JP2016178206A - ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート - Google Patents

ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート Download PDF

Info

Publication number
JP2016178206A
JP2016178206A JP2015057368A JP2015057368A JP2016178206A JP 2016178206 A JP2016178206 A JP 2016178206A JP 2015057368 A JP2015057368 A JP 2015057368A JP 2015057368 A JP2015057368 A JP 2015057368A JP 2016178206 A JP2016178206 A JP 2016178206A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
foup
flat portion
storage container
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015057368A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6455261B2 (ja
Inventor
森鼻 俊光
Toshimitsu Morihana
俊光 森鼻
祐貴 松本
Yuki Matsumoto
祐貴 松本
夏目 光夫
Mitsuo Natsume
光夫 夏目
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sinfonia Technology Co Ltd
Original Assignee
Sinfonia Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sinfonia Technology Co Ltd filed Critical Sinfonia Technology Co Ltd
Priority to JP2015057368A priority Critical patent/JP6455261B2/ja
Priority to TW104144485A priority patent/TWI681824B/zh
Priority to KR1020160016073A priority patent/KR102484098B1/ko
Priority to US15/072,823 priority patent/US9916997B2/en
Publication of JP2016178206A publication Critical patent/JP2016178206A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6455261B2 publication Critical patent/JP6455261B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67389Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl

Abstract

【課題】グロメットタイプの収容容器とリップタイプの収容容器の両方に対応可能なノズルを提供する。
【解決手段】被収容物を収容する収容容器100の底面に設けられた開口104と連通可能なガス流通路13を有し、ガス流通路13および開口104を介して収容容器100にガスを注入または排出するノズル11の先端構造であって、ノズル11の上端部には、開口104の周囲に設けられた被当接部103に当接可能な当接部19が、ガス流通路13の周囲に設けられており、当接部19は、平坦部19bと、平坦部19bよりも上方に突出した突出部19a、19cとを有し、平坦部19bは突出部19a、19cよりも柔らかい材料で構成されている。
【選択図】図3

Description

本発明は、被収容物が収容された収容容器にガスを注入または排出するノズルの先端構造、ならびに当該ノズルの先端構造を有するノズルユニットを備えたパージ装置およびロードポートに関する。
半導体素子の材料となるウェハを収容するFOUP(Front-Opening Unified Pod)等の収容容器においては、ウェハの汚染を防止するため、その内部空間が窒素等の不活性ガスによってパージされる。例えば特許文献1に記載の装置では、ガス流通路が形成されたノズルをFOUPの底面に当接させ、ガス流通路がFOUPの底面に形成された開口に連通した状態でパージが行われる。
パージの際に、ノズルとFOUPとの間に隙間が生じると、ガス漏れが生じてしまうため、ノズルとFOUPとを密接させる必要がある。そこで、特許文献1においては、FOUPの開口にゴム製のグロメットが装着されるとともに、ノズルの上端部には、上方に突出するリップ状の突出部がガス流通路の周りに設けられている。そして、ノズルを上方に移動させることで、突出部がグロメットに当接するように構成されている。このとき、グロメットがゴム製で柔らかいため、突出部とグロメットとが良好に密接し、パージの際のガス漏れを防ぐことができる。
特開2011−187539号公報
ところで、FOUP等の収容容器には複数の種類が存在する。例えば、特許文献1に記載のFOUPは、開口の周りにゴム製のグロメットが設けられた、いわゆる「グロメットタイプ」のFOUPである。一方、開口の周りにリップ部が設けられた、いわゆる「リップタイプ」のFOUPも存在する。このリップ部は、FOUPの開口を取り囲むようにリップ状に形成された突出部であり、一般的にプラスチック等からなるバルブと一体的に構成されている。
パージ時におけるガス漏れ防止のため、FOUPがグロメットタイプの場合には、グロメットとの密接を良好にするため、特許文献1のように、ノズルの上端部にリップ状の突出部が設けられる。反対に、FOUPがリップタイプの場合には、FOUPのリップ部との密接を良好にするため、上端部に比較的柔らかい材料からなる部位を設けたノズルが使われる。
このように、FOUP等の収容容器にはグロメットタイプとリップタイプとが存在し、それぞれに対応してノズルも複数種類存在する。よって、使用する収容容器のタイプが変われば、それに伴ってノズルも変更しなければならないという煩わしさがあった。また、従来のノズルでは、グロメットタイプ対応のものとリップタイプ対応のものとで別々となっているため、グロメットタイプの収容容器とリップタイプの収容容器とが混在する状況に対応できないという問題もあった。
そこで、本発明では、グロメットタイプの収容容器とリップタイプの収容容器の両方に対応可能なノズルを提供することを目的とする。
本発明にかかるノズルの先端構造は、被収容物を収容する収容容器の底面に設けられた開口と連通可能なガス流通路を有し、前記ガス流通路および前記開口を介して前記収容容器にガスを注入または排出するノズルの先端構造であって、前記ノズルの上端部には、前記開口の周囲に設けられた被当接部に当接可能な当接部が、前記ガス流通路の周囲に設けられており、前記当接部は、平坦部と、前記平坦部よりも上方に突出した突出部とを有し、前記平坦部は前記突出部よりも柔らかい材料で構成されていることを特徴とする。
本発明では、収容容器の被当接部と当接可能なノズルの当接部に、平坦部と、平坦部よりも上方に突出した突出部とを設け、さらに、平坦部を突出部よりも柔らかい材料で構成している。このため、収容容器がグロメットタイプの場合には、ノズルの突出部が収容容器のグロメット(被当接部)に当接することで、ノズルと収容容器とを良好に密接させることができる。一方、収容容器がリップタイプの場合には、突出部よりも柔らかい平坦部が収容容器のリップ部(被当接部)に当接することで、ノズルと収容容器とを良好に密接させることができる。したがって、本発明によれば、グロメットタイプの収容容器とリップタイプの収容容器の両方に対応可能なノズルを提供することが可能となる。
ここで、前記突出部が、前記ガス流通路と前記平坦部との間に設けられていると好適である。
突出部は、一般的に金属製のノズル本体と一体的に構成される。これに対し、平坦部は、ノズル本体よりも柔らかいゴム部材等を、ノズル本体の上面に載置することで構成される。このため、平坦部の下面とノズル本体の上面との間に隙間が生じる可能性があり、この隙間がガス漏れの経路となるおそれがある。そこで、上述のように、ガス流通路と平坦部との間に突出部を設けることで、ガスが上記隙間に至ることを突出部によって防止し、ガス漏れを確実に抑えることができる。
また、前記突出部が、前記平坦部よりも外側に設けられていると好適である。
上述のように、平坦部にはゴム等の比較的柔らかい材料が用いられるため、他の部材との接触等により損傷を受けやすい。そこで、平坦部よりも外側に突出部を設けることで、柔らかい平坦部を突出部で保護することができ、平坦部の損傷を防ぐことができる。
また、本発明にかかるパージ装置は、前記収容容器を載置するための載置台を有し、前記載置台に搭載されたノズルユニットにより前記収容容器に前記ガスを注入または排出するパージ装置であって、前記ノズルユニットが、上記のいずれかに記載のノズルの先端構造を有することを特徴とするものである。
また、本発明にかかるロードポートは、半導体製造装置に隣接して設けられ、前記載置台に載置された前記収容容器の蓋を開閉するロードポートであって、上記に記載のパージ装置が搭載されていることを特徴とするものである。
このようなパージ装置やロードポートによれば、ノズルを交換することなく、グロメットタイプの収容容器とリップタイプの収容容器の両方に対して、適切にパージを行うことが可能となる。
本発明によれば、収容容器の被当接部と当接可能なノズルの当接部に、平坦部と、平坦部よりも上方に突出した突出部とを設け、さらに、平坦部を突出部よりも柔らかい材料で構成することによって、グロメットタイプの収容容器とリップタイプの収容容器の両方に対応可能なノズルを提供することが可能となる。
本実施形態にかかるロードポートの斜視図である。 ロードポートの載置台の上面図である。 ノズルユニットの縦断面図である。 ノズルユニットの縦断面図である。 ノズルの当接部を示す拡大断面図である。 ノズルとFOUPとの当接状態を示す拡大断面図である。
以下、図面に基づき、本発明の実施形態について説明する。図1は、本実施形態にかかるロードポートの斜視図であり、図2は、ロードポートの載置台の上面図である。以下では、各図面に示す方向を適宜参照しつつ説明を行う。
本実施形態のロードポート1は、被収容物としてのウェハ(不図示)を複数収容する、収容容器としてのFOUP100に対してパージを行うものである。ロードポート1は、半導体製造装置300に隣接して設けられ、FOUP100が載置される載置台2を有している。載置台2は、ベースハウジング3と、ベースハウジング3上に設けられたプレート状のキャリアベース4とを有しており、キャリアベース4にFOUP100が載置されるようになっている。
キャリアベース4に載置されたFOUP100の後方側には、ウェハが通過可能な通過口5が設けられている。通過口5を挟んでFOUP100の反対側には、FOUP100の蓋101を開閉する不図示の開閉機構が設けられている。この開閉機構が、蓋101をFOUP100から取り外すことで、通過口5が開放され、通過口5を介して半導体製造装置300にFOUP100内のウェハを受け渡すことが可能となる。なお、キャリアベース4は、不図示のスライダ機構により前後方向に移動可能とされている。
図1では図示を省略しているが、図2に示すように、キャリアベース4の周縁部には、4つのノズルユニット10が配設されている。4つのノズルユニット10のうち3つは、FOUP100内に不活性ガスを注入するための注入ノズル11Aを備えており、残る1つは、FOUP100内のエアを排出するための排出ノズル11Bを備えている。このように、4つのノズルユニット10は、ガスを注入するものか排出するものかという点で相違するが、基本構成は概ね同じである。なお、以降の説明において、注入ノズル11Aと排出ノズル11Bとを特に区別しない場合には、単にノズル11と表記する。
ノズル11は、ベースハウジング3の上面に形成された開口3aから上方に露出する形態で、ノズルホルダ12により保持されている。ノズルホルダ12にはブラケット7が連結されており、ノズルホルダ12はブラケット7を介してキャリアベース4の周縁部の所定位置に取り付けられている。このため、ノズルユニット10は、上述のスライダ機構により、キャリアベース4と一体的に前後方向に移動可能となっている。
キャリアベース4には、FOUP100を位置決めするためのキネマティックピン8が、キャリアベース4から上方に突出するように複数設けられている。このキネマティックピン8が、FOUP100の底面に複数形成された位置決め溝(不図示)に係合することで、FOUP100がキャリアベース4上で位置決めされる。キャリアベース4の上面には、FOUP100がキャリアベース4上で適切に位置決めされた状態で載置されているか否かを検出する着座センサ9が設置されている。
図3は、ノズルユニットの縦断面図である。上述のように、ノズルユニット10は、ノズル11がノズルホルダ12に保持される構成となっている。ノズル11には、その内部を上下方向に貫通するガス流通路13が形成されている。ノズル11が注入ノズル11Aの場合には、ガス流通路13の下端部に、不活性ガスの供給源(不図示)からの配管が接続される。不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等が用いられる。ノズル11が排出ノズル11Bの場合には、ガス流通路13の下端部に、ガスを吸引する真空ポンプ等の吸引機(不図示)からの配管が接続される。
ノズル11は、昇降機構21によって昇降自在に構成されている。昇降機構21としては、例えば、特許文献1の図4に示すように、エアシリンダを用いた機構や、特許文献1の図7に示すように、2つの圧力室の圧力差を利用する機構を採用することができる。もちろん、これ以外の機構を採用することも可能である。昇降機構21が作動すると、ノズル11は、ノズルホルダ12に対して上下方向に移動する。
ノズル11は、ノズル下部体14とノズル上部体15とに分割されており、ノズル下部体14とノズル上部体15とが連結されることによってノズル11が構成される。ノズル下部体14は金属製であり、その中央部に上下方向に貫通する貫通孔14aが形成されるとともに、貫通孔14aの上端部に雌ネジ部14bが形成されている。また、ノズル上部体15は、金属製の本体16にゴム部材17が装着された構成となっており、本体16の中央部に上下方向に貫通する貫通孔16aが形成されるとともに、本体16の下端部に雄ネジ部16bが形成されている。
ノズル上部体15の雄ネジ部16bを、ノズル下部体14の雌ネジ部14bに螺合させることによって、ノズル11が組み立てられる。このとき、ノズル下部体14の貫通孔14aとノズル上部体15の貫通孔16aとがつながり、ガス流通路13となる。ノズル下部体14とノズル上部体15との間からガスが漏れることを防止するため、Oリング18がノズル下部体14とノズル上部体15との間に配設されている。
ここで、図3に示すFOUP100は、いわゆる「グロメットタイプ」であり、その底面に形成された取付孔102に、円環形状を有するゴム製のグロメット103が取り付けられている。そして、ノズル11の上端部がグロメット103に当接することで、グロメット103の中央の開口104が、ノズル11に形成されたガス流通路13と連通し、ノズル11からFOUP100にガスを注入または排出することが可能となっている。
図4は、図3と同じノズルユニットの縦断面図であるが、図4に示すFOUP200は、いわゆる「リップタイプ」であり、その底面に形成された取付孔202に、バルブ203が取り付けられている。バルブ203は、概ね円筒形状を有するプラスチック製であり、下方に突出するようにR加工された円環形状のリップ部203aを有する。そして、ノズル11の上端部がリップ部203aに当接することで、バルブ203の中央の開口204が、ノズル11に形成されたガス流通路13と連通し、ノズル11からFOUP200にガスを注入または排出することが可能となっている。
つまり、FOUP100、200において、グロメット103およびリップ部203aが、開口104、204の周囲に設けられた「被当接部」として機能する。そして、ノズル10(ノズル上部体15)の上端部に、グロメット103やリップ部203aに当接可能な当接部19が設けられている。当接部19の詳細については、後で説明する。
以上のように構成されたロードポート1においては、OHT(OverHead Transportation)等の不図示の搬送機構によって搬送されたFOUP100(200)が、載置台2のキャリアベース4上に載置される。着座センサ9により、FOUP100(200)が適切に位置決めされた状態で載置されたことが検出されると、昇降機構21によりノズル11が上方に移動させられる。その結果、ノズル11の当接部19が、FOUP100のグロメット103やFOUP200のリップ部203aに当接し、ガス流通路13と開口104(204)とが気密状態で連通する。
この状態で、不活性ガスの供給源から注入ノズル11Aを介してFOUP100(200)に不活性ガスが注入されるとともに、吸引機により排出ノズル11Bを介してFOUP100(200)内のエアが排出されることで、不活性ガスによるパージを行うことができる。なお、載置台2に載置されたFOUP100(200)に対してパージを実行するパージ装置20は、載置台2、載置台2に搭載されたノズルユニット10や昇降機構21、不活性ガスの供給源、吸引機等を備えて構成される。
図5は、ノズルの当接部を示す拡大断面図であり、図6は、ノズルとFOUPとの当接状態を示す拡大断面図である。ノズル11の当接部19は、図6のa図に示すグロメットタイプのFOUP100A、b図に示すグロメットタイプのFOUP100B、およびc図に示すリップタイプのFOUP200にそれぞれ対応できるように、図5に示す形状および寸法を有している。
当接部19は、ガス流通路13側(内側)から外側に向かって順番に、内側突出部19a、平坦部19b、外側突出部19cを有して構成される。これら各部19a、19b、19cは、いずれも円環形状を有しており、互いに同心円状となるように配置されている。内側突出部19aおよび外側突出部19cは、金属製の本体16の一部が、平坦部19bよりも上方に突出するように加工されて構成されている。内側突出部19aおよび外側突出部19cの先端部は、いずれもR加工されており、これらの先端位置は同位置とされている。内側突出部19aと外側突出部19cとの間の凹状空間には、平坦な円環形状を有するゴム部材17が載置されており、このゴム部材17が平坦部19bとなっている。
図5に示すように、内側突出部19aおよび外側突出部19cは、平坦部19bの上面よりも0.5mmだけ上方に突出している。また、内側突出部19aの断面幅は2mm、平坦部19bの断面幅は10mm、外側突出部19cの断面幅は3mmとなっている。すなわち、平坦部19bの幅は、内側突出部19aおよび外側突出部19cよりも広くなっている。また、外側突出部19cの幅は、内側突出部19aよりも広くなっている。
図6のa図に示すように、内径が6.35mm、外径が22.9mmのグロメット103が装着されたFOUP100Aを用いた場合には、ノズル11の内側突出部19aおよび外側突出部19cがそれぞれグロメット103の下面に当接する。また、図6のb図に示すように、内径が14.5mm、外径が23.5mmのグロメット103が装着されたFOUP100Bを用いた場合には、ノズル11の外側突出部19cのみがグロメット103の下面に当接する。また、図6のc図に示すように、内径が14.7mm、外径が17.7mmのリップ部203aを有するFOUP200を用いた場合には、ノズル11の平坦部19bの上面がリップ部203aに当接する。
(効果)
以上のように、本実施形態では、ノズル11の当接部19に、平坦部19bと、平坦部19bよりも上方に突出した突出部19a、19cとを設け、さらに、平坦部19bを突出部19a、19cよりも柔らかい材料で構成している。このため、グロメットタイプのFOUP100を使用する場合には、ノズル11の突出部19a、19cの少なくともいずれか一方がFOUP100のグロメット103に当接することで、ノズル11とFOUP100とを良好に密接させることができる。一方、リップタイプのFOUP200を使用する場合には、突出部19a、19cよりも柔らかい平坦部19bがFOUP200のリップ部203aに当接することで、ノズル11とFOUP200とを良好に密接させることができる。したがって、本実施形態のノズル11によれば、グロメットタイプのFOUP100とリップタイプのFOUP200の両方に対応することができる。
特に本実施形態では、当接部19に複数の突出部19a、19cを設けているので、より多くの種類のグロメットタイプのFOUP100に対応することができる。また、平坦部19bを突出部19a、19cよりも幅広にしているため、より多くの種類のリップタイプのFOUP200に対応することができる。また、突出部19a、19cの先端部がR加工されているので、グロメット103に対する突出部19a、19cの接触形態が概ね線接触となり、面接触の場合と比較して、より良好に突出部19a、19cをグロメット103に密接させることができる。
また、ノズル11では、ゴム部材17からなる平坦部19bの下面と、ゴム部材17が載置される本体16の上面との間に隙間が生じる可能性があり、この隙間がガス漏れの経路となるおそれがある。そこで、本実施形態のように、ガス流通路13と平坦部19bとの間に内側突出部19aを設けることで、ガスが上記隙間に至ることを防止し、ガス漏れを確実に抑えることができる。
また、平坦部19bを構成するゴム部材17は、他の部材との接触等により損傷を受けやすい。そこで、本実施形態のように、平坦部19bよりも外側に外側突出部19cを設けることで、柔らかい平坦部19bを外側突出部19cで保護することができ、平坦部19bの損傷を防ぐことができる。特に、本実施形態では、外側突出部19cが内側突出部19aよりも肉厚となっているため、外側突出部19cの強度が高くなり、上述の効果を高めることができる。
また、本実施形態のノズルユニット10を備えるロードポート1やパージ装置20によれば、ノズル11(あるいはノズル上部体15)を交換することなく、グロメットタイプのFOUP100とリップタイプのFOUP200の両方に対して、適切にパージを行うことが可能となる。
(他の実施形態)
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上記実施形態の要素を適宜組み合わせまたは種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では、パージ装置20を備えたロードポート1について説明を行ったが、パージ装置20の搭載先はロードポート1に限定されない。例えば、パージ装置20を、OHT等の搬送機構によって搬送されたFOUP100(200)を仮置きするための仮置装置や、複数のFOUP100(200)を格納しておくストッカー等に搭載することも可能である。
また、上記実施形態では、収容容器としてFOUP100(200)を使用する場合について説明したが、その内部空間に対してパージが行われるものであれば、FOUP100(200)以外の収容容器を対象としてもよい。
また、上記実施形態では、突出部19a、19cを金属製、平坦部19bをゴム製としたが、各部の材料はこれに限定されない。つまり、平坦部19bが突出部19a、19cよりも柔らかいという関係が成立していれば、突出部19a、19cおよび平坦部19bの材料は適宜変更が可能である。例えば、突出部19a、19cがプラスチック製であってもよい。柔らかさの指標となる物性値としては、例えば弾性係数(ヤング率)、ビッカース硬さ、デュロメーター硬さ等の中から適当なものを採用することができる。
また、上記実施形態では、ノズル11が、ノズル下部体14とノズル上部体15とが連結されて構成されているものとした。しかしながら、ノズル11がノズル下部体14とノズル上部体15とに分割されておらず、1つの部材として構成されていてもよい。
また、上記実施形態では、ノズル11の当接部19に、2つの突出部19a、19cを設けるものとしたが、突出部の数は1つでも3つ以上でもよい。また、平坦部19bの数も1つに限らず、2つ以上設けてもよい。
また、上記実施形態では、平坦部19bの内側に内側突出部19aが設けられ、平坦部19bの外側に外側突出部19cが設けられるものとした。しかしながら、内側突出部19aや外側突出部19cを設けることは必須ではなく、本発明は、少なくとも1つの突出部と、少なくとも1つの平坦部があれば成立するものであり、突出部と平坦部の位置関係も対象とするFOUP100(200)に応じて適宜変更が可能である。
また、上記実施形態では、ノズル11が昇降機能21によって昇降できるように構成した。しかしながら、昇降機構21を設けることは必須ではなく、ノズル11がノズルホルダ12に対して上下方向に移動できないものであってもよい。
なお、FOUP100(200)の開口104(204)の周りに設けられる被当接部を、ノズル11の当接部19を上下反対にしたものとして構成することも可能である。すなわち、FOUP100(200)の被当接部に、平坦部と、平坦部よりも下方に突出した突出部とを設け、平坦部が突出部よりも柔らかい材料で構成されるようにしてもよい。
1:ロードポート
2:載置台
10:ノズルユニット
11:ノズル
13:ガス流通路
19:当接部
19a、19c:突出部
19b:平坦部
20:パージ装置
100:グロメットタイプのFOUP(収容容器)
103:グロメット(被当接部)
104:開口
200:リップタイプのFOUP(収容容器)
203a:リップ部(被当接部)
204:開口

Claims (5)

  1. 被収容物を収容する収容容器の底面に設けられた開口と連通可能なガス流通路を有し、前記ガス流通路および前記開口を介して前記収容容器にガスを注入または排出するノズルの先端構造であって、
    前記ノズルの上端部には、前記開口の周囲に設けられた被当接部に当接可能な当接部が、前記ガス流通路の周囲に設けられており、
    前記当接部は、平坦部と、前記平坦部よりも上方に突出した突出部とを有し、前記平坦部は前記突出部よりも柔らかい材料で構成されていることを特徴とするノズルの先端構造。
  2. 前記突出部が、前記ガス流通路と前記平坦部との間に設けられている請求項1に記載のノズルの先端構造。
  3. 前記突出部が、前記平坦部よりも外側に設けられている請求項1または2に記載のノズルの先端構造。
  4. 前記収容容器を載置するための載置台を有し、前記載置台に搭載されたノズルユニットにより前記収容容器に前記ガスを注入または排出するパージ装置であって、
    前記ノズルユニットが、請求項1ないし3のいずれか1項に記載のノズルの先端構造を有することを特徴とするパージ装置。
  5. 半導体製造装置に隣接して設けられ、前記載置台に載置された前記収容容器の蓋を開閉するロードポートであって、
    請求項4に記載のパージ装置が搭載されていることを特徴とするロードポート。
JP2015057368A 2015-03-20 2015-03-20 ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート Active JP6455261B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015057368A JP6455261B2 (ja) 2015-03-20 2015-03-20 ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート
TW104144485A TWI681824B (zh) 2015-03-20 2015-12-30 噴嘴的前端構造、沖洗裝置及裝載埠
KR1020160016073A KR102484098B1 (ko) 2015-03-20 2016-02-12 노즐의 선단 구조, 퍼지 장치 및 로드 포트
US15/072,823 US9916997B2 (en) 2015-03-20 2016-03-17 End structure of nozzle, purging device, and load port

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015057368A JP6455261B2 (ja) 2015-03-20 2015-03-20 ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016178206A true JP2016178206A (ja) 2016-10-06
JP6455261B2 JP6455261B2 (ja) 2019-01-23

Family

ID=56925023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015057368A Active JP6455261B2 (ja) 2015-03-20 2015-03-20 ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9916997B2 (ja)
JP (1) JP6455261B2 (ja)
KR (1) KR102484098B1 (ja)
TW (1) TWI681824B (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6226190B2 (ja) * 2014-02-20 2017-11-08 Tdk株式会社 パージシステム、及び該パージシステムに供せられるポッド及びロードポート装置
JP6451453B2 (ja) * 2015-03-31 2019-01-16 Tdk株式会社 ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法
JP6561700B2 (ja) * 2015-09-04 2019-08-21 シンフォニアテクノロジー株式会社 ガス注入装置
US11139188B2 (en) * 2017-04-28 2021-10-05 Sinfonia Technology Co., Ltd. Gas supply device, method for controlling gas supply device, load port, and semiconductor manufacturing apparatus
SG11201913051UA (en) * 2017-07-14 2020-01-30 Shin Etsu Polymer Co Ltd Substrate storage container
US11031265B2 (en) 2018-11-28 2021-06-08 Brooks Automation, Inc. Load port module
DE102019100448A1 (de) * 2019-01-10 2020-07-16 Fabmatics Gmbh Schnittstellen-Vorrichtung für eine Spüleinheit zum Spülen eines Wafer-Behälters
KR102012389B1 (ko) * 2019-04-03 2019-08-20 (주)에이이 로드 포트용 퍼지노즐 모듈
KR102183925B1 (ko) * 2020-07-14 2020-11-27 주식회사 엘에스텍 노즐 팁 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004345715A (ja) * 2003-05-26 2004-12-09 Tdk Corp 製品収容容器用パージシステム
JP2011187539A (ja) * 2010-03-05 2011-09-22 Sinfonia Technology Co Ltd ガス注入装置、ガス排出装置、ガス注入方法及びガス排出方法
JP2014036185A (ja) * 2012-08-10 2014-02-24 Sinfonia Technology Co Ltd パージノズルユニット、パージ装置、ロードポート
US20150228516A1 (en) * 2014-02-07 2015-08-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Apparatus and operation method thereof
JP2016039295A (ja) * 2014-08-08 2016-03-22 Tdk株式会社 ガスパージユニット、ロードポート装置およびパージ対象容器の設置台

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2243463A (en) * 1937-08-14 1941-05-27 Fmc Corp Filling valve
US2543788A (en) * 1948-11-30 1951-03-06 American Can Co Filling head having air locked chamber for filling liquids into containers
US5150740A (en) * 1989-10-12 1992-09-29 Crown Cork & Seal Company, Inc. Filling valve
US5398481A (en) * 1992-05-19 1995-03-21 Ebara Corporation Vacuum processing system
US5879458A (en) * 1996-09-13 1999-03-09 Semifab Incorporated Molecular contamination control system
US6164664A (en) * 1998-03-27 2000-12-26 Asyst Technologies, Inc. Kinematic coupling compatible passive interface seal
US7661449B2 (en) * 2003-11-10 2010-02-16 Adcoriindustries, Inc. Filling valve apparatus for a beverage filling machine
JP4254568B2 (ja) * 2004-02-16 2009-04-15 澁谷工業株式会社 充填バルブ
US7328727B2 (en) * 2004-04-18 2008-02-12 Entegris, Inc. Substrate container with fluid-sealing flow passageway
JP3983254B2 (ja) * 2005-06-24 2007-09-26 Tdk株式会社 製品収容容器用パージシステム及び該パージシステムに供せられる台
KR101494024B1 (ko) * 2007-02-28 2015-02-16 엔테그리스, 아이엔씨. 기판 컨테이너를 위한 퍼지 시스템
KR101040540B1 (ko) * 2010-03-31 2011-06-16 (주)이노시티 웨이퍼 저장 장치
JP6131534B2 (ja) * 2012-06-11 2017-05-24 シンフォニアテクノロジー株式会社 パージノズルユニット、ロードポート、載置台、ストッカー
WO2014033794A1 (ja) * 2012-09-03 2014-03-06 平田機工株式会社 吸着ノズル及び吸着装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004345715A (ja) * 2003-05-26 2004-12-09 Tdk Corp 製品収容容器用パージシステム
JP2011187539A (ja) * 2010-03-05 2011-09-22 Sinfonia Technology Co Ltd ガス注入装置、ガス排出装置、ガス注入方法及びガス排出方法
JP2014036185A (ja) * 2012-08-10 2014-02-24 Sinfonia Technology Co Ltd パージノズルユニット、パージ装置、ロードポート
US20150228516A1 (en) * 2014-02-07 2015-08-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Apparatus and operation method thereof
JP2016039295A (ja) * 2014-08-08 2016-03-22 Tdk株式会社 ガスパージユニット、ロードポート装置およびパージ対象容器の設置台

Also Published As

Publication number Publication date
US20160276188A1 (en) 2016-09-22
TWI681824B (zh) 2020-01-11
JP6455261B2 (ja) 2019-01-23
KR20160112935A (ko) 2016-09-28
US9916997B2 (en) 2018-03-13
KR102484098B1 (ko) 2023-01-03
TW201634135A (zh) 2016-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6455261B2 (ja) ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート
US9174253B2 (en) Purge nozzle unit, purge apparatus and load port
JP6519897B2 (ja) パージノズルユニット、ロードポート
JP5887719B2 (ja) パージ装置、ロードポート、ボトムパージノズル本体、ボトムパージユニット
US9786531B2 (en) Gas purge unit, load port apparatus, and installation stand for purging container
JP6459682B2 (ja) ガスパージ装置、ロードポート装置およびガスパージ方法
US10014200B2 (en) Gas injection device and assisting member
US20150024671A1 (en) Efem and load port
KR101593386B1 (ko) 퍼지 모듈 및 이를 포함하는 로드 포트
JP6554872B2 (ja) ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法
JP5939080B2 (ja) パージノズルユニット、パージ装置、ロードポート
JP2004345715A (ja) 製品収容容器用パージシステム
JP2015035612A (ja) ノズル駆動ユニットおよびガス注入装置
TW201903838A (zh) 用於晶圓容器的氣體供應裝置
US11201072B2 (en) Purge nozzle module for load port
JP7081119B2 (ja) ロードポート装置
JP7423429B2 (ja) 基板収納容器
JP6323245B2 (ja) ガスパージユニット、ロードポート装置およびパージ対象容器の設置台
TWI763773B (zh) 氣體供給裝置、氣體供給裝置之控制方法、裝載埠及半導體製造裝置
KR20210001429A (ko) 선반 유닛 및 이를 포함하는 스토커
US20180315632A1 (en) Gas supply device, method for controlling gas supply device, load port, and semiconductor manufacturing apparatus
JP6882698B2 (ja) パージノズルユニット、ロードポート
JP2017139486A (ja) パージノズルユニット、ロードポート、ストッカー

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180213

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181026

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181120

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181203

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6455261

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250