JP2016178206A - ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート - Google Patents
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- 238000010926 purge Methods 0.000 title claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 32
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 13
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
- H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
Abstract
【解決手段】被収容物を収容する収容容器100の底面に設けられた開口104と連通可能なガス流通路13を有し、ガス流通路13および開口104を介して収容容器100にガスを注入または排出するノズル11の先端構造であって、ノズル11の上端部には、開口104の周囲に設けられた被当接部103に当接可能な当接部19が、ガス流通路13の周囲に設けられており、当接部19は、平坦部19bと、平坦部19bよりも上方に突出した突出部19a、19cとを有し、平坦部19bは突出部19a、19cよりも柔らかい材料で構成されている。
【選択図】図3
Description
以上のように、本実施形態では、ノズル11の当接部19に、平坦部19bと、平坦部19bよりも上方に突出した突出部19a、19cとを設け、さらに、平坦部19bを突出部19a、19cよりも柔らかい材料で構成している。このため、グロメットタイプのFOUP100を使用する場合には、ノズル11の突出部19a、19cの少なくともいずれか一方がFOUP100のグロメット103に当接することで、ノズル11とFOUP100とを良好に密接させることができる。一方、リップタイプのFOUP200を使用する場合には、突出部19a、19cよりも柔らかい平坦部19bがFOUP200のリップ部203aに当接することで、ノズル11とFOUP200とを良好に密接させることができる。したがって、本実施形態のノズル11によれば、グロメットタイプのFOUP100とリップタイプのFOUP200の両方に対応することができる。
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上記実施形態の要素を適宜組み合わせまたは種々の変更を加えることが可能である。
2:載置台
10:ノズルユニット
11:ノズル
13:ガス流通路
19:当接部
19a、19c:突出部
19b:平坦部
20:パージ装置
100:グロメットタイプのFOUP(収容容器)
103:グロメット(被当接部)
104:開口
200:リップタイプのFOUP(収容容器)
203a:リップ部(被当接部)
204:開口
Claims (5)
- 被収容物を収容する収容容器の底面に設けられた開口と連通可能なガス流通路を有し、前記ガス流通路および前記開口を介して前記収容容器にガスを注入または排出するノズルの先端構造であって、
前記ノズルの上端部には、前記開口の周囲に設けられた被当接部に当接可能な当接部が、前記ガス流通路の周囲に設けられており、
前記当接部は、平坦部と、前記平坦部よりも上方に突出した突出部とを有し、前記平坦部は前記突出部よりも柔らかい材料で構成されていることを特徴とするノズルの先端構造。 - 前記突出部が、前記ガス流通路と前記平坦部との間に設けられている請求項1に記載のノズルの先端構造。
- 前記突出部が、前記平坦部よりも外側に設けられている請求項1または2に記載のノズルの先端構造。
- 前記収容容器を載置するための載置台を有し、前記載置台に搭載されたノズルユニットにより前記収容容器に前記ガスを注入または排出するパージ装置であって、
前記ノズルユニットが、請求項1ないし3のいずれか1項に記載のノズルの先端構造を有することを特徴とするパージ装置。 - 半導体製造装置に隣接して設けられ、前記載置台に載置された前記収容容器の蓋を開閉するロードポートであって、
請求項4に記載のパージ装置が搭載されていることを特徴とするロードポート。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015057368A JP6455261B2 (ja) | 2015-03-20 | 2015-03-20 | ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート |
TW104144485A TWI681824B (zh) | 2015-03-20 | 2015-12-30 | 噴嘴的前端構造、沖洗裝置及裝載埠 |
KR1020160016073A KR102484098B1 (ko) | 2015-03-20 | 2016-02-12 | 노즐의 선단 구조, 퍼지 장치 및 로드 포트 |
US15/072,823 US9916997B2 (en) | 2015-03-20 | 2016-03-17 | End structure of nozzle, purging device, and load port |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015057368A JP6455261B2 (ja) | 2015-03-20 | 2015-03-20 | ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016178206A true JP2016178206A (ja) | 2016-10-06 |
JP6455261B2 JP6455261B2 (ja) | 2019-01-23 |
Family
ID=56925023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015057368A Active JP6455261B2 (ja) | 2015-03-20 | 2015-03-20 | ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9916997B2 (ja) |
JP (1) | JP6455261B2 (ja) |
KR (1) | KR102484098B1 (ja) |
TW (1) | TWI681824B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP6451453B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-01-16 | Tdk株式会社 | ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法 |
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-
2015
- 2015-03-20 JP JP2015057368A patent/JP6455261B2/ja active Active
- 2015-12-30 TW TW104144485A patent/TWI681824B/zh active
-
2016
- 2016-02-12 KR KR1020160016073A patent/KR102484098B1/ko active IP Right Grant
- 2016-03-17 US US15/072,823 patent/US9916997B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160276188A1 (en) | 2016-09-22 |
TWI681824B (zh) | 2020-01-11 |
JP6455261B2 (ja) | 2019-01-23 |
KR20160112935A (ko) | 2016-09-28 |
US9916997B2 (en) | 2018-03-13 |
KR102484098B1 (ko) | 2023-01-03 |
TW201634135A (zh) | 2016-10-01 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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