶縁部材51が設けられていないため、ローカルワード線32の側面全体がGeSbTe層36に接している。これにより、GeSbTe層36における相変化部分36aのZ方向における幅が広くなり、熱影響部36bのZ方向における幅も広くなる。この結果、あるメモリセル33の相変化に伴って生じる熱影響部36bが、隣のメモリセル33に属する部分36cに到達する可能性が高く、隣のメモリセル33が干渉されやすい。例えば、あるメモリセル33の動作に伴う熱が残っていると、その隣のメモリセル33に急冷が必要なリセット動作(図4(b)参照)をさせようとしたときに、効率的に冷却できずに徐冷となり、セット動作(図4(a)参照)がなされてしまう場合がある。
このような干渉を回避するためには、メモリセル33間の距離を十分に長くする必要があるが、そうすると、記憶装置102の微細化が阻害されてしまう。また、熱影響を低減するために、メモリセル33を動作させる時間間隔を長くすることも考えられるが、そうすると、記憶装置102の動作速度が減少する。更に、本体部32a及び絶縁部材51を設けずに、バリアメタル層32bだけでローカルワード線32を構成することも考えられるが、そうすると、ローカルワード線32の配線抵抗が増加して、動作に必要な電流を供給することが困難になる。
(第2の実施形態の変形例)
次に、第2の実施形態の変形例について説明する。
図13は、本変形例に係る記憶装置を示す断面図である。
本変形例に係る記憶装置の全体構成は、図1に示す構成と同様である。すなわち、X方向において隣り合う2本のローカルビット線31間に、X方向に沿って配列された2本のローカルワード線32が配置されている。
次に、第2の実施形態の変形例について説明する。
図13は、本変形例に係る記憶装置を示す断面図である。
本変形例に係る記憶装置の全体構成は、図1に示す構成と同様である。すなわち、X方向において隣り合う2本のローカルビット線31間に、X方向に沿って配列された2本のローカルワード線32が配置されている。
図13に示すように、本変形例に係る記憶装置2aにおいては、GeSbTe層36の部分36dが絶縁部材51上に延出している。これにより、絶縁部材51と、その上の層間絶縁膜39との間において、バリアメタル層32bの側面とGeSbTe層36の部分36dの先端面とが接触している。
次に、本変形例に係る記憶装置2aの製造方法について説明する。
図14(a)〜(c)、図15(a)及び(b)は、本変形例に係る記憶装置の製造方法を示す断面図である。
図14(a)〜(c)、図15(a)及び(b)は、本変形例に係る記憶装置の製造方法を示す断面図である。
先ず、図1に示すように、通常の方法により、シリコン基板10上に複数本のグローバルビット線11を形成し、その上に配線選択部20を形成する。
次に、図14(a)に示すように、配線選択部20上に、例えばシリコン酸化物からなる層間絶縁膜39、例えばシリコン窒化物からなる犠牲膜61、例えばチタン窒化物からなるチタン窒化膜53を、この順に繰り返し形成する。これにより、積層体62が形成される。次に、積層体62にYZ平面に沿って拡がるスリット63を形成する。これにより、チタン窒化膜53がスリット63により分断されて、ローカルワード線32のバリアメタル層32bとなる。
次に、図14(b)に示すように、例えば一酸化窒素(N2O)等の酸化種を用いて、スリット63を介して酸化処理を施す。これにより、犠牲膜61におけるスリット63内に露出した部分が酸化されて、シリコン酸化物からなる犠牲部材51が形成される。また、バリアメタル層32bにおけるスリット63内に露出した部分が酸化されて、チタン酸化膜64が形成される。このとき、シリコン窒化物はチタン窒化物よりも酸化されやすいため、X方向において、犠牲部材51はチタン酸化膜64よりも厚くなる。
次に、図14(c)に示すように、スリット63を介してエッチバックを施し、チタン酸化膜64を除去する。このとき、犠牲部材51は残留する。これにより、スリット63の側面に、Y方向に延びる凹部65が形成される。
次に、図15(a)に示すように、スリット63の内面上にGeSbTe層36を形成する。このとき、GeSbTe層36の部分36dは凹部65内に進入してバリアメタル層32bに接触する。また、GeSbTe層36における部分36d以外の部分は、層間絶縁膜39及び絶縁部材51に接触する。次に、GeSbTe層36の側面上にタングステン膜66を堆積させて、スリット63内を埋め込む。
次に、例えばフォトリソグラフィ法により、タングステン膜66及びGeSbTe層36をY方向に沿って分断する。これにより、タングステン膜が複数本のローカルビット線31に加工される。次に、スリット63におけるローカルビット線31間及びGeSbTe層36間に、層間絶縁膜39を埋め込む。
次に、図15(b)に示すように、例えばRIEを施すことにより、積層体62におけるスリット63から離隔した部分に、YZ平面に沿って拡がるスリット67を形成する。そして、スリット67を介して等方性エッチングを施すことにより、犠牲膜61を除去する。これにより、スリット67の側面に凹部68が形成される。このエッチングにおいては、シリコン酸化物からなる犠牲部材51は除去されず、凹部68の奥面において露出する。
次に、図13に示すように、スリット67を介して凹部68内にタングステンを埋め込む。次に、エッチバックを施すことにより、凹部68の外部に堆積されたタングステンを除去する。この結果、凹部68内に残留したタングステンにより、ローカルワード線32の本体部32aが形成される。本体部32a及びバリアメタル層32bにより、ローカルワード線32が構成される。次に、スリット67内に層間絶縁膜39を埋め込む。このようにして、本変形例に係る記憶装置2aが製造される。
本変形例における上記以外の構成、製造方法、動作及び効果は、前述の第2の実施形態と同様である。
なお、第2の実施形態及びその変形例においては、抵抗変化層としてGeSbTe層36を用いる例を示したが、これには限定されず、抵抗変化層はGeSbTe層以外の超格子層であってもよく、例えば、シリコン(Si)又は炭素(C)等の第14族元素、及び、ビスマス−テルル(BiTe)等の第15族元素と第16族元素の化合物を含む層であってもよい。また、抵抗変化層は、超格子層以外の相変化層であってもよく、相変化層以外の抵抗変化層であってもよい。
以上説明した実施形態によれば、メモリセル間の干渉が少ない記憶装置を実現することができる。
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明及びその等価物の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。
1、1a、1b、2、2a:記憶装置、10:シリコン基板、11:グローバルビット線、20:配線選択部、21:半導体部材、22:n+形部分、23:p−形部分、24:n+形部分、25:ゲート電極、27:ゲート絶縁膜、29:TFT、30:記憶部、31:ローカルビット線、31a:タングステン膜、31b:タングステン酸化層、31s:側面、32:ローカルワード線、32a:本体部、32b:バリアメタル層、32s:側面、33:メモリセル、34:ゲルマニウム層(Ge層)、35:アンチモン−テルル層(Sb2Te3層)、36:GeSbTe層、36a:相変化部分、36b:熱影響部、36c:部分、36d:部分、36s:ゲルマニウムが局在したSb2Te3層、36t:ゲルマニウムが分散分布したSb2Te3層、39:層間絶縁膜、41:犠牲膜、42:積層体、43:スリット、44:スリット、45:凹部、51:絶縁部材、52:タングステン膜、53:チタン窒化膜、55:積層体、56:スリット、57:凹部、58:シリコン酸化膜、61:犠牲膜、62:積層体、63:スリット、64:チタン酸化膜、65:凹部、66:タングステン膜、67:スリット、68:凹部、102:記憶装置
Claims (14)
- 第1方向に延びる第1配線と、
前記第1方向に対して交差した第2方向に延びる第2配線と、
前記第1配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第1層と、
前記第2配線の表面上の少なくとも一部に設けられた第2層と、
前記第1配線と前記第2配線との間に設けられ、前記第1層及び前記第2層に接した第3層と、
を備え、
前記第1層は第14族の第1元素を含み、前記第2層は第15族の第2元素及び第16族の第3元素を含み、前記第3層は、前記第1元素、前記第2元素及び前記第3元素を含む記憶装置。 - 前記第1層と前記第2配線との間に設けられた絶縁層をさらに備え、
前記第1層の抵抗率は前記第2層の抵抗率よりも高く、前記第1層は前記絶縁層に接し、前記絶縁層は前記第2配線に接している請求項1記載の記憶装置。 - 前記第3層は前記第1配線及び前記第2配線に接している請求項1記載の記憶装置。
- 前記第1層は、ゲルマニウム、シリコン及び炭素からなる群より選択された1種の元素を含み、
前記第2層は、アンチモン−テルル合金又はビスマス−テルル合金を含む請求項1〜3のいずれか1つに記載の記憶装置。 - 上面が、前記第1方向及び前記第2方向の双方に対して交差した第3方向、並びに、前記第1方向に対して平行な基板と、
前記基板上に設けられ、前記第3方向に延び、前記第1方向に沿って配列された複数本の第3配線と、
をさらに備え、
前記第2配線の下端は前記第3配線に接続されており、
前記第2配線は、前記第3方向及び前記第1方向に沿ってマトリクス状に配列されており、
前記第3方向において隣り合う2本の前記第2配線の間には、前記第3方向において隣り合う2本の前記第1配線が配置されている請求項1〜4のいずれか1つに記載の記憶装置。 - 前記第3層は、前記第2元素及び前記第3元素からなる合金層中に前記第1元素が局在した第1状態と、前記合金層中に前記第1元素が分散分布した第2状態とをとり得る請求項1〜5のいずれか1つに記載の記憶装置。
- 第1方向に延びる第1配線と、
前記第1方向に対して交差した第2方向に延びる第2配線と、
前記第1配線における前記第2配線に対向した側面上に形成された抵抗変化層と、
を備え、
前記第2配線は、
前記抵抗変化層に接していない第1導電層と、
前記第1導電層に積層され、前記抵抗変化層に接した第2導電層と、
を有する記憶装置。 - 前記第1配線と前記第1導電層との間に設けられた絶縁部材をさらに備えた請求項7記載の記憶装置。
- 前記第1方向における第1導電層の厚さは、前記第1方向における前記第2導電層の厚さよりも厚い請求項7または8に記載の記憶装置。
- 前記第1導電層の抵抗率は、前記第2導電層の抵抗率よりも低い請求項7〜9のいずれか1つに記載の記憶装置。
- 前記抵抗変化層は相変化層である請求項7〜10のいずれか1つに記載の記憶装置。
- 前記抵抗変化層は、ゲルマニウム、アンチモン及びテルルを含む請求項7〜11のいずれか1つに記載の記憶装置。
- 上面が、前記第1方向及び前記第2方向の双方に対して交差した第3方向、並びに、前記第2方向に対して平行な基板と、
前記基板上に設けられ、前記第3方向に延び、前記第2方向に沿って配列された複数本の第3配線と、
をさらに備え、
前記第1配線の下端は前記第3配線に接続されており、
前記第1配線は、前記第3方向及び前記第2方向に沿ってマトリクス状に配列されており、
前記第3方向において、前記第1配線と前記第2配線は交互に配列されている請求項7〜12のいずれか1つに記載の記憶装置。 - 上面が、前記第1方向及び前記第2方向の双方に対して交差した第3方向、並びに、前記第2方向に対して平行な基板と、
前記基板上に設けられ、前記第3方向に延び、前記第2方向に沿って配列された複数本の第3配線と、
をさらに備え、
前記第1配線の下端は前記第3配線に接続されており、
前記第1配線は、前記第3方向及び前記第2方向に沿ってマトリクス状に配列されており、
前記第3方向において隣り合う2本の前記第1配線の間には、前記第3方向において隣り合う2本の前記第2配線が配置されている請求項7〜12のいずれか1つに記載の記憶装置。
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