JP2016135927A - めっき付き金属基材 - Google Patents
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Abstract
Description
前記キャリア付金属箔と絶縁基板とを積層する工程、
前記キャリア付金属箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付金属箔のキャリアを剥がす工程を経て金属張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法である。
前記回路が埋没するように前記キャリア付金属箔の前記極薄金属層側表面又は前記キャリア側表面に樹脂層を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成した後に、前記キャリア又は前記極薄金属層を剥離させる工程、及び、
前記キャリア又は前記極薄金属層を剥離させた後に、前記極薄金属層又は前記キャリアを除去することで、前記極薄金属層側表面又は前記キャリア側表面に形成した、前記樹脂層に埋没している回路を露出させる工程
を含むプリント配線板の製造方法である。
本発明において使用する金属基材としては、銅、銅合金、アルミ、アルミ合金、鉄、鉄合金、ステンレス、ニッケル、ニッケル合金、チタン、チタン合金、金、金合金、銀、銀合金、白金族、白金族合金、クロム、クロム合金、マグネシウム、マグネシウム合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、鉛、鉛合金、タンタル、タンタル合金、ジルコニウム、ジルコニウム合金、錫、錫合金、インジウム、インジウム合金、亜鉛、又は、亜鉛合金等が挙げられ、さらに公知の金属材料も使用することができる。また、JIS規格やCDA等で規格されている金属材料も使用することができる。また、金属基材が、金属条、金属板、又は、金属箔の形態であってもよい。
本発明に係るめっき付き金属基材は一実施形態において、Coめっき層、並びにCo、Ni及びMoからなる群から選択される2種以上の元素を含む合金めっき層よりなる群から選択されるめっき層を金属基材表面に有する。Co、Ni及びMoからなる群から選択される2種以上の元素を含む合金めっき層は、典型的な実施形態において、Co−Ni合金めっき層、Co−Mo合金めっき層、Ni−Mo合金めっき層及びCo−Ni−Mo合金めっき層よりなる群から選択される。
また、本発明のめっき付き金属基材は放熱板、構造板、シールド材、シールド板、補強材、カバー、筐体、ケース、箱などに使用して、放熱板等の金属加工部材を作製することができる。すなわち、めっき付き金属基材は放熱板、構造板、シールド材、シールド板、補強材、カバー、筐体、ケース、箱を含む概念である。また、本発明のめっき付き金属基材を当該放熱板、構造板、シールド材、シールド板、補強材、カバー、筐体、ケース、箱などに使用して作製した金属加工部材を電子・電気機器に用いることができる。
本発明の別の実施の形態であるキャリア付金属箔は、キャリアの一方の面、又は、両方の面に、中間層、極薄金属層をこの順に有する。そして、前記極薄金属層として前述しためっき付き金属基材を使用できる。この場合、後の回路形成でエッチングされ、更には半田付けされることを考慮して、めっき層は金属基材の少なくとも半田付けされる表面に形成することが好ましい。半田付けされる表面は回路形成プロセスによって変動し得る。半田付けされる表面は極薄金属層の中間層と対向する表面側になり得るし、極薄金属層の中間層と対向する表面と反対側の表面にもなり得るし、これら両表面にもなり得る。
本発明に用いることのできるキャリアは典型的には金属箔または樹脂フィルムであり、例えば銅箔、銅合金箔、ニッケル箔、ニッケル合金箔、鉄箔、鉄合金箔、ステンレス箔、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔、絶縁樹脂フィルム(例えばポリイミドフィルム、液晶ポリマー(LCP)フィルム、ポリエチレンテレフタラート(PET)フィルム、ポリアミドフィルム、ポリエステルフィルム、フッ素樹脂フィルム等)の形態で提供される。
本発明に用いることのできるキャリアとしては銅箔を使用することが好ましい。銅箔は電気伝導度が高いため、その後の中間層、極薄金属層の形成が容易となるからである。キャリアは典型的には圧延銅箔や電解銅箔の形態で提供される。一般的には、電解銅箔は硫酸銅めっき浴からチタンやステンレスのドラム上に銅を電解析出して製造され、圧延銅箔は圧延ロールによる塑性加工と熱処理を繰り返して製造される。銅箔の材料としてはタフピッチ銅や無酸素銅といった高純度の銅の他、例えばSn入り銅、Ag入り銅、Cr、Zr又はMg等を添加した銅合金、Ni及びSi等を添加したコルソン系銅合金のような銅合金も使用可能である。
<電解液組成>
銅:90〜110g/L
硫酸:90〜110g/L
塩素:50〜100ppm
レベリング剤1(ビス(3スルホプロピル)ジスルフィド):10〜30ppm
レベリング剤2(アミン化合物):10〜30ppm
上記のアミン化合物には以下の化学式のアミン化合物を用いることができる。
電流密度:70〜100A/dm2
電解液温度:50〜60℃
電解液線速:3〜5m/sec
電解時間:0.5〜10分間(析出させる銅厚、電流密度により調整)
なお、キャリアの極薄金属層を設ける側の表面とは反対側の表面に粗化処理層を設けてもよい。当該粗化処理層を公知の方法を用いて設けてもよく、上述の粗化処理により設けてもよい。キャリアの極薄金属層を設ける側の表面とは反対側の表面に粗化処理層を設けることは、キャリアを当該粗化処理層を有する表面側から樹脂基板などの支持体に積層する際、キャリアと樹脂基板が剥離しにくくなるという利点を有する。
キャリア上には中間層を設ける。キャリアと中間層との間に他の層を設けてもよい。本発明で用いる中間層は、キャリア付金属箔が絶縁基板への積層工程前にはキャリアから極薄金属層が剥離し難い一方で、絶縁基板への積層工程後にはキャリアから極薄金属層が剥離可能となるような構成であれば特に限定されない。例えば、本発明のキャリア付金属箔の中間層はCr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Zn、これらの合金、これらの水和物、これらの酸化物、有機物からなる群から選択される一種又は二種以上を含んでも良い。また、中間層は複数の層であっても良い。
また、例えば、中間層はキャリア側からCr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Znで構成された元素群から選択された一種の元素からなる単一金属層、或いは、Cr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Znで構成された元素群から選択された一種又は二種以上の元素からなる合金層を形成し、その上にCr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Znで構成された元素群から選択された一種又は二種以上の元素の水和物または酸化物、あるいは有機物からなる層を形成することで構成することができる。
また、例えば、中間層はキャリア側からCr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Znで構成された元素群から選択された一種の元素からなる単一金属層、或いは、Cr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Znで構成された元素群から選択された一種又は二種以上の元素からなる合金層を形成し、その上にCr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Znで構成された元素群から選択された一種の元素からなる単一金属層、或いは、Cr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Znで構成された元素群から選択された一種又は二種以上の元素からなる合金層を形成することで構成することができる。
また、中間層は前記有機物として公知の有機物を用いることが出来、また、窒素含有有機化合物、硫黄含有有機化合物及びカルボン酸のいずれか一種以上を用いることが好ましい。例えば、具体的な窒素含有有機化合物としては、置換基を有するトリアゾール化合物である1,2,3−ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、N’,N’−ビス(ベンゾトリアゾリルメチル)ユリア、1H−1,2,4−トリアゾール及び3−アミノ−1H−1,2,4−トリアゾール等を用いることが好ましい。
硫黄含有有機化合物には、メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾールナトリウム、チオシアヌル酸及び2−ベンズイミダゾールチオール等を用いることが好ましい。
カルボン酸としては、特にモノカルボン酸を用いることが好ましく、中でもオレイン酸、リノール酸及びリノレイン酸等を用いることが好ましい。
また、例えば、中間層は、キャリア上に、ニッケル層、ニッケル−リン合金層又はニッケル−コバルト合金層と、クロム含有層とがこの順で積層されて構成することができる。ニッケルと銅との接着力はクロムと銅の接着力よりも高いので、極薄金属層を剥離する際に、極薄金属層とクロム含有層との界面で剥離するようになる。また、中間層のニッケルにはキャリアから銅成分が極薄金属層へと拡散していくのを防ぐバリア効果が期待される。中間層におけるニッケルの付着量は好ましくは100μg/dm2以上40000μg/dm2以下、より好ましくは100μg/dm2以上4000μg/dm2以下、より好ましくは100μg/dm2以上2500μg/dm2以下、より好ましくは100μg/dm2以上1000μg/dm2未満であり、中間層におけるクロムの付着量は5μg/dm2以上100μg/dm2以下であることが好ましい。中間層を片面にのみ設ける場合、キャリアの反対面にはNiめっき層などの防錆層を設けることが好ましい。上記中間層のクロム層はクロムめっきやクロメート処理により設けることができる。
中間層の厚みが大きくなりすぎると、中間層を形成するためのコストが増加する場合があるため、中間層の厚みは1〜1000nmであることが好ましく、1〜500nmであることが好ましく、2〜200nmであることが好ましく、2〜100nmであることが好ましく、3〜60nmであることがより好ましい。なお、中間層はキャリアの両面に設けてもよい。
中間層の上には極薄金属層、すなわち本発明に係るめっき付き金属基材を設けることができる。中間層と極薄金属層の間には他の層を設けてもよい。極薄金属層の厚みは特に制限はないが、一般的にはキャリアよりも薄く、例えば35μm以下であり、また例えば12μm以下である。典型的には0.5〜12μmであり、より典型的には1.5〜5μmである。また、中間層の上に極薄金属層を設ける前に、極薄金属層のピンホールを低減させるために銅−リン合金等によるストライクめっきを行ってもよい。ストライクめっきにはピロリン酸銅めっき液などが挙げられる。なお、極薄金属層はキャリアの両面に設けてもよい。極薄金属層は銅、銅合金、アルミ、アルミ合金、鉄、鉄合金、ニッケル、ニッケル合金、金、金合金、銀、銀合金、白金族、白金族合金、クロム、クロム合金、マグネシウム、マグネシウム合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、鉛、鉛合金、タンタル、タンタル合金、錫、錫合金、インジウム、インジウム合金、亜鉛、又は、亜鉛合金等の金属を含む、または、当該金属からなる極薄金属層であってもよく、さらに公知の金属材料も極薄金属層として使用することができる。また、JIS規格やCDA等で規格されている金属材料も極薄金属層として使用することができる。なお、極薄金属層として極薄銅層を用いることが好ましい。極薄銅層は導電率が高く、回路等の用途に適しているからである。
・電解液組成
銅:80〜130g/L
硫酸:80〜120g/L
塩素:30〜100ppm
レベリング剤1(ビス(3スルホプロピル)ジスルフィド):10〜30ppm
レベリング剤2(アミン化合物):10〜30ppm
上記のアミン化合物には以下の化学式のアミン化合物を用いることができる。
電流密度:70〜100A/dm2
電解液温度:50〜80℃
電解液線速:1.5〜5m/sec
電解時間:0.5〜10分間(析出させる厚み、電流密度により調整)
本発明に係るめっき付き金属基材のめっき層表面に樹脂層を備えても良い。前記樹脂層は絶縁樹脂層であってもよい。なお本発明のめっき付き金属基材において「めっき層表面」とは、粗化処理層、耐熱層、防錆層、耐候性層などを設けるための表面処理をめっき層上に行った場合には、当該表面処理を行った後のめっき付き金属基材の表面のことをいう。また、めっき付き金属基材がキャリア付金属箔の極薄金属層である場合には、「めっき層表面」とは、粗化処理層、耐熱層、防錆層、耐候性層などを設けるための表面処理を行った場合には、当該表面処理を行った後の極薄金属層の表面のことをいう。なお、前記樹脂層には光透過性を有する樹脂を用いることが好ましく、光透過性の高い樹脂を用いることがより好ましく、透明な樹脂を用いることがより好ましい。
前記リン含有エポキシ樹脂として公知のリンを含有するエポキシ樹脂を用いることができる。また、前記リン含有エポキシ樹脂は例えば、分子内に2以上のエポキシ基を備える9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドからの誘導体として得られるエポキシ樹脂であることが好ましい。
前記樹脂層は誘電体(誘電体フィラー)を含んでもよい。
上記いずれかの樹脂層または樹脂組成物に誘電体(誘電体フィラー)を含ませる場合には、キャパシタ層を形成する用途に用い、キャパシタ回路の電気容量を増大させることができるのである。この誘電体(誘電体フィラー)には、BaTiO3、SrTiO3、Pb(Zr−Ti)O3(通称PZT)、PbLaTiO3・PbLaZrO(通称PLZT)、SrBi2Ta2O9(通称SBT)等のペブロスカイト構造を持つ複合酸化物の誘電体粉を用いる。
また、前記樹脂層はMIL規格におけるMIL−P−13949Gに準拠して測定したときのレジンフローが5%〜35%の範囲にある半硬化樹脂膜であることが好ましい。
本件明細書において、レジンフローとは、MIL規格におけるMIL−P−13949Gに準拠して、厚さ55μmの樹脂層を備えためっき付き金属基材から10cm角試料を4枚サンプリングし、この4枚の試料を重ねた状態(積層体)でプレス温度171℃、プレス圧14kgf/cm2、プレス時間10分の条件で張り合わせ、そのときの樹脂流出重量を測定した結果から数1に基づいて算出した値である。
この樹脂層の厚みは0.1〜120μmであることが好ましい。
なお、樹脂層を備えためっき付き金属基材が極薄の多層プリント配線板を製造することに用いられる場合には、前記樹脂層の厚みを0.1μm〜5μm、より好ましくは0.5μm〜5μm、より好ましくは1μm〜5μmとすることが、多層プリント配線板の厚みを小さくするために好ましい。
本発明に係るプリント配線板の製造方法の一実施形態においては、本発明に係るキャリア付金属箔と絶縁基板とを準備する工程、前記キャリア付金属箔と絶縁基板を積層する工程、前記キャリア付金属箔と絶縁基板を極薄金属層側が絶縁基板と対向するように積層した後に、前記キャリア付金属箔のキャリアを剥がす工程を経て金属張積層板を形成し、その後、セミアディティブ法、モディファイドセミアディティブ法、パートリーアディティブ法及びサブトラクティブ法の何れかの方法によって、回路を形成する工程を含む。絶縁基板は内層回路入りのものとすることも可能である。
前記極薄金属層をエッチングにより除去することにより露出した前記樹脂にスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、前記樹脂および前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について無電解めっき層を設ける工程、前記無電解めっき層の上にめっきレジストを設ける工程、前記めっきレジストに対して露光し、その後、回路が形成される領域のめっきレジストを除去する工程、前記めっきレジストが除去された前記回路が形成される領域に、電気めっき層を設ける工程、前記めっきレジストを除去する工程、前記回路が形成される領域以外の領域にある無電解めっき層をフラッシュエッチングなどにより除去する工程、を含む。
まず、表面に粗化処理層が形成された極薄金属層を有するキャリア付金属箔(1層目)を準備する。
次に、極薄金属層の粗化処理層上にレジストを塗布し、露光・現像を行い、レジストを所定の形状にエッチングする。
次に、回路用のめっきを形成した後、レジストを除去することで、所定の形状の回路めっきを形成する。
次に、回路めっきを覆うように(回路めっきが埋没するように)極薄金属層上に埋め込み樹脂を設けて樹脂層を積層し、続いて別のキャリア付金属箔(2層目)を極薄金属層側から接着させる。
次に、2層目のキャリア付金属箔からキャリアを剥がす。
次に、樹脂層の所定位置にレーザー穴あけを行い、回路めっきを露出させてブラインドビアを形成する。
次に、ブラインドビアに銅を埋め込みビアフィルを形成する。
次に、ビアフィル上に、上記のようにして回路めっきを形成する。
次に、1層目のキャリア付金属箔からキャリアを剥がす。
次に、フラッシュエッチングにより両表面の極薄金属層を除去し、樹脂層内の回路めっきの表面を露出させる。
次に、樹脂層内の回路めっき上にバンプを形成し、当該はんだ上に銅ピラーを形成する。このようにして本発明のキャリア付金属箔を用いたプリント配線板を作製する。
・試験番号90
<中間層>
(1)Ni層(Niめっき)
キャリアに対して、以下の条件でロール・トウ・ロール型の連続メッキラインで電気メッキすることにより4000μg/dm2の付着量のNi層を形成した。具体的なメッキ条件を以下に記す。
硫酸ニッケル:270〜280g/L
塩化ニッケル:35〜45g/L
酢酸ニッケル:10〜20g/L
ホウ酸:30〜40g/L
光沢剤:サッカリン、ブチンジオール等
ドデシル硫酸ナトリウム:55〜75ppm
pH:4〜6
浴温:55〜65℃
電流密度:10A/dm2
(2)Cr層(電解クロメート処理)
次に、(1)にて形成したNi層表面を水洗及び酸洗後、引き続き、ロール・トウ・ロール型の連続メッキライン上でNi層の上に11μg/dm2の付着量のCr層を以下の条件で電解クロメート処理することにより付着させた。
重クロム酸カリウム1〜10g/L
pH:7〜10
液温:40〜60℃
電流密度:2A/dm2
<中間層>
(1)Ni−Mo層(ニッケルモリブデン合金めっき)
キャリアに対して、以下の条件でロール・トウ・ロール型の連続メッキラインで電気メッキすることにより3000μg/dm2の付着量のNi-Mo層を形成した。具体的なメッキ条件を以下に記す。
(液組成)硫酸Ni六水和物:50g/dm3、モリブデン酸ナトリウム二水和物:60g/dm3、クエン酸ナトリウム:90g/dm3
(液温)30℃
(電流密度)1〜4A/dm2
(通電時間)3〜25秒
<中間層>
(1)Ni層(Niめっき)
試験番号90と同じ条件でNi層を形成した。
(2)有機物層(有機物層形成処理)
次に、(1)にて形成したNi層表面を水洗及び酸洗後、引き続き、下記の条件でNi層表面に対して濃度1〜30g/Lのカルボキシベンゾトリアゾール(CBTA)を含む、液温40℃、pH5の水溶液を、20〜120秒間シャワーリングして噴霧することにより有機物層を形成した。
<中間層>
(1)Co−Mo層(コバルトモリブデン合金めっき)
キャリアに対して、以下の条件でロール・トウ・ロール型の連続メッキラインで電気メッキすることにより4000μg/dm2の付着量のCo−Mo層を形成した。具体的なメッキ条件を以下に記す。
(液組成)硫酸Co:50g/dm3、モリブデン酸ナトリウム二水和物:60g/dm3、クエン酸ナトリウム:90g/dm3
(液温)30℃
(電流密度)1〜4A/dm2
(通電時間)3〜25秒
(2)有機物層(有機物層形成処理)
次に、(1)にて形成したCo−Mo層表面を水洗及び酸洗後、引き続き、下記の条件でNi層表面に対して濃度1〜30g/Lのカルボキシベンゾトリアゾール(CBTA)を含む、液温40℃、pH5の水溶液を、20〜120秒間シャワーリングして噴霧することにより有機物層を形成した。
<金属箔>
銅濃度:90〜110g/L
錫濃度:1〜30g/L
硫酸濃度:90〜110g/L
塩化物イオン濃度:50〜90ppm
電解液温度:50〜80℃
電流密度:100A/dm2
電解液線速:1.5〜5m/sec
得られためっき付き金属箔(試験サンプル)のめっき層におけるNi、Co、Mo及びその他元素のそれぞれの付着量(μg/dm2)は、試験サンプルを濃度20質量%の硝酸で溶解してSII社製のICP発光分光分析装置(型式:SPS3100)を用いてICP発光分析法によって測定した。なお、試験サンプルが濃度20質量%の硝酸に溶解しにくい場合には、硝酸と塩酸の混合液(硝酸濃度:20質量%、塩酸濃度:12質量%)又は試験サンプルを溶解することができる別の酸水溶液等の液によって試験サンプルを溶解すればよい。また、測定したNi、Co及びMoの付着量から、めっき層中のNi+Mo比率(%)を算出した。ここで、Ni+Mo比率(%)の定義は次式の通りである。Ni+Mo比率(%)={Ni及びMoの合計付着量(μg/dm2)/(Ni、Co及びMoの合計付着量(μg/dm2))}×100
37質量%、ボーメ度40°の塩化第二鉄水溶液を用いて、各試験サンプルに対してエッチングを行い、ラインアンドスペース(L/S)が100μm/200μmの長さ150mmの直線回路と、ラインアンドスペース(L/S)が75μm/75μmの長さ150mmの直線回路をそれぞれ形成した。走査型電子顕微鏡(日立製、S−4700)を用いて回路を観察し、以下の基準で評価した。
×:うねり範囲が回路長さの50%より長い
△:うねり範囲が回路長さの25%超〜50%
○:うねり範囲が回路長さの15%超〜25%
○○:うねり範囲が回路長さの5%超〜15%
◎:うねり範囲が回路長さの0%より長く5%以下
◎◎:うねり範囲0%。うねり無し(直線状)
ここで、うねりとは回路を上面からSEMで500倍で写真撮影し、当該写真中の長さ186μmの回路の角同士を結ぶ長手方向に沿った二本の直線(太さ1.9μm)を引いた場合に、回路の稜線が各直線の中心線から5μm以上離れる箇所のことをいう。測定結果は4カ所写真撮影したときの平均値で表した。
まず、各試験サンプルの一方の表面側からウェットエッチングによって箔厚が0.03mmにまで薄くした。この際、反対面はめっきが剥離しないようにテープでマスキングした。そして、得られた薄肉化後の試験サンプルのめっき層側(めっき形成していない試験サンプルは任意の表面)と純銅箔(JX日鉱日石金属社製C1100、箔厚0.035mm)を千住金属工業(株)製Pbフリー半田(ESC M705、やに(フラックス)入り半田、Sn(残部)−3.0質量%Ag−0.5質量%Cu)を介して接合し、アイコーエンジニアリング(株)製の精密荷重測定器(MODEL−1605NL)を用いて180°引き剥がし試験を100mm/minの速度で行うことにより、その密着強度を測定した。サンプル箔は幅15mm、長さ200mmの短冊状とし、純銅箔は幅20mm、長さ200mmの短冊状とし、長さ方向に対して中央部30mm×15mmの面積を接合温度を245℃±5℃として接合した。なお、純銅箔の厚みは、評価するサンプル箔の厚みに近ければ問題ないが、0.02mm〜0.05mmが好ましく、本実施例においては0.035mmの純銅箔を用いた。なお、キャリア付金属箔の実験例においては、キャリア付金属箔からキャリアを剥離した後に上述の半田密着強度試験を行った。また、キャリア付金属箔の金属箔の厚みが0.03mmよりも小さい試験番号92及び93の場合には、金属箔上にCuめっきをして厚みを増し、金属箔の厚みとCuめっきの厚みの合計の厚みを0.03mmとした後に、キャリア付金属箔からキャリアを剥離し、その後上記の試験を行った。
各試験サンプルを温度85℃、相対湿度85%の恒温恒湿器(エスペック株式会社(型番:PL−2E))内で100時間又は200時間保持したときの変色度合いを調査した。変色度合いは写真撮影をした後に、透明の樹脂フィルムを重ね、変色した部分を黒色のマーカーで塗りつぶした後に、画像処理ソフトで白黒2値化し、変色部分の面積を画像処理ソフトにより求めた。得られた面積を観察視野全体の面積で割った値を100倍した値を、変色した個所の面積率(%)とした。
Claims (36)
- 金属基材の一部又は全部の表面上にCo−Ni合金めっき層、Co−Mo合金めっき層、又はCo−Ni−Mo合金めっき層が形成されためっき付き金属基材であって、該めっき層におけるCo、Ni及びMoの合計付着量が13500μg/dm2以上であり、且つ、Co、Ni及びMoの合計付着量に対するNi及びMoの合計付着量(以下、「Ni+Mo比率(%)」ともいう。)が質量比で10%以上50%以下である金属基材であり、前記金属基材が、チタン銅、りん青銅、コルソン合金、丹銅、黄銅、又は洋白で形成されており、半田付けによって電子部品と接続して使用する用途に用いられるめっき付き金属基材。
- 前記めっき層におけるCo、Ni及びMoの合計付着量が14000μg/dm2以上である請求項1に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層におけるCo、Ni及びMoの合計付着量が25000μg/dm2以上である請求項1に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層におけるCo、Ni及びMoの合計付着量が180000μg/dm2以下である請求項1に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層と前記金属基材の間に下地層及び/又は粗化処理層が形成された請求項1〜4のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層におけるNiとMoの含有比率は質量比でNi:Mo=9:1〜1:9である請求項1〜5のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層におけるNiとMoの含有比率は質量比でNi:Mo=6:4〜4:6である請求項1〜5のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd、Pt、Bi、Os、Rh、Tl、Sb、Pb、Hg、Ir、Cd、Ru、Re、Tc及びGdからなる群から選択される一種以上の元素を含む請求項1〜7のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd、Pt、Bi、Os、Rh、Tl、Sb、Pb、Hg、Ir、Cd、Ru、Re、Tc及びGdからなる群から選択される一種以上の元素を合計で0〜2000μg/dm2含む請求項8に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd、Pt、Bi、Os、Rh、Tl、Sb、Pb、Hg、Ir、Cd、Ru、Re、Tc及びGdからなる群から選択される一種以上の元素を合計で0〜1000μg/dm2含む請求項8に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd、Pt、Bi、Os、Rh、Tl、Sb、Pb、Hg、Ir、Cd、Ru、Re、Tc及びGdからなる群から選択される一種以上の元素を合計で0〜500μg/dm2含む請求項8に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd及びPtからなる群から選択される一種以上の元素を含む請求項1〜7のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd及びPtからなる群から選択される一種以上の元素を合計で0〜2000μg/dm2含む請求項12に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd及びPtからなる群から選択される一種以上の元素を合計で0〜1000μg/dm2含む請求項12に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層はCu、As、Ag、Au、Pd及びPtからなる群から選択される一種以上の元素を合計で0〜500μg/dm2含む請求項12に記載のめっき付き金属基材。
- 前記金属基材が、チタン銅で形成されている請求項1〜15のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記金属基材が、金属条、金属板、又は、金属箔の形態である請求項1〜16のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記めっき層の表面に樹脂層を有する請求項1〜17のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- 前記金属基材が二つの主表面を有し、その一方又は両方の面に前記めっき層を有する請求項1〜18のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材。
- キャリアの一方の面、又は、両方の面に、中間層、極薄金属層をこの順に有するキャリア付金属箔であって、前記極薄金属層が請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材であるキャリア付金属箔。
- 前記キャリアの一方の面に前記中間層、前記極薄金属層をこの順に有し、前記キャリアの他方の面に粗化処理層を有する請求項20に記載のキャリア付金属箔。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材を備えたコネクタ。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材を備えた端子。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材又は請求項20〜21のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔と樹脂基板とを積層して製造した積層板。
- 請求項24に記載の積層板を備えたシールドテープ又はシールド材。
- 請求項24に記載の積層板を備えたプリント配線板。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材又は請求項20〜21のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔を備えた金属加工部材。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材又は請求項20〜21のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔を備えた電子・電気機器。
- 請求項20〜21のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔と絶縁基板とを準備する工程、
前記キャリア付金属箔と絶縁基板とを積層する工程、
前記キャリア付金属箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付金属箔のキャリアを剥がす工程を経て金属張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。 - 請求項20〜21のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔の前記極薄金属層側表面又は前記キャリア側表面に回路を形成する工程、
前記回路が埋没するように前記キャリア付金属箔の前記極薄金属層側表面又は前記キャリア側表面に樹脂層を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成した後に、前記キャリア又は前記極薄金属層を剥離させる工程、及び、
前記キャリア又は前記極薄金属層を剥離させた後に、前記極薄金属層又は前記キャリアを除去することで、前記極薄金属層側表面又は前記キャリア側表面に形成した、前記樹脂層に埋没している回路を露出させる工程
を含むプリント配線板の製造方法。 - 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材と半田との接合体。
- 半田と金属基材の接合界面にSn及びCoを含む熱拡散層が存在する請求項31に記載の接合体。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材をエッチングにより形状加工する工程と、得られためっき付き金属基材の形状加工品をめっき層を有する箇所において半田付けにより導電性部材と接合する工程とを含むめっき付き金属基材と導電性部材の接続方法。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材を備えた電子部品。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材をばね材として備えたオートフォーカスモジュール。
- レンズと、このレンズを光軸方向の初期位置に弾性付勢する請求項1〜19のいずれか一項に記載のめっき付き金属基材製のばね部材と、このばね部材の付勢力に抗する電磁力を生起して前記レンズを光軸方向へ駆動可能な電磁駆動手段を備えたオートフォーカスカメラモジュールであって、前記電磁駆動手段はコイルを備えており、ばね部材は前記めっき層を有する箇所において半田付けによりコイルと接合されているオートフォーカスカメラモジュール。
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