JP2016136580A - 基板処理装置、ハウジングおよび処理ユニット - Google Patents
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Abstract
【課題】より柔軟に処理ユニットを選択および配置できる基板処理装置、ならびに、そのような基板処理装置用のハウジングおよび処理ユニットを提供する。
【解決手段】本発明の一態様によれば、複数の区画(1a)に区分されたハウジング(1)と、前記複数の区画(1a)の少なくとも一部に着脱可能に配置され、被処理基板(W)を処理する処理ユニット(2)と、を備え、前記複数の区画(1a)には、互いに共通する位置に第1接続部が設けられ、前記処理ユニット(2)は、前記第1接続部と接続される第2接続部を有する、基板処理装置が提供される。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の一態様によれば、複数の区画(1a)に区分されたハウジング(1)と、前記複数の区画(1a)の少なくとも一部に着脱可能に配置され、被処理基板(W)を処理する処理ユニット(2)と、を備え、前記複数の区画(1a)には、互いに共通する位置に第1接続部が設けられ、前記処理ユニット(2)は、前記第1接続部と接続される第2接続部を有する、基板処理装置が提供される。
【選択図】図1
Description
本発明は、被処理基板を処理する基板処理装置、ならびに、基板処理装置用のハウジングおよび処理ユニットに関する。
CMP(Chemical Mechanical Polishing)装置などの基板処理装置は、ユーザが要求する様々な機能を実現するために、研磨ユニットの他にも多くの処理ユニットを備えている(先行文献1)。例えば、研磨後の被処理基板を洗浄する洗浄部には、ロール型洗浄ユニット、ペン型洗浄ユニット、乾燥ユニットなどが処理ユニットとして設けられる。
ところで、半導体プロセスが進化した場合には、新たな半導体プロセスに適合した処理ユニットが必要となることがある。また、より高性能な処理ユニットが新たに開発された場合には、古い処理ユニットを新たな処理ユニットに取り換えたい場合もある。そのため、処理ユニットの自由な選択や配置を可能とするフレキシブルレイアウトを望むユーザも多い。
しかしながら、通常の基板処理装置は各処理ユニットが固定で設けられており、そのような柔軟性はない。
しかしながら、通常の基板処理装置は各処理ユニットが固定で設けられており、そのような柔軟性はない。
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、より柔軟に処理ユニットを選択および配置できる基板処理装置、ならびに、そのような基板処理装置用のハウジングおよび処理ユニットを提供することである。
本発明の一態様によれば、複数の区画に区分されたハウジングと、前記複数の区画の少なくとも一部に着脱可能に配置され、被処理基板を処理する処理ユニットと、を備え、前記複数の区画には、互いに共通する位置に第1接続部が設けられ、前記処理ユニットは、前記第1接続部と接続される第2接続部を有する、基板処理装置が提供される。
前記処理ユニットは、前記被処理基板を処理する処理モジュールと、前記処理モジュールを制御する個別制御部と、有していてもよい。
前記処理ユニットは、前記被処理基板を処理する処理モジュールと、前記処理モジュールを制御する個別制御部と、有していてもよい。
望ましくは、ユーザから前記処理モジュールの設定を受け付ける制御装置を備え、前記第1接続部および前記第2接続部を介して前記制御装置と前記個別制御部とが接続される。
また、望ましくは、前記処理ユニットは、内部に前記処理モジュールが配置される筐体を有し、前記第1接続部は、前記区画の上部に設けられ、前記個別制御部は、前記筐体上に設けられ、前記第1接続部と接続される。
また、望ましくは、前記処理ユニットは、基板搬入口および基板搬出口が設けられ、内部に前記処理モジュールが配置される筐体を有し、当該基板処理装置は、1つの前記処理ユニットの前記基板搬出口から、他の前記処理ユニットの基板搬入口に前記被処理基板を搬送する搬送機構を備える。
前記第1接続部は、電源供給部、ネットワーク接続部、制御信号接続部、液体供給口、液体排出口、および、排気ライン接続口のうちの少なくとも1つを含んでもよい。
前記第2接続部は、前記第1接続部と対応する位置に設けられるのが望ましい。
前記処理ユニットは、研磨ユニット、洗浄ユニットまたは乾燥ユニットであってもよい。
前記第2接続部は、前記第1接続部と対応する位置に設けられるのが望ましい。
前記処理ユニットは、研磨ユニット、洗浄ユニットまたは乾燥ユニットであってもよい。
また、本発明の別の態様によれば、基板処理装置用のハウジングであって、当該ハウジングは、被処理基板を処理する処理ユニットが着脱可能に配置され得る複数の区画に区分されており、前記複数の区画には、互いに共通する位置に、前記処理ユニットの第2接続部と接続される第1接続部が設けられる、ハウジングが提供される。
また、本発明の別の態様によれば、上記ハウジングの区画に配置される処理ユニットであって、前記第1接続部と対応する位置に前記第2接続部が設けられる、処理ユニットが提供される。
より柔軟に処理ユニットを選択および配置できる。
以下、本発明に係る実施形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略正面図である。基板処理装置は、ハウジング1と、処理ユニット2と、搬送機構3と、制御装置4とを備えている。
ハウジング1は複数の区画1aに区分されている。図1では、ハウジング1の上段および下段にそれぞれ3つの区画1aが1列に並ぶ例を示しているが、区画1aの段数、配置などに特に制限はない。例えば、3段以上の区画1aがあってもよいし、区画1aが複数列で並んでいてもよい。また、区画1aどうしは大きさや形状が同じであるのが望ましいが、異なっていても構わない。
処理ユニット2は各区画1aに着脱可能に配置される。必ずしも全区画1aに処理ユニット2が配置される必要はなく、少なくとも一部の区画1aには処理ユニット2が配置されておらず、将来的に処理ユニット2を追加可能としてもよい。処理ユニット2は、例えば被処理基板Wを研磨する研磨ユニット、研磨後の被処理基板Wを洗浄液を用いて洗浄する洗浄ユニット、洗浄後の被処理基板Wを乾燥させる乾燥ユニットなどである。
搬送機構3は処理ユニット2間で被処理基板Wを搬送する。より具体的には、搬送機構3は上下に移動することで、上段(下段)の処理ユニット2で処理された被処理基板Wを下段(上段)の処理ユニット2に搬送できる。また、搬送機構3は水平面内で回転することで、ある処理ユニット2で処理された被処理基板Wを隣接する処理ユニット2に搬送できる。
制御装置4は各処理ユニット2についての種々の設定をユーザから受け付ける。具体例として、制御装置4は入力インターフェース4aを介してユーザから設定を受け付けることができる。あるいは、制御装置4は、工場にあるホストコンピュータから工場内のネットワークを介して、ユーザから設定を受け付けてもよい。受け付けた設定は、各処理ユニット2が有する個別制御部(後述)に伝送される。
本実施形態は、処理ユニット2を各区画1aに着脱可能とした点に1つの特徴がある。以下、着脱可能とするための機構について説明する。
本実施形態は、処理ユニット2を各区画1aに着脱可能とした点に1つの特徴がある。以下、着脱可能とするための機構について説明する。
図2は、各区画1aの概略斜視図である。各区画1aは例えば直方体形状である。隣接する区画1aとの間で被処理基板Wを搬送するために、側面の壁に開口11が設けられる。図2は上段の区画1aを例示しており、下段の区画1aとの間で被処理基板Wを搬送するために、床面に開口12が設けられる。一方、下段の区画1aにおいては、上段の区画1aとの間で被処理基板Wを搬送するために、天井面に開口が設けられる。なお、各区画1aは必ずしも壁面に囲まれていなくてもよい。
また、各区画1aには、接続部として、電源供給部51、ネットワーク接続部52、制御信号接続部53、薬液供給口54、薬液排出口55、純水供給口56、純水排出口57、排気ライン接続口58などが設けられる。
電源供給部51は、例えば外部から電源が供給されるコンセントである。ネットワーク接続部52は、例えば外部と通信するためのLAN端子である。制御信号接続部53は、例えば制御装置4と通信するためのCC−Link端子である。これら電源供給部51、ネットワーク接続部52および制御信号接続部53は、例えば区画1aの上部に隣接して配置される。
薬液供給口54は、区画1aの外部に設けられる薬液供給機構(不図示)から、区画1aに配置された処理ユニット2に薬液を供給する。薬液排出口55は処理ユニット2から区画1aの外部に薬液を排出する。純水供給口56は、区画1aの外部に設けられる純水供給機構(不図示)から、区画1aに配置された処理ユニット2に純水を供給する。純水排出口57は処理ユニット2から区画1aの外部に純水を排出する。これら薬液供給口54、薬液排出口55、純水供給口56および純水排出口57は、例えば区画1aの床面に配置される。
排気ライン接続口58は区画1aの外部に設けられる排気ライン(不図示)に接続されており、排気ライン接続口58を介して、区画1aに配置された処理ユニット2内の空気が区画1a外に排気される。排気ライン接続口58は、例えば区画1aの側面に設けられる。
これらの接続部は各区画1a間で互いに共通する位置に設けられる。これにより、各区画1aに配置する処理ユニット2を柔軟に入れ替えることができる。
これらの接続部は各区画1a間で互いに共通する位置に設けられる。これにより、各区画1aに配置する処理ユニット2を柔軟に入れ替えることができる。
図3は、各処理ユニット2の概略斜視図である。処理ユニット2は、筐体21と、筐体21内に設けられた処理モジュール22と、筐体21上に設けられた個別制御部23とを有する。処理モジュール22とは、研磨モジュール、洗浄モジュール、乾燥モジュールなどであり、具体例は後述する。
筐体21の側面には、被処理基板Wを搬送するための開口211が設けられる。筐体21の対向する2つの側面に2つの開口211が設けられ、一方が搬入用に使用され、他方が搬出用に使用されてもよい。開口211が設けられる位置は、各処理ユニット2間で互いに共通していてもよいし、異なっていてもよい。異なっている場合でも、搬送機構3が移動することで、開口211の位置の違いを吸収できる。また、処理ユニット2を区画1aから出し入れしやすいよう、筐体21の下面に車輪(不図示)を設けてもよいし、筐体21の側面外側にレール(不図示)を設けてもよい。
筐体21内を排気する必要がある場合、筐体21には排気口212が接続部として設けられ、区画1aの排気ライン接続口58と接続される。排気口212は、区画1aの排気ライン接続口58と対応する位置に設けられるのが望ましく、例えば排気ライン接続口58と対向して設けられると接続が容易である。筐体21内を排気する必要がない場合、筐体21には排気口212を設けなくてもよい。
処理モジュール22が薬液を用いる場合、筐体21には薬液供給口213および薬液排出口214が接続部として設けられ、区画1aの薬液供給口54および薬液排出口55とそれぞれ接続される。同様に、処理モジュール22が純水を用いる場合、筐体21には純水供給口215および純水排出口216が接続部として設けられ、区画1aの純水供給口56および純水排出口57とそれぞれ接続される。薬液供給口213、薬液排出口214、純水供給口215および純水排出口216は、区画1aの薬液供給口54、薬液排出口55、純水供給口56および純水排出口57とそれぞれ対応する位置に設けられるのが望ましく、例えばそれぞれが対向して設けられると接続が容易である。
個別制御部23は、区画1aの電源供給部51、ネットワーク接続部52および制御信号接続部53とそれぞれ接続される接続部231〜233を有する。個別制御部23は制御信号接続部53を介して図1の制御装置4と接続され、ユーザからの設定に基づく制御信号を受け取る。ユーザからの設定とはレシピなどであり、このレシピには、処理モジュール22における処理条件などが含まれる。そして、個別制御部23は制御信号に基づいて処理モジュール22を制御できる。具体的な制御内容は後述する。また、レシピには、処理対象を特定する情報(例えば、処理する各被処理基板WのIDやロット番号)が含まれていてもよい。この場合、各処理モジュール22での処理結果が、被処理基板WのIDやロット番号とともに、個別制御部23および制御装置4を経てホストコンピュータに送信される。
従来の基板処理装置では、処理ユニットがハウジングに固定で配置され、処理ユニットごとの個別制御部ではなく、全処理ユニットを制御する統合制御部が基板処理装置に設けられていた。このような態様で処理ユニットを着脱するには統合制御部のアップデートが必要であり、その都度、基板処理装置全体の動作検証が必要となる。
これに対し、本実施形態では、統合制御部を設けるのではなく、処理ユニットごとに個別制御部23を設け、制御装置4からユーザ設定を受け取る。そのため、着脱する処理ユニット2についての設定をするだけで基板処理装置を動作させることができる。
なお、処理ユニット2内に搬送機構を設けてもよい。例えば、搬送装置3から搬入される被処理基板Wを受け取って処理モジュール22に渡す搬送機構や、処理後の被処理基板Wを処理モジュール22から受け取って搬送装置3に渡す搬送機構があってもよい。あるいは、処理ユニット2内の搬送機構が他の処理ユニット2に直接被処理基板Wを搬送できるようにし、搬送機構3を設けないようにしてもよい。
図4および図5は、それぞれ、処理モジュール22の一例である研磨モジュール22Aの概略斜視図および断面図である。研磨モジュール22Aは、トップリング311と、下部にトップリング311が連結されたトップリングシャフト312と、上面に研磨面313aが設けられた回転テーブル313と、ノズル314と、支持軸315と、一端にトップリングシャフト312が連結され他端に支持軸315が連結されたトップリングヘッド316とを有する。
トップリング311は被処理基板Wを保持して研磨面313aに押し付ける。図5に詳しく示すように、トップリング311は、トップリング本体311aと、その下部に配置されたリテーナリング311bとから構成される。トップリング本体311aおよびリテーナリング311bの内側に形成された空間を減圧することで、被処理基板Wがトップリング311に保持される。被処理基板Wの周縁はリテーナリング311bに囲まれており、研磨中に被処理基板Wがトップリング311から飛び出さないようになっている。
トップリング311の上面中央はトップリングシャフト312に連結されている。そして、不図示のモータがトップリングシャフト312を回転させることで、トップリング311に保持された被処理基板Wが研磨面313a上で回転する。また、不図示のモータが支持軸315を回転させることで、トップリングヘッド316が揺動し、トップリング311が研磨面313a上とリリース部(不図示)との間を行き来する。
ノズル314は、筐体21の薬液供給口213を介して区画1aの薬液供給口54に接続されており、研磨液を回転テーブル313上に供給する。また、筐体21の薬液排出口214は区画1aの薬液排出口55に接続されており、使用済みの研磨液は薬液排出口214,55を介して区画1a外に排出される。
本研磨モジュール22Aにおいて、トップリングシャフト312および回転テーブル313の回転数、研磨圧力、研磨時間、研磨液の供給量および供給タイミングなどは、制御装置4へのユーザ設定(レシピ)に基づいて、個別制御部23によって制御される。
このような研磨モジュール22Aは以下のように動作する。回転している研磨面313a上に、ノズル314から研磨液が噴射される。同時に、トップリング311に保持された被処理基板Wが研磨面313aに接触した状態で、トップリングシャフト312が被処理基板Wを回転させる。これにより被処理基板Wの表面が研磨される。
図6は、処理モジュール22の別の例であるロール型洗浄モジュール22Bの概略斜視図である。ロール型洗浄モジュール22Bは、4つのローラ411と、2つのロールスポンジ412と、回転機構413と、洗浄液供給ノズル414と、リンス液供給ノズル415とを有する。
4つのローラ411は不図示の駆動機構によって互いに近接および離間する方向に移動可能であり、近接することで被処理基板Wを保持して回転させる。ロールスポンジ412も互いに近接および離間する方向に移動可能であり、ローラ411に保持された被処理基板Wに接触してその上下面を洗浄する。回転機構413はロールスポンジ412を回転させる。
洗浄液供給ノズル414は、筐体21の純水供給口215を介して区画1aの純水供給口56に接続されており、純水を洗浄液として被処理基板Wの上下面に供給する。また、筐体21の純水排出口216は区画1aの純水排出口57に接続されており、使用済みの純水は純水排出口216,57を介して区画1a外に排出される。
リンス液供給ノズル415は、筐体21の薬液供給口213を介して区画1aの薬液供給口54に接続されており、リンス液を洗浄済の被処理基板Wの上下面に供給する。また、筐体21の薬液排出口214は区画1aの薬液排出口55に接続されており、使用済みのリンス液は薬液排出口214,55を介して区画1a外に排出される。
本ロール型洗浄モジュール22Bにおいて、ローラ411やロールスポンジ412の回転数、純水やリンス液の供給量および供給タイミングなどは、制御装置4へのユーザ設定(レシピ)に基づいて、個別制御部23によって制御される。
このようなロール型洗浄モジュール22Bは次のように動作する。まず、ローラ411が互いに離間した状態、かつ、ロールスポンジ412が互いに離間した状態で、被処理基板Wが搬入される。そして、ローラ411が互いに近接することで、被処理基板Wはローラ411に保持される。また、ロールスポンジ412が互いに近接することで、ロールスポンジ412が被処理基板Wに接触する。そして、洗浄液供給ノズル414から洗浄液を供給しつつ、ローラ411が被処理基板Wを回転させるとともにロールスポンジ412が回転することで、被処理基板Wがスクラブ洗浄される。
スクラブ洗浄が終了すると、ロールスポンジ412が互いに離間する。その後、リンス液供給ノズル415からリンス液を供給することで、被処理基板Wがリンスされる。リンスが終了すると被処理基板Wが搬出される。
図7は、処理モジュール22の別の例であるペン型洗浄モジュール22Cの概略斜視図である。ペン型洗浄モジュール22Cは、基板保持回転機構511と、洗浄具装着機構512と、洗浄具513と、ノズル514とを有する。
基板保持回転機構511は被処理基板Wを保持し回転させる。より具体的には、基板保持回転機構511は、被処理基板Wを保持するためのチャック521が装着された複数本(図7では4本)のアーム522、アーム522が一体的に取り付けられる基台523、基台523を回転させる回転軸524などから構成される。
洗浄具装着機構512には洗浄具513が装着され、洗浄具513を被処理基板W上で回転させながら、洗浄具513を被処理基板Wの中心から縁(あるいは縁から縁)まで揺動させる。より具体的には、洗浄具装着機構512は、先端に装着された洗浄具513を回転させる回転軸531、洗浄具513を揺動および昇降させる揺動軸532、一端に揺動軸532が固定され他端に回転軸531を介して洗浄具513が取り付けられた揺動アーム533などから構成される。
洗浄具513は、その下面が被処理基板Wの表面に接触した状態で揺動および回転することで、被処理基板Wを洗浄する。
洗浄具513は、その下面が被処理基板Wの表面に接触した状態で揺動および回転することで、被処理基板Wを洗浄する。
ノズル514は、筐体21の純水供給口215を介して区画1aの純水供給口56に接続されており、純水を洗浄液として被処理基板W上に供給する。また、筐体21の純水排出口216は区画1aの純水排出口57に接続されており、使用済みの純水は純水排出口216,57を介して区画1a外に排出される。
本ペン型洗浄モジュール22Cにおいて、被処理基板Wの回転数、洗浄具513の回転数および揺動の速度、純水の供給量や供給タイミングなどは、制御装置4へのユーザ設定(レシピ)に基づいて、個別制御部23によって制御される。
このようなペン型洗浄モジュール22Cは以下のように動作する。基板保持回転機構511の回転軸531によって回転されている被処理基板W上に、ノズル514から洗浄液が噴射される。同時に、洗浄具装着機構512の回転軸531が洗浄具513を回転させるとともに、揺動軸532が洗浄具513の下面を被処理基板Wの表面に接触させた状態で洗浄具513を揺動させる。これにより被処理基板Wが洗浄される。
図8および図9は、それぞれ、処理モジュール22の別の例である乾燥モジュール22Dの概略断面図および上面図である。乾燥モジュール22Dは、基台611と、例えば4本の基板支持部材612と、回転軸613と、回転カバー614と、フロントノズル615と、ノズル616,617と、バックノズル618と、ガスノズル619とを有する。
基台611は回転軸613の上端に固定されている。基板支持部材612は円筒状であり、基台611上に固定されて被処理基板Wを支持する。不図示のモータが回転軸613を駆動することにより、基台611上の基板支持部材612によって支持された被処理基板Wが回転する。
回転カバー614は基台611の上面に固定され、被処理基板Wの全周を囲う。また、回転カバー614の上端には、基板支持部材612の外周面形状に沿った切り欠き614aが各基板支持部材612に対応して形成されている。回転カバー614の底面には、斜めに延びる液体排出孔614bが形成されている。
基台611の上方には、被処理基板Wの表面(フロント面)に洗浄液を供給するフロントノズル615が配置されている。フロントノズル615は、被処理基板Wの中心を向いて配置されている。洗浄液が浄水である場合、フロントノズル615は筐体21の純水供給口215を介して区画1aの純水供給口56に接続される。洗浄液が薬液である場合、フロントノズル615は筐体21の薬液供給口213を介して区画1aの薬液供給口54に接続される。
また、基台611の上方には、ロタゴニ乾燥用の2つのノズル616,617が並列して配置されている。ノズル616は、被処理基板Wの表面にIPA蒸気(イソプロピルアルコールとN2ガスとの混合気)を供給する。ノズル617は筐体21の純水供給口215を介して区画1aの純水供給口56に接続されており、被処理基板Wの表面に純水を供給してその乾燥を防ぐ。これらノズル616,617は被処理基板Wの径方向に沿って移動可能に構成されている。
回転軸613の内部には、バックノズル618およびガスノズル619が配置されている。バックノズル618は筐体21の純水供給口215を介して区画1aの純水供給口56に接続されており、被処理基板Wの裏面に純水を供給する。ガスノズル619は乾燥気体供給源(不図示)に接続されており、乾燥気体として、N2ガスまたは乾燥空気などを被処理基板Wの裏面に供給する。
また、筐体21の純水排出口216は区画1aの純水排出口57に接続されており、使用済みの純水は純水排出口216,57を介して区画1a外に排出される。また、筐体21の薬液排出口214は区画1aの薬液排出口55に接続されており、使用済みの薬液は薬液排出口214,55を介して区画1a外に排出される。
本乾燥モジュール22Dにおいて、被処理基板Wの回転数、洗浄液やガスの供給量および供給タイミングなどは、制御装置4へのユーザ設定(レシピ)に基づいて、個別制御部23によって制御される。
このような乾燥モジュール22Dは以下のように動作する。回転している被処理基板Wに対し、フロントノズル615から洗浄液を表面(上面)に供給するとともに、バックノズル618から純水を裏面(下面)に供給する。被処理基板Wに供給された洗浄液および純水は、遠心力により被処理基板Wの表面および裏面全体にそれぞれ広がり、これにより被処理基板Wの全体がリンスされる。回転する被処理基板Wから振り落とされた洗浄液および純水は、回転カバー614に捕らえられ、液体排出孔614bに流れ込む。被処理基板Wのリンス処理の間、2つのノズル616,617は、被処理基板Wから離れた所定の待機位置にある。
次に、フロントノズル615からの洗浄液の供給を停止し、フロントノズル615を被処理基板Wから離れた所定の待機位置に移動させるとともに、2つのノズル616,617を被処理基板Wの上方の作業位置に移動させる。そして、被処理基板Wを30〜150min-1の速度で低速回転させながら、ノズル616からIPA蒸気を、ノズル617から純水を被処理基板Wの表面に向かって供給する。このとき、被処理基板Wの裏面にもバックノズル618から純水を供給する。そして、2つのノズル616,617を同時に被処理基板Wの径方向に沿って移動させる。これにより、被処理基板Wの表面(上面)が乾燥される。
その後、2つのノズル616,617を所定の待機位置に移動させ、バックノズル618からの純水の供給を停止する。そして、被処理基板Wを1000〜1500min-1の速度で高速回転させ、被処理基板Wの裏面に付着している純水を振り落とす。このとき、ガスノズル619から乾燥気体を被処理基板Wの裏面に吹き付ける。このようにして被処理基板Wの裏面が乾燥される。
以上説明したような研磨モジュール22A、ロール型洗浄モジュール22B、ペン型洗浄モジュール22C、乾燥モジュール22Dをそれぞれ有する研磨ユニット、ロール型洗浄ユニット、ペン型洗浄ユニット、乾燥ユニットなどを図1の各区画1aに配置できる。
このように、本実施形態では、いずれの区画1aにも共通する位置に接続部を設けるとともに、各処理ユニット2に個別制御部23を設けるため、処理モジュール22を簡易にハウジング1に着脱でき、柔軟な処理ユニットの選択および配置が可能となる。
上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうることである。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲とすべきである。
1 ハウジング
1a 区画
2 処理ユニット
21 筐体
211 開口
212 排気口
213 薬液供給口
214 薬液排出口
215 純水供給口
216 純水排出口
22 処理モジュール
22A 研磨モジュール
22B スポンジ型洗浄モジュール
22C ペン型洗浄モジュール
22D 乾燥モジュール
23 個別制御部
231〜233 接続部
3 搬送機構
4 制御装置
51 電源供給部
52 ネットワーク接続部
53 制御信号接続部
54 薬液供給口
55 薬液排出口
56 純水供給口
57 純水排出口
58 排気ライン接続口
W 被処理基板
1a 区画
2 処理ユニット
21 筐体
211 開口
212 排気口
213 薬液供給口
214 薬液排出口
215 純水供給口
216 純水排出口
22 処理モジュール
22A 研磨モジュール
22B スポンジ型洗浄モジュール
22C ペン型洗浄モジュール
22D 乾燥モジュール
23 個別制御部
231〜233 接続部
3 搬送機構
4 制御装置
51 電源供給部
52 ネットワーク接続部
53 制御信号接続部
54 薬液供給口
55 薬液排出口
56 純水供給口
57 純水排出口
58 排気ライン接続口
W 被処理基板
Claims (10)
- 複数の区画に区分されたハウジングと、
前記複数の区画の少なくとも一部に着脱可能に配置され、被処理基板を処理する処理ユニットと、を備え、
前記複数の区画には、互いに共通する位置に第1接続部が設けられ、
前記処理ユニットは、前記第1接続部と接続される第2接続部を有する、基板処理装置。 - 前記処理ユニットは、
前記被処理基板を処理する処理モジュールと、
前記処理モジュールを制御する個別制御部と、
を有する、請求項1に記載の基板処理装置。 - ユーザから前記処理モジュールの設定を受け付ける制御装置を備え、
前記第1接続部および前記第2接続部を介して前記制御装置と前記個別制御部とが接続される、請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記処理ユニットは、内部に前記処理モジュールが配置される筐体を有し、
前記第1接続部は、前記区画の上部に設けられ、
前記個別制御部は、前記筐体上に設けられ、前記第1接続部と接続される、請求項2または3に記載の基板処理装置。 - 前記処理ユニットは、基板搬入口および基板搬出口が設けられ、内部に前記処理モジュールが配置される筐体を有し、
当該基板処理装置は、1つの前記処理ユニットの前記基板搬出口から、他の前記処理ユニットの基板搬入口に前記被処理基板を搬送する搬送機構を備える、請求項2または3に記載の基板処理装置。 - 前記第1接続部は、電源供給部、ネットワーク接続部、制御信号接続部、液体供給口、液体排出口、および、排気ライン接続口のうちの少なくとも1つを含む、請求項1乃至5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記第2接続部は、前記第1接続部と対応する位置に設けられる、請求項1乃至6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記処理ユニットは、研磨ユニット、洗浄ユニットまたは乾燥ユニットである、請求項1乃至7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板処理装置用のハウジングであって、
当該ハウジングは、被処理基板を処理する処理ユニットが着脱可能に配置され得る複数の区画に区分されており、
前記複数の区画には、互いに共通する位置に、前記処理ユニットの第2接続部と接続される第1接続部が設けられる、ハウジング。 - 請求項9に記載のハウジングの区画に配置される処理ユニットであって、前記第1接続部と対応する位置に前記第2接続部が設けられる、処理ユニット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015011302A JP2016136580A (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | 基板処理装置、ハウジングおよび処理ユニット |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2015011302A JP2016136580A (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | 基板処理装置、ハウジングおよび処理ユニット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2016136580A true JP2016136580A (ja) | 2016-07-28 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016136580A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021005738A (ja) * | 2020-10-15 | 2021-01-14 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジ |
WO2023119584A1 (ja) * | 2021-12-23 | 2023-06-29 | 東邦化成株式会社 | 基板処理モジュール、基板処理装置、および基板処理ユニット |
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-
2015
- 2015-01-23 JP JP2015011302A patent/JP2016136580A/ja active Pending
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