JP2016151426A - 分光蛍光光度計及びそれに用いられる補正関数作成方法 - Google Patents
分光蛍光光度計及びそれに用いられる補正関数作成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016151426A JP2016151426A JP2015027528A JP2015027528A JP2016151426A JP 2016151426 A JP2016151426 A JP 2016151426A JP 2015027528 A JP2015027528 A JP 2015027528A JP 2015027528 A JP2015027528 A JP 2015027528A JP 2016151426 A JP2016151426 A JP 2016151426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- correction function
- light
- wavelength
- ref
- fluorescence
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 57
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 55
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 42
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000002189 fluorescence spectrum Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 70
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 96
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 32
- 230000008569 process Effects 0.000 description 31
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 11
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000695 excitation spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
【解決手段】照射部10における光強度の波長分光特性を示す励起側スペクトル補正関数Fex(λ)、検出部30における光強度の波長分光特性を示す蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)、光検出器32で検出された蛍光波長領域λem1〜λem2の光強度Iem(λex,λem1)〜Iem(λex,λem2)に基づいて、蛍光スペクトルI(λem1)〜I(λem2)を作成する制御部41を備える分光蛍光光度計1であって、リファレンス光検出器14における光強度の波長分光特性を示すリファレンススペクトル補正関数Fref(λ)を記憶した記憶部44を備えた構成とする。
【選択図】図1
Description
そこで、分子が発する蛍光がどのようなものであるかを検討するために、或る励起波長Λexの光を試料に照射し、そのときに試料から放出される蛍光スペクトルを測定する分光蛍光光度計が開発されている(例えば、特許文献1参照)。
分光蛍光光度計101は、励起波長λexの光を出射する照射部10と、試料Sが配置される試料室20と、蛍光波長λemの光強度Iem(λex,λem)を検出する検出部30と、分光蛍光光度計101全体を制御するコンピュータ140とを備える。
試料室20には、分析試料Sが収納された10mmキュベットセル等が配置されるようになっている。
凹面回折格子12は、コンピュータ140によって回転されるようなっており、任意の励起波長λexの光を試料Sに対して照射することができるようになっている。
そして、リファレンス光検出器14は、Si−PD(シリコンフォトダイオード)や光電子増倍管等であり、ビームスプリッタ16からの反射光を検出し、光源モニタ値として光強度Iref(λex)をコンピュータ140に出力する。
凹面回折格子31は、コンピュータ140によって回転されるようなっており、任意の蛍光波長λemの光を光検出器32に対して出射することができるようになっている。これにより、凹面回折格子31は、コンピュータ140によって回転されながら、所定領域の蛍光波長λem1〜λem2の光を光検出器32に対して出射することができるようになっている。
まず、分析者は、所定濃度のローダミンB溶液Saが収納された10mmキュベットセルを試料室20に配置する。次に、分析者は入力装置42を用いて光検出器制御部41bを制御することにより、ローダミンB溶液Saからの蛍光波長Λem(例えば640nm)の光強度Iem(λex,Λem)を検出するようにセットする。そして、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、凹面回折格子12を回転させながら、ローダミンB溶液Saに対して励起波長範囲λex1〜λex2(例えば200nm〜600nm)の光を照射するとともに、リファレンス光検出器14は、光強度Iref(λex1)〜Iref(λex2)を検出する。また、光検出器制御部41bは、励起波長λex1にセットされた際に得られた光強度Iem(λex1,Λem)、・・・、励起波長λex2にセットされた際に得られた光強度Iem(λex2,Λem)を取得する。そして、下記式(1)が成立することにより、分析者は、「励起側スペクトル補正関数Fex(λ)」として「Iem(λ,Λem)/Iref(λ)」をメモリ144に記憶させる。
Iem(λ,Λem)=Iref(λ)×Fex(λ) ・・・(1)
IemB(λ,λ)=IemR(Λex,λ)×Fem(λ) ・・・(2)
まず、分析者は、標準光源Scを試料室20に配置する。次に、分析者は標準光源Scを制御することにより、標準光源Scから検出部30に対して光を照射する。これにより、光検出器制御部41bは、凹面回折格子31を回転させながら、光検出器32からの光強度Iem(λem)を蛍光波長範囲λem1〜λem2(例えば200nm〜600nm)で取得する。そして、下記式(3)が成立することにより、分析者は、「蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)」として「Iem(λ)/IStd(λ)」をメモリ144に記憶させる。
Iem(λ)=IStd(λ)×Fem(λ) ・・・(3)
Iem(λ,λ)=Fex(λ)×Fem(λ) ・・・(4)
上述したような分光蛍光光度計101では、試料Sへ照射する前の励起光の一部を取り出して、その光強度Iref(Λex)をリファレンス光検出器14で測定し、光検出器32で測定された光強度Iem(Λex,λem)に比演算処理を行うことにより、光源11の出力の不安定性を補正している。
Iref’(λ)=Fex’(λ)×Fref(λ) ・・・(5’)
すなわち、分光蛍光光度計内に構成されている部品(リファレンス光検出器)を用いて、「励起側スペクトル補正関数Fex(λ)」や「蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)」を容易に作成することができる。
また、上記発明において、上述したような分光蛍光光度計に用いられるリファレンススペクトル補正関数Fref(λ)を作成する補正関数作成方法であって、励起側スペクトル補正関数Fex(λ)を前記記憶部に記憶させるステップと、前記光源から出射された光の励起波長λexを走査しながら、前記リファレンス光検出器からの光強度Iref(λex)を取得するステップと、下記式(5)に基づいて、リファレンススペクトル補正関数Fref(λ)を作成するステップとを含むようにしてもよい。
Iref(λ)=Fex(λ)×Fref(λ) ・・・(5)
Iref’(λ)=Fex’(λ)×Fref(λ) ・・・(5’)
Iem’(λ,λ)=Fex(λ)×Fsph(λ)/Fref(λ) ・・・(8)
分光蛍光光度計1は、励起波長λexの光を出射する照射部10と、試料Sが配置される試料室20と、蛍光波長λemの光強度Iem(λex,λem)を検出する検出部30と、分光蛍光光度計1全体を制御するコンピュータ40とを備える。
メモリ44には、「励起側スペクトル補正関数Fex(λ)」と、「蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)」と、「リファレンススペクトル補正関数Fref(λ)」とが記憶されるようになっている。
この補正関数作成方法は、以下に述べる「蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)」作成ステップAと、「励起側スペクトル補正関数Fex(λ)」作成ステップBと、「リファレンススペクトル補正関数Fref(λ)」作成ステップCとを含むものである。
まず、ステップS101の処理において、分析者は、標準光源Scを試料室20にセットする。次に、分析者は標準光源Scを制御することにより、標準光源Scから検出部30に対して光を照射する。
そして、ステップS102の処理において、光検出器制御部41bは、凹面回折格子31を回転させながら、光検出器32からの光強度Iem(λem)を蛍光波長範囲λem1〜λem2(例えば200nm〜600nm)で取得する。
次に、ステップS103の処理において、分析者は、前記の式(3)に基づいて、「蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)」として「Iem(λ)/IStd(λ)」をメモリ44に記憶させる。
次に、ステップS104の処理において、分析者は、所定角度となるように硫酸バリウム板Sbを試料室20にセットする。
次に、ステップS105の処理において、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、硫酸バリウム板Sbに対して励起波長λex1(例えば200nm)の光を照射する。そして、分析者は入力装置42を用いて光検出器制御部41bを制御することにより、光検出器32からの蛍光波長λem1(例えば200nm)の光強度Iem(λex1,λem1)を取得する。次に、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、硫酸バリウム板Sbに対して励起波長λex2(例えば210nm)の光を照射する。そして、分析者は入力装置42を用いて光検出器制御部41bを制御することにより、光検出器32からの蛍光波長λem2(例えば210nm)の光強度Iem(λex2,λem2)を取得する。このようにして照射部制御部41aの励起波長λexと、光検出器制御部41bの蛍光波長λemとを互いに等しく保ちながら、例えば200nmから600nmまでの波長範囲を波長走査して同期スペクトルを取得する。
次に、ステップS106の処理において、分析者は、前記の式(4)に基づいて、「励起側スペクトル補正関数Fex(λ)」として「Iem(λ,λ)/Fem(λ)」をメモリ44に記憶させる。
次に、ステップS107の処理において、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、光源11から励起波長λex1(例えば200nm)の光を照射する。そして、リファレンス光検出器14から励起波長λex1(例えば200nm)の光強度Iref(λex1)を取得する。次に、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、光源11から励起波長λex2(例えば210nm)の光を照射する。そして、リファレンス光検出器14から励起波長λexm2(例えば210nm)の光強度Iref(λex2)を取得する。このようにして例えば200nmから600nmまでの波長範囲を波長走査して光強度Iref(λex1)〜Iref(λex2)を取得する。
次に、ステップS108の処理において、分析者は、前記の式(5)に基づいて、「リファレンススペクトル補正関数Fref(λ)」として「Iref(λ)/Fex(λ)」をメモリ44に記憶させる。
そして、ステップS108の処理が終了したときには、本フローチャートを終了させる。
(1)光源11や凹面回折格子12やミラー15を交換した場合
「励起側スペクトル補正関数Fex(λ)」から「励起側スペクトル補正関数Fex’(λ)」に更新する補正関数作成方法の一例について、図3のフローチャートを用いて説明する。
まず、ステップS201の処理において、分析者は、入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、光源11からの励起波長λex1(例えば200nm)の光を照射する。そして、リファレンス光検出器14から励起波長λex1(例えば200nm)の光強度Iref’(λex1)を取得する。次に、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、光源11からの励起波長λex2(例えば210nm)の光を照射する。そして、リファレンス光検出器14から励起波長λex2(例えば210nm)の光強度Iref’(λex2)を取得する。このようにして例えば200nmから600nmまでの波長範囲を波長走査して光強度Iref’(λex1)〜Iref’(λex2)を取得する。
そして、ステップS202の処理が終了したときには、本フローチャートを終了させる。
「蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)」から「蛍光側スペクトル補正関数Fem’(λ)」に更新する補正関数作成方法の一例について、図4のフローチャートを用いて説明する。
まず、ステップS301の処理において、分析者は、所定角度となるように硫酸バリウム板Sbを試料室20にセットする。
次に、ステップS302の処理において、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、硫酸バリウム板Sbに対して励起波長λex1(例えば200nm)の光を照射する。そして、分析者は入力装置42を用いて光検出器制御部41bを制御することにより、凹面回折格子31を所定角度に回転させて、光検出器32からの蛍光波長λem1(例えば200nm)の光強度Iem’(λex1,λem1)を取得する。次に、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、硫酸バリウム板Sbに対して励起波長λex2(例えば210nm)の光を照射する。そして、分析者は入力装置42を用いて光検出器制御部41bを制御することにより、凹面回折格子31を所定角度に回転させて、光検出器32からの蛍光波長λem2(例えば210nm)の光強度Iem’(λex2,λem2)を取得する。このようにして照射部制御部41aの励起波長λexと、光検出器制御部41bの蛍光波長λemとを互いに等しく保ちながら、例えば200nmから600nmまでの波長範囲を波長走査して同期スペクトルを取得する。
Iem’(λ,λ)=Fex(λ)×Fem’(λ) ・・・(4’)
そして、ステップS303の処理が終了したときには、本フローチャートを終了させる。
「リファレンススペクトル補正関数Fref(λ)」から「リファレンススペクトル補正関数Fref’(λ)」に更新する補正関数作成方法の一例について、図5のフローチャートを用いて説明する。
まず、ステップS401の処理において、分析者は、所定角度となるように硫酸バリウム板Sbを試料室20にセットする。
Iem’(λ,Λem)=K(λ)×Fex(λ) ・・・(6)
Iem’’(λ,Λem)=(K(λ)×Fex(λ))/(Fex(λ)×Fref’(λ)) ・・・(7)
そして、ステップS404の処理が終了したときには、本フローチャートを終了させる。
「積分球使用時蛍光側スペクトル補正関数Fsph(λ)」を作成する補正関数作成方法の一例について、図6のフローチャートを用いて説明する。
まず、ステップS501の処理において、分析者は、積分球Sdを試料室20にセットする。そして、光が積分球Sdの白色面に当たるようにセットする。
次に、ステップS503の処理において、分析者は、前記の式(8)に基づいて、「積分球使用時蛍光側スペクトル補正関数Fsph(λ)」として「(Iem’(λ,λ)×Fref(λ))/Fex(λ)」をメモリ44に記憶させる。
そして、ステップS503の処理が終了したときには、本フローチャートを終了させる。
本発明の分光蛍光光度計1による分析方法の一例について、図7のフローチャートを用いて説明する。
まず、ステップS601の処理において、分析者は、試料Sが収納された10mmキュベットセルを試料室20にセットする。
次に、ステップS602の処理において、分析者は入力装置42を用いて照射部制御部41aを制御することにより、試料Sに対して励起波長Λex(例えば350nm)の光を照射する。このとき、リファレンス光検出器14からの励起波長Λexの光強度Iref(Λex)を取得する。
次に、ステップS604の処理において、分析部41cは、光強度Iem(Λex,λem1)〜Iem(Λex,λem2)と「蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)」とに基づいて、下記式(9)に示す真の蛍光スペクトルB(Λex,λem1)〜B(Λex,λem2)を作成するとともに、光強度Iref(Λex)と「励起側スペクトル補正関数Fex(λ)」とリファレンススペクトル補正関数Fref(λ)とに基づいて、下記式(10)に示す真の励起スペクトルA(Λex)を作成することで、蛍光スペクトルI(λem1)〜I(λem2)を作成する。
B(Λex,λ)=Iem(Λex,λ)/Fem(λ) ・・・(9)
A(Λex)=Iref(Λex)×Fref(Λex) ・・・(10)
10 照射部
11 光源
12 凹面回折格子
14 リファレンス光検出器
16 ビームスプリッタ
20 試料室
30 検出部
31 凹面回折格子
32 光検出器
41 CPU(制御部)
44 メモリ(記憶部)
Claims (4)
- 白色光を出射する光源と、当該白色光を波長分解し励起波長λexの光を試料に対して照射する回折格子と、前記励起波長λexの光強度Iref(λex)を検出するリファレンス光検出器と、前記励起波長λexの光をリファレンス光検出器と試料とに分割して出射するビームスプリッタとを備える照射部と、
前記試料が配置される試料室と、
前記試料から放出される蛍光を波長分解し蛍光波長λemの光を光検出器に対して出射する回折格子と、蛍光波長λemの光強度Iem(λex,λem)を検出する光検出器とを備える検出部と、
前記照射部における光強度の波長分光特性を示す励起側スペクトル補正関数Fex(λ)、前記検出部における光強度の波長分光特性を示す蛍光側スペクトル補正関数Fem(λ)及び前記光検出器で検出された蛍光波長領域λem1〜λem2の光強度Iem(λex,λem1)〜Iem(λex,λem2)に基づいて、蛍光スペクトルI(λex,λem1)〜I(λex,λem2)を作成する制御部とを備える分光蛍光光度計であって、
前記リファレンス光検出器における光強度の波長分光特性を示すリファレンススペクトル補正関数Fref(λ)を記憶した記憶部を備えることを特徴とする分光蛍光光度計。 - 請求項1に記載の分光蛍光光度計に用いられるリファレンススペクトル補正関数Fref(λ)を作成する補正関数作成方法であって、
励起側スペクトル補正関数Fex(λ)を前記記憶部に記憶させるステップと、
前記光源から出射された光の励起波長λexを走査しながら、前記リファレンス光検出器からの光強度Iref(λex)を取得するステップと、
下記式(5)に基づいて、リファレンススペクトル補正関数Fref(λ)を作成するステップとを含むことを特徴とする補正関数作成方法。
Iref(λ)=Fex(λ)×Fref(λ) ・・・(5) - 請求項1に記載の分光蛍光光度計を用いて、励起側スペクトル補正関数Fex’(λ)を作成する補正関数作成方法であって、
前記照射部における前記光源及び/又は前記回折格子を交換するステップと、
前記光源から出射された光の励起波長λexを走査しながら、前記リファレンス光検出器からの光強度Iref’(λex)を取得するステップと、
下記式(5’)に基づいて、「励起側スペクトル補正関数Fex’(λ)」を作成するステップとを含むことを特徴とする補正関数作成方法。
Iref’(λ)=Fex’(λ)×Fref(λ) ・・・(5’) - 請求項1に記載の分光蛍光光度計において積分球使用時蛍光側スペクトル補正関数Fsph(λ)を作成する補正関数作成方法であって、
前記試料室に積分球を配置するステップと、
前記光源から出射された光の励起波長λexと前記光検出器に出射される光の蛍光波長λemとを等しく保ちながら走査することで、前記光検出器からの光強度Iem’(λex,λem)を取得するステップと、
下記式(8)に基づいて、「積分球使用時蛍光側スペクトル補正関数Fsph(λ)」を作成するステップとを含むことを特徴とする補正関数作成方法。
Iem’(λ,λ)=Fex(λ)×Fsph(λ)/Fref(λ) ・・・(8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015027528A JP6287883B2 (ja) | 2015-02-16 | 2015-02-16 | 分光蛍光光度計及びそれに用いられる補正関数作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015027528A JP6287883B2 (ja) | 2015-02-16 | 2015-02-16 | 分光蛍光光度計及びそれに用いられる補正関数作成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016151426A true JP2016151426A (ja) | 2016-08-22 |
JP6287883B2 JP6287883B2 (ja) | 2018-03-07 |
Family
ID=56696312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015027528A Active JP6287883B2 (ja) | 2015-02-16 | 2015-02-16 | 分光蛍光光度計及びそれに用いられる補正関数作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6287883B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106404173A (zh) * | 2016-08-30 | 2017-02-15 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 校正光谱漂移的方法及装置 |
EP3392630A1 (en) | 2017-04-19 | 2018-10-24 | Shimadzu Corporation | Quantum yield calculation method, spectrophotofluorometer and quantum yield calculation program |
JP2019020362A (ja) * | 2017-07-21 | 2019-02-07 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 分光蛍光光度計ならびに分光蛍光測定及び画像撮像方法 |
JP2021071339A (ja) * | 2019-10-30 | 2021-05-06 | 大塚電子株式会社 | 光学測定方法および処理装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3936190A (en) * | 1973-04-16 | 1976-02-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Fluorescence spectrophotometer for absorption spectrum analysis |
JPH0572039A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-03-23 | Hitachi Ltd | 分光蛍光光度計のスペクトル補正方法及びスペクトル補正機能付分光蛍光光度計 |
JP2006300632A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Shimadzu Corp | 蛍光分光光度計における励起スペクトル補正方法 |
JP2008070172A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 分光蛍光光度計及びその補正方法 |
JP2010181205A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Shimadzu Corp | 分光蛍光光度計 |
-
2015
- 2015-02-16 JP JP2015027528A patent/JP6287883B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3936190A (en) * | 1973-04-16 | 1976-02-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Fluorescence spectrophotometer for absorption spectrum analysis |
JPH0572039A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-03-23 | Hitachi Ltd | 分光蛍光光度計のスペクトル補正方法及びスペクトル補正機能付分光蛍光光度計 |
JP2006300632A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Shimadzu Corp | 蛍光分光光度計における励起スペクトル補正方法 |
JP2008070172A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 分光蛍光光度計及びその補正方法 |
JP2010181205A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Shimadzu Corp | 分光蛍光光度計 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106404173A (zh) * | 2016-08-30 | 2017-02-15 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 校正光谱漂移的方法及装置 |
EP3392630A1 (en) | 2017-04-19 | 2018-10-24 | Shimadzu Corporation | Quantum yield calculation method, spectrophotofluorometer and quantum yield calculation program |
US10267681B2 (en) | 2017-04-19 | 2019-04-23 | Shimadzu Corporation | Quantum yield calculation method, spectrophotofluorometer, and quantum yield calculation program |
JP2019020362A (ja) * | 2017-07-21 | 2019-02-07 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 分光蛍光光度計ならびに分光蛍光測定及び画像撮像方法 |
US10551315B2 (en) | 2017-07-21 | 2020-02-04 | Hitachi High-Tech Science Corporation | Fluorescence spectrophotometer and fluorescence spectrometry and imaging method |
JP2021071339A (ja) * | 2019-10-30 | 2021-05-06 | 大塚電子株式会社 | 光学測定方法および処理装置 |
JP7279937B2 (ja) | 2019-10-30 | 2023-05-23 | 大塚電子株式会社 | 光学測定方法および処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6287883B2 (ja) | 2018-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6287883B2 (ja) | 分光蛍光光度計及びそれに用いられる補正関数作成方法 | |
KR101716902B1 (ko) | 분광 측정 장치, 분광 측정 방법, 및 분광 측정 프로그램 | |
JP6098891B2 (ja) | シリコン単結晶の炭素濃度測定方法 | |
TWI591323B (zh) | Spectrophotometer and spectrophotometer | |
JP5090837B2 (ja) | 分光測定装置、分光測定方法、及び分光測定プログラム | |
TWI683092B (zh) | 分光測定裝置及分光測定方法 | |
JP4418731B2 (ja) | フォトルミネッセンス量子収率測定方法およびこれに用いる装置 | |
CN108732146B (zh) | 量子产率计算方法、荧光分光光度计以及存储介质 | |
JP2017026599A (ja) | 水素ガス検査方法および水素ガス検査装置 | |
WO2020135540A1 (zh) | 一种量子产率的测试方法 | |
JP2004163312A (ja) | 測定装置、蛍光測定装置及び蛍光測定方法 | |
RU2015132842A (ru) | Способ и устройство для определения концентрации | |
CN104422516B (zh) | 分光器所用的波长校准方法以及分光光度计 | |
JP2010181205A (ja) | 分光蛍光光度計 | |
Rezaei | Two-lines method for estimation of plasma temperature and characterization of plasma parameters in optically thick plasma conditions | |
US10184886B2 (en) | Atomic absorption photometer and atomic absorption measurement method | |
JP5902883B2 (ja) | 分光蛍光光度計 | |
JP3716303B2 (ja) | 光感応型発光素子の発光効率測定方法及び装置 | |
WO2014175363A1 (ja) | 成分濃度計測装置と方法 | |
JP2012242276A (ja) | 分光光度計 | |
TW201946083A (zh) | 用於光電陰極照明檢測之系統及方法 | |
JP2013135170A (ja) | 太陽電池のライフタイム画像の画像取得システム及び画像取得方法 | |
JP5488360B2 (ja) | 分光蛍光光度計 | |
JP5846364B2 (ja) | 水質評価方法及び水質評価装置 | |
JP6314872B2 (ja) | 含有蛍光成分数決定方法及びその含有蛍光成分数決定方法を用いた分光蛍光光度計 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171024 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171027 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180109 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180122 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6287883 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |