JP2016106067A - フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】モル%表示で、SiO2を55〜80%、Al2O3を3〜20%、B2O3を3〜15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)を3〜25%含有し、As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、失透温度が1250℃以下のガラスから構成され、熱収縮率が75ppm以下であるディスプレイ用ガラス基板。ただし、前記熱収縮率とは、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、次式にて求められる値である。熱収縮率(ppm)={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×106
【選択図】なし
Description
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が75ppm以下である。
熱収縮率(ppm)
={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×106
以降の「熱収縮率」も、同様に定義される。
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成されたガラス基板であり、
Tgで30分保持した後、Tg−100℃まで100℃/分で冷却し、室温まで放冷後、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後の前記ガラス基板の熱収縮率が75ppm以下である。
モル%でSiO2が55〜80%、Al2O3が3〜20%、B2O3が3〜15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)が3〜25%であり、As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、失透温度が1250℃以下であるガラスとなるように調合したガラス原料を熔融して、熔融ガラスを生成する熔融工程と、
前記熔融ガラスをガラス板へと成形する成形工程と、
前記ガラス板を徐冷する徐冷工程と、を含み、
前記ガラス板の熱収縮率が75ppm以下である、
p−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法も提供する。
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が75ppm以下である、
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板も提供する。
SiO2は、骨格成分であり、必須成分である。SiO2量が少なすぎると、耐酸性低下、Tgおよび歪点の低下、熱膨張係数増加および耐バッファードフッ酸(BHF)低下が起こる場合がある。また、低密度化を図ることが困難となる場合もある。一方、SiO2量が多すぎると、熔融温度が著しく高くなり、熔解および成形が困難になる場合がある。また、耐失透性が低下する場合もある。また、ガラスをスリミングする場合のエッチング速度を十分に速くできない。そこで、SiO2の含有率は、55〜80%が好ましく、60〜78%がより好ましく、62〜78%がさらに好ましく、65〜78%がさらに好ましく、65〜75%がさらに好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラス基板においては、SiO2の含有率は、67〜73%がさらに好ましく、69〜72%がさらに好ましい。さらに、ガラスをスリミングする場合のエッチング速度を十分に速くするためには、SiO2の含有率は、62〜78%がより好ましく、62〜74%がさらに好ましく、64〜70%がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラス基板においては、SiO2の含有率は、65〜73%がさらに好ましく、66〜71%がさらに好ましい。
Al2O3は、分相を抑制し、Tgおよび歪点を上昇させる必須成分である。Al2O3量が少なすぎると、ガラスが分相しやすくなる。また、Tgおよび歪点の低下による耐熱性の低下や熱収縮率の増大、およびヤング率低下および耐酸性の低下が起こる場合もある。また、ガラスのエッチング速度を十分に速くできない。一方、Al2O3量が多すぎると、ガラスの失透温度が上昇して、耐失透性が低下するので、成形性が悪化する。したがって、Al2O3の含有率は、3〜20%が好ましく、5〜18%がより好ましく、5〜15%がさらに好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラス基板においては、Al2O3の含有率は、7〜13%がさらに好ましく、9〜12%がさらに好ましい。さらに、ガラスをスリミングする場合のエッチング速度を十分に速くするためには、Al2O3の含有率は、7〜15%がさらに好ましく、9〜14%がさらに好ましく、10〜14%がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラス基板においては、Al2O3の含有率は、8〜15%がさらに好ましく、10〜14%がさらに好ましい。
B2O3は、熔融温度に代表される高温度域での粘性特性(高温粘性特性)温度を低下させ、熔解性を改善する必須成分である(以下、本明細書では、「高温粘性特性温度」として、「熔融温度」を代表して記載する。)。B2O3量が少なすぎると、熔解性低下、耐BHF低下、耐失透性低下および熱膨張係数増加が起こる場合がある。また、密度が増加して、低密度化を図ることが困難となる場合もある。一方、B2O3量が多すぎると、Tgおよび歪点の低下、耐酸性低下およびヤング率低下が起こる場合がある。また、ガラス熔解時のB2O3の揮発により、ガラスの不均質が顕著となり、脈理が発生しやすくなる。そこで、B2O3の含有率は、3〜15%が好ましく、3〜13がより好ましく、3〜10%がさらに好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラス基板においては、B2O3の含有率は、3%以上9.5%未満がさらに好ましく、3.5%以上9.2%未満がさらに好ましく、4%以上8.9%未満がさらに好ましく、5〜8.5%がさらに好ましく、6〜8%がさらに好ましい。さらに、失透温度の上昇を防止するためには、B2O3の含有率は、5〜13%がより好ましく、5〜12%がさらに好ましく、6〜10未満%(6%以上10%未満)がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラス基板においては、B2O3の含有率は、3〜9%がさらに好ましく、4〜8%がさらに好ましい。
MgOは、熔解性を向上させる成分である。また、MgOは、アルカリ土類金属の中では密度を増加させにくい成分であるので、その含有率を相対的に増加させると、ガラスの低密度化を図りやすくなる。本実施形態のガラス基板において、MgOは必須ではない。しかし、MgOを含有させることにより、熔解性の向上および切粉発生の抑制を実現できるので、MgOが含まれていてもよい。しかし、MgO量が多すぎると、Tgおよび歪点低下、耐熱性低下、耐酸性低下およびヤング率低下が起こる場合がある。また、失透温度が高くなり、耐失透性が低下するので、ダウンドロー法に適用し難くなる場合がある。したがって、本実施形態のガラス基板では、MgOの含有率は0〜15%が好ましく、0〜10%がより好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラス基板においては、MgOの含有率は、0〜5%がさらに好ましく、0〜2未満%(0%以上2%未満)がさらに好ましく、0〜1.5%がさらに好ましく、0〜1%がさらに好ましく、0〜0.5%が好ましく、MgOが実質的に含有されないことがさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラス基板においては、MgOの含有率は、1〜9%がさらに好ましく、2〜8%がさらに好ましい。
CaOは、ガラスの失透温度を急激に上げることなくガラスの熔解性を向上させるのに有効な成分である。また、CaOは、アルカリ土類金属の中では密度を増加させにくい成分であるので、CaO量を相対的に増加させると、ガラスの低密度化を図りやすくなる。CaO量が少なすぎると、高温時の粘性上昇による熔解性低下および耐失透性低下が起こりやすくなる。一方、CaO量が多すぎると、熱膨張係数の増加が起こりやすくなる。これらの理由から、CaOの含有率は、0〜20%が好ましく、0〜18%が好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラス基板においては、CgOの含有率は、3.6〜16%がより好ましく、4〜16%がさらに好ましく、6〜16%がさらに好ましく、7超〜16%(7%を超えて16%以下)がさらに好ましく、8〜13%がさらに好ましく、9〜12%がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラス基板においては、CaOの含有率は、0〜10%がさらに好ましく、0〜5%がさらに好ましく、0〜3%がさらに好ましい。
SrOは、ガラスの失透温度を下げることができる成分である。SrOは、必須成分ではないが、含有させると耐失透性向上および熔解性向上が実現できるので、含まれていてもよい。しかし、SrO量が多すぎると、密度が上昇してしまう。したがって、密度を低下させたい場合には、実質的にSrOを含有させないことが好ましい。したがって、本実施形態のガラス基板では、SrOの含有率は0〜10%が好ましく、0〜8%がより好ましい。なお、より軽量化を図るためには、SrOの含有率は、3%未満が好ましく、2%以下がより好ましく、1%以下がさらに好ましく、0.5%以下がさらに好ましく、SrOが実質的に含まれないことがさらに好ましい。言い換えると、SrOの含有率は0〜3未満%(0%以上3%未満)が好ましく、0〜2%がより好ましく、0〜1%がさらに好ましく、0〜0.5%がさらに好ましく、SrOが実質的に含まれないことがさらに好ましい。他方、熔解性を向上させたい場合には、SrOの含有率は、1〜8%がさらに好ましく、3〜8%がさらに好ましい。
BaOは、耐失透性および熔解性を向上させる成分である。また、BaOを含有させることにより、熱膨張係数が増大すると共に密度が過度に増加してしまう。したがって、本実施形態のガラス基板では、BaOの含有率は0〜10%が好ましく、0〜5%がより好ましく、0〜2%がさらに好ましく、0〜1%がさらに好ましい。なお、環境負荷の問題があるため、BaOが実質的に含まれないことがさらに好ましい。
Li2OおよびNa2Oは、熔解性を向上させる成分であるが、ガラスの熱膨張係数を大きくして、ディスプレイ製造における熱処理時に基板を破損したり、ガラスのTgおよび歪点を大きく低下させて、過度に耐熱性を低下させる成分である。したがって、本実施形態のガラス基板では、Li2OおよびNa2Oの含有率は0〜0.3%が好ましく、0〜0.2%がより好ましく、0〜0.1%がさらに好ましく、Li2OおよびNa2Oが実質的に含有されないことがさらに好ましい。
K2Oは、ガラスの塩基性度を高め、清澄性を発揮させる成分である。また、K2Oは、熔解性を向上させ、さらにガラス融液の比抵抗を低下させる成分である。したがって、K2Oは、必須成分ではないが、含有させるとガラス融液の比抵抗低下、熔解性向上および清澄性向上を実現できる。しかし、K2O量が多すぎると、熱膨張係数が増大したり、歪点およびTgが大きく低下して耐熱性が過度に低下する場合がある。そのため、本実施形態のガラス基板では、K2Oの含有率は0〜0.8%が好ましく、0.01〜0.5%がより好ましく、0.1〜0.3%がさらに好ましい。
ZrO2およびTiO2は、ガラスの化学的耐久性およびTgおよび歪点を上昇させる成分である。ZrO2およびTiO2は、必須成分ではないが、含有させることでTgおよび歪点の上昇と、耐酸性向上とを実現できる。しかし、ZrO2量およびTiO2量が多くなりすぎると、失透温度が著しく上昇するため、耐失透性および成形性が低下する場合がある。特に、ZrO2は、冷却過程でZrO2の結晶を析出する場合があり、これがインクルージョンとしてガラスの品質悪化を引き起こすことがある。また、TiO2は、ガラスを着色させる成分なので、ディスプレイ用基板には好ましくない。以上の理由から、本実施形態のガラス基板では、ZrO2およびTiO2の含有率は、それぞれ、0〜5%が好ましく、0〜3%がより好ましく、0〜2%がさらに好ましく、0〜1%がさらに好ましく、0.5%未満がさらに好ましい。さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板が、ZrO2およびTiO2を実質的に含有しないことである。
ZnOは、耐BHF性および熔解性を向上させる成分であるので含まれていてもよいが、必須成分ではない。しかし、ZnO量が多くなりすぎると、失透温度上昇、Tgおよび歪点の低下、および密度上昇が起こる場合がある。そのため、本実施形態のガラス基板では、ZnOの含有率は、5%以下が好ましく、3%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましく、1%以下がさらに好ましい。さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板が、ZnOを実質的に含有しないことである。言い換えると、ZnOの含有率は、0〜5%が好ましく、0〜3%がより好ましく、0〜2%がさらに好ましく、0〜1%がさらに好ましい。さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板が、ZnOを実質的に含有しないことである。
P2O5は、熔融温度を低下させ、熔解性を向上させる成分であるので含まれていてもよいが、必須成分ではない。しかし、P2O5量が多すぎると、ガラス熔解時のP2O5の揮発によりガラスの不均質が顕著となり、脈理が発生しやすくなる。また、Tgおよび歪点が低下すると共に、耐酸性が著しく悪化したり、乳白が生じやすくなったりする。そのため、本実施形態のガラス基板では、P2O5の含有率は、3%以下が好ましく、1%以下がより好ましく、0.5%以下がさらに好ましい。さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板が、P2O5を実質的に含有しないことである。言い換えると、P2O5の含有率は、0〜3%が好ましく、0〜1%がより好ましく、0〜0.5%がさらに好ましい。さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板が、P2O5を実質的に含有しないことである。
La2O3は、含まれていてもよい。しかし、La2O3量が多くなりすぎると、失透温度が上昇するとともに、密度が上昇してしまう。したがって、La2O3の含有率は、0〜1%が好ましく、0〜0.5%がより好ましく、0〜0.1%がさらに好ましく、さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板がLa2O3を実質的に含有しないことである。
清澄剤としては、環境への負荷が小さく、ガラスの清澄性に優れたものであれば特に制限されない。例えば、Sn、Fe、Ce、Tb、MoおよびWの金属酸化物の群から選ばれる少なくとも1種を挙げることができる。清澄剤が少なすぎると、泡品質が悪化する。したがって、清澄剤の添加量は、清澄剤の種類やガラスの組成にもよるが、例えば、0.01〜1%、好ましくは0.05〜1%、好ましくは0.05〜0.5%、より好ましくは0.05〜0.3%、さらに好ましくは0.05〜0.2%の範囲とすることが適当である。清澄剤としては、SnO2が好適である。しかし、SnO2は、ガラスの耐失透性を低下させる成分である。そのため、例えば清澄剤としてSnO2が用いられる場合は、SnO2の含有率は0.01〜0.3%が好ましく、0.03〜0.2%がより好ましく、0.05〜0.15%がさらに好ましい。
Fe2O3は、清澄剤としての働きの他に、ガラス融液の高温域での粘性を低下させ、比抵抗を低下させる働きを行う成分である。Fe2O3は必須成分ではないが、熔融温度が高く、熔解が困難なガラスにおいては、熔融温度や比抵抗を低下させるために含有させることが好ましい。Fe2O3量が多くなりすぎると、ガラスが着色して透過率が低下する場合がある。そのため、本実施形態のガラス基板では、Fe2O3の含有率は0〜0.1%が好ましく、0〜0.08%がより好ましく、0.001〜0.05%がさらに好ましく、0.005〜0.03%がさらに好ましい。ここで、熔融温度が高いガラスにおいては、熔解工程の温度が高くなるので、Fe2O3の清澄剤としての効果は低下しやすい。そのため、清澄剤としてFe2O3を単独で用いると清澄性が低下し、ガラス基板の泡品質が悪化する場合があるので、SnO2と併用して用いることが好ましい。
As2O3およびSb2O3は、環境への負荷が懸念される成分である。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスは、成分として、As2O3およびSb2O3を実質的に含有しない。
PbOおよびFは、環境負荷の問題により、実質的に含有されないことが好ましい。
MgO+CaO+SrO+BaO=ROと表記した場合、(SiO2+2Al2O3)/(2B2O3+RO)が2.5以上であることが好ましく、2.8以上であることがより好ましく、3.0超であることがさらに好ましい。(SiO2+2Al2O3)/(2B2O3+RO)をこのような範囲とすることにより、熔解性の向上と、Tgおよび歪点の上昇とを両立できる。あるいは、耐失透性の向上と、Tgおよび歪点の上昇とを両立できる。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスは、高いTgおよび歪点と、良好な熔解性あるいは耐失透性とを両立しやすくなる。その効果をより確実に得るために、(SiO2+2Al2O3)/(2B2O3+RO)は3.1〜4.3がより好ましく、3.3〜3.65がさらに好ましい。さらに、失透温度の上昇防止と十分なエッチング速度を実現するためには、(SiO2+2Al2O3)/(2B2O3+RO)は2.5〜10が好ましく、2.5〜5がより好ましく、2.8〜5がさらに好ましく、3超〜4がさらに好ましく、3.1〜3.5が一層好ましい。
ROは、熔解性を向上させる成分である。RO量が少なすぎると、熔解性が悪化する場合がある。しかし、RO量が多すぎると、Tgおよび歪点の低下、密度上昇、ヤング率低下および熱膨張係数の増加が起こる場合がある。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスでは、ROの含有率は3〜25%が好ましく、4〜20%がより好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラスにおいては、ROの含有率は、5%以上14%未満がさらに好ましく、6〜14%がさらに好ましく、8〜13%がさらに好ましく、9〜12%がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラス基板においては、ROの含有率は、5%以上18%未満がさらに好ましく、8〜17%がさらに好ましい。
より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラスにおいては、CaO/ROは、0.5以上が好ましく、0.7以上がより好ましく、0.85を超えることがさらに好ましく、0.88以上がさらに好ましく、0.90以上がさらに好ましく、0.92以上がさらに好ましく、0.95以上がさらに好ましい。言い換えると、CaO/ROは、0.5〜1が好ましく、0.7〜1がより好ましく、0.85超〜1がさらに好ましく、0.88〜1がさらに好ましく、0.90〜1がさらに好ましく、0.92〜1がさらに好ましく、0.95〜1がさらに好ましい。CaO/ROをこのような範囲とすることで、耐失透性と熔解性とを両立することができる。さらに、低密度化を図ることができる。また、原料として、複数のアルカリ土類金属酸化物を含有させるよりもCaOのみを含有させた方が、Tgおよび歪点を上昇させることができる。なお、アルカリ土類金属酸化物としてCaOのみを原料として含有させた場合でも、得られるガラスには、他のアルカリ土類金属酸化物が不純物として含まれる場合がある。アルカリ土類金属酸化物としてCaOのみを原料として含有させた場合、得られるガラスのCaO/ROの値は、例えば0.98〜1程度である。また、CaOは原料が安価であり、入手が容易であるという点でも、好ましい成分である。
SiO2−(Al2O3/2)の値が小さすぎると、エッチング速度は向上するものの、耐失透性が低下する場合がある。一方、この値が大きすぎると、エッチング速度が低下する場合がある。したがって、本実施形態のガラスを構成するガラスは、SiO2−(Al2O3/2)は69以下が好ましく、60〜68がより好ましく、63〜67がさらに好ましい。なお、ディスプレイ製造においてガラス基板をスリミングを行うような場合、その生産性を向上させるために、エッチング速度をさらに高めることが求められる。このような場合、さらにエッチング速度を向上させるために、SiO2−(Al2O3/2)は69以下が好ましく、50〜68がより好ましく、55〜65がさらに好ましく、57〜63が一層好ましく、58〜62がより一層好ましい。
SiO2+2Al2O3が少なすぎると、Tgおよび歪点が低下しやすくなる。一方、SiO2+2Al2O3が多すぎると、耐失透性が悪化しやすくなる。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスでは、SiO2+2Al2O3は80%以上が好ましく、80〜100%がより好ましく、85〜98%がさらに好ましく、89〜97%がさらに好ましく、90〜96%がさらに好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラスにおいては、SiO2+2Al2O3は、91〜95%がさらに好ましく、91〜93.5%がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラスにおいては、SiO2+2Al2O3は、91〜96%がより好ましい。
Al2O3/SiO2が0.35を超えると、耐失透性が悪化しやすくなる。他方、Al2O3/SiO2が0.05以下となるとTgおよび歪点を十分に上昇させることができない。したがって、本実施形態では、Al2O3/SiO2が0.05〜0.35であり、0.07〜0.30であることが好ましく、0.10〜0.25であることがさらに好ましい。
B2O3+P2O5が少なすぎると、熔解性が低下しやすくなる。一方、B2O3+P2O5が多すぎると、ガラス熔解時のB2O3+P2O5の揮発により、ガラスの不均質が顕著となり、脈理が発生しやすくなる。さらに、Tgおよび歪点が低下しやすくなる。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスでは、B2O3+P2O5は3〜15%が好ましく、3〜10%がより好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラスにおいては、B2O3+P2O5は、3%以上9.5%未満がさらに好ましく、4%以上8.9%未満がさらに好ましく、5〜8.5%がさらに好ましく、6〜8%がさらに好ましい。さらに、耐失透性を向上させるには、5〜13%がより好ましく、5〜12%がさらに好ましいく、6〜10未満%(6%以上10%未満)がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラスにおいては、B2O3+P2O5は、3〜9%がさらに好ましく、4〜8%がさらに好ましい。
なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラスにおいては、CaO/B2O3が小さすぎると、Tgおよび歪点が低下しやすくなる。一方、CaO/B2O3が大きすぎると、熔解性が悪化しやすくなる。したがって、本実施形態では、CaO/B2O3は、0.5以上が好ましく、0.7以上がより好ましく、0.9以上がより好ましく、1.2を超えることがさらに好ましく、1.2を超えて5以下がさらに好ましく、1.2を超えて3以下がさらに好ましく、1.3以上2.5以下がさらに好ましく、1.3以上2以下がさらに好ましい。さらに、熔解性を向上させるには、0.5〜5が好ましく、0.9〜3がより好ましく、1を超えて2.5以下がさらに好ましく、1を超えて2以下がさらに好ましく、1.2を超えて2以下がさらに好ましく、1.2を超えて1.5以下がさらに好ましい。
SrOおよびBaOは、ガラスの失透温度を下げることができる成分である。これらの成分は必須ではないが、含有させると、耐失透性向上および熔解性向上を実現できる。しかし、これらの成分の量が多すぎると、密度が上昇してしまう。したがって、密度を低下させ、軽量化を図りがたくなる。また、熱膨張係数が増加する場合もある。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスでは、SrO+BaOは10%以下が好ましい。なお、より軽量化を図るためには、5%以下がより好ましく、3%未満がさらに好ましく、2%未満がさらに好ましい。さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板を構成するガラスがSrOおよびBaOを実質的に含有しないことである。言い換えると、SrO+BaOは0〜10%が好ましく、より軽量化を図るためには、0〜5%がより好ましく、0〜3未満%(0%以上3%未満)がさらに好ましく、0〜2未満%(0%以上2%未満)がさらに好ましく、0〜1未満%(0%以上1%未満)がさらに好ましく、0〜0.5未満%(0%以上0.5%未満)が一層好ましい。さらに好ましくは、本実施形態のガラス基板を構成するガラスがSrOおよびBaOを実質的に含有しないことである。
RO+ZnO+B2O3が少なすぎると、高温域の粘性が高くなり、清澄性およびガラスの熔解性が低下しやすくなる。一方、RO+ZnO+B2O3が多すぎると、Tgおよび歪点が低下しやすくなる。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスでは、RO+ZnO+B2O3が7〜30%が好ましく、10〜27%がより好ましい。なお、より軽量化を図るためにSrO+BaOを3%未満しか含まないガラスにおいては、RO+ZnO+B2O3は、12〜22%がさらに好ましく、14〜21%がさらに好ましく、16〜20%がさらに好ましい。さらに、熔解性を向上させるためには、RO+ZnO+B2O3は、12〜27%がさらに好ましく、14〜25%がさらに好ましく、17〜23%がさらに好ましい。他方、SrO+BaOを3%以上含有するガラスにおいては、RO+ZnO+B2O3は、13〜27%がより好ましく、15〜25%がさらに好ましい。
R2Oは、ガラスの塩基性度を高め、清澄剤の酸化を容易にして、清澄性を発揮させる成分である。また、R2Oは、ガラスの熔解性向上および比抵抗低下を実現しやすくする成分であるので、含まれていてもよい。R2Oは必須成分ではないが、含有させると、比抵抗低下、清澄性向上および熔解性向上を実現できる。しかし、R2O量が多すぎると、Tgおよび歪点が過度に低下し、さらに、熱膨張係数が増大する場合もある。したがって、本実施形態のガラス基板を構成するガラスでは、R2Oは0〜0.8%が好ましく、0.01〜0.5%がより好ましく、0.1〜0.3%がさらに好ましい。
K2Oは、Li2OおよびNa2Oと比較して分子量が大きいため、ガラス基板から溶出しにくい。そのため、R2Oを含有させる場合には、K2Oをより高い比率で含有させることが好ましい。K2Oは、Li2Oよりも高い比率で含有される(K2O>Li2Oを満たす)ことが好ましい。K2Oは、Na2Oよりも高い比率で含有される(K2O>Na2Oを満たす)ことが好ましい。K2O/R2Oは、0.5以上が好ましく、0.6以上が好ましく、0.7以上がより好ましく、0.8以上がさらに好ましく、0.95以上がさらに好ましい。言い換えると、K2O/R2Oは、0.5〜1が好ましく、0.6〜1が好ましく、0.7〜1がより好ましく、0.8〜1がさらに好ましく、0.95〜1がさらに好ましい。
SiO2 62〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
BaO 0〜1未満%(0%以上1%未満)、
を含有し、
歪点が665℃以上であり、
かつ、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜15%、および、CaO/B2O3>1.2の関係を満たす。
SiO2 65〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜8.9未満%(3%以上8.9%未満)
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
が含有され、
BaOが実質的に含有されず、かつ、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜9.5%、および、CaO/B2O3>1.2の関係を満たす。
β−OH値=(1/X)log10(T1/T2)
X :ガラス肉厚(mm)
T1:参照波長2600nmにおける透過率(%)
T2:水酸基吸収波長2800nm付近における最小透過率(%)
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が75ppm以下である、
ガラス基板が挙げられる。
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が60ppm以下である、
ガラス基板も挙げられる。
モル%表示で、
SiO2 62〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
BaO 0〜1未満%、
を含有し、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜15%、およびCaO/B2O3>1.2の関係を満たし、
歪点が665℃以上であり、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成される、
ガラス基板が挙げられる。
モル%表示で、
SiO2 65〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜8.9未満%
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
を含有し、
BaOを実質的に含有せず、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜9.5%、および、CaO/B2O3>1.2の関係を満たし、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成される、
ガラス基板が挙げられる。
モル%でSiO2が55〜80%、Al2O3が3〜20%、B2O3が3〜15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)が3〜25%であり、As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、失透温度が1250℃以下であるガラスとなるように調合したガラス原料を熔融して、熔融ガラスを生成する熔融工程と、
前記熔融ガラスをガラス板へと成形する成形工程と、
前記ガラス板を徐冷する徐冷工程と、を含み、
前記ガラス板の熱収縮率が75ppm以下である、
製造方法が挙げられる。
モル%でSiO2が55〜80%、Al2O3が3〜20%、B2O3が3〜15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)が3〜25%であり、As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、失透温度が1250℃以下であるガラスとなるように調合したガラス原料を熔融して、熔融ガラスを生成する熔融工程と、
前記熔融ガラスをガラス板へと成形する成形工程と、
前記ガラス板を徐冷する徐冷工程と、を含み、
前記ガラス板の熱収縮率が60ppm以下である、
製造方法が挙げられる。
モル%でSiO2が62〜74%、Al2O3が3〜20%、B2O3が3〜15%、CaOが7超〜16%、La2O3が0〜1%、BaOが0〜1未満%であり、B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率がB2O3+P2O5=3〜15%、および、CaO/B2O3>1.2の関係を満たし、歪点が665℃以上であり、かつ、失透温度が1250℃以下のガラスとなるように調合したガラス原料を熔融して、熔融ガラスを生成する熔融工程と、
前記熔融ガラスをガラス板へと成形する成形工程と、
前記ガラス板を徐冷する徐冷工程と、
を含む製造方法が挙げられる。
モル%でSiO2が65〜74%、Al2O3が3〜20%、B2O3が3〜8.9未満%、CaOが7超〜16%、La2O3が0〜1%であり、BaOが実質的に含有されず、B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率がB2O3+P2O5=3〜9.5%、および、CaO/B2O3>1.2の関係を満たし、かつ、失透温度が1250℃以下であるガラスとなるように調合したガラス原料を熔融して、熔融ガラスを生成する熔融工程と、
前記熔融ガラスをガラス板へと成形する成形工程と、
前記ガラス板を徐冷する徐冷工程と、
を含む製造方法が挙げられる。
第1のガラス基板について、実施例を挙げて説明する。なお、第1のガラス基板とは、
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が75ppm以下である、
ガラス基板である。
表1−1および1−2に示すガラス組成になるように、実施例1−1〜1−24および比較例1−1〜1−6の試料ガラスを以下の手順に従って作製した。得られた試料ガラスおよび試料ガラス基板について、失透温度、Tg、100〜300℃の範囲における平均熱膨張係数、熱収縮率、密度、歪点、熔融温度(粘度が102.5dPa・sの時のガラス温度)、液相粘度、および、1550℃における比抵抗を測定した。
まず、表1に示すガラス組成となるように、通常のガラス原料である、シリカ、アルミナ、酸化ホウ素、炭酸カリウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、二酸化スズおよび三酸化二鉄を用いて、ガラス原料バッチ(以下バッチと呼ぶ)を調合した。なお、ガラスで400gとなる量で調合した。
前記試料ガラスを粉砕し、2380μmのふるいを通過し、1000μmのふるい上に留まったガラス粒を得た。このガラス粒をエタノールに浸漬し、超音波洗浄した後、恒温槽で乾燥させた。乾燥させたガラス粒を、幅12mm、長さ200mm、深さ10mmの白金ボート上に、前記ガラス粒25gをほぼ一定の厚さになるように入れた。この白金ボートを、実施例1−1〜1−6、1−8〜1−24および比較例1−1、1−3〜1−5については1080〜1320℃、実施例1−7、比較例1−2および1−6については1140〜1380℃の温度勾配をもった電気炉内に5時間保持し、その後、炉から取り出して、ガラス内部に発生した失透を50倍の光学顕微鏡にて観察した。失透が観察された最高温度を、失透温度とした。
前記試料ガラスの熔融温度は、白金球引き上げ式自動粘度測定装置を用いて測定した。前記測定結果より、粘度102.5dPa・sの時の温度を算出し、熔融温度を得た。
前記熔融温度の測定結果より、前記失透温度での粘性を算出し、液相粘度を得た。
前記試料ガラスの熔融時の比抵抗は、HP社製 4192A LF インピーダンス・アナライザーを用いて、四端子法にて測定した。前記測定結果より、1550℃での比抵抗値を算出した。
前記試料ガラスを、φ5mm、長さ20mmの円柱状に加工して、試験片とした。この試験片に対し、示差熱膨張計(Thermo Plus2 TMA8310)を用いて、昇温過程における温度と試験片の伸縮量を測定した。この時の昇温速度は5℃/minとした。前記温度と試験片の伸縮量との測定結果を元に100〜300℃の温度範囲における平均熱膨張係数およびTgを測定した。なお、本願でのTgとは、ガラス体を800℃に設定した別の電気炉の中で2時間保持した後、740℃まで2時間、更に660℃まで2時間で冷却後、その電気炉の電源を切り、室温まで冷却した試料ガラスについて測定した値である。
前記試料ガラスを、3mm角、長さ55mmの角柱形状に切断・研削加工して、試験片とした。この試験片に対して、ビーム曲げ測定装置(東京工業株式会社製)を用いて測定を行い、ビーム曲げ法(ASTM C−598)に従い、計算により歪点を求めた。
前記試料ガラスを、鏡面研磨して5×30×30mmの板状サンプルを作製した。このサンプルを用いて、アルキメデス法によってガラスの密度を測定した。
熱収縮率は、前記熱収縮測定用試料ガラス基板に対して550℃で2時間の熱処理を施し、熱処理後のガラス基板の収縮量を用いて、以下の式にて求めた。
熱収縮率(ppm)
={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×106
ガラス基板をHFの割合が1mol/kg、HClの割合が5mol/kgの混酸の40℃のエッチング液に1時間浸漬し、ガラス基板の一方の表面の厚み減少量(μm)を測定した。単位時間(1時間)当たりの減少量(μm)としてエッチング速度(μm/h)を求めた。
実施例1−4に示す組成となるよう調合したガラス原料を、耐火煉瓦製の熔解槽と白金合金製の清澄槽(調整槽)を備えた連続熔解装置を用いて、1560〜1640℃で熔解し、1620〜1670℃で清澄し、1440〜1530℃で攪拌した後にオーバーフローダウンドロー法により厚さ0.7mmの薄板状に成形し、TgからTg−100℃の温度範囲内において、100℃/分の平均速度で冷却を行い、液晶ディスプレイ用(または有機ELディスプレイ用)ガラス基板を得た。なお、前記記載の各特性については、得られたガラス基板を用いて測定した。なお、基板状では測定出来ない特性(密度、歪点、膨張係数およびTg)に関しては、前記試料作製方法に準じて、前記ガラス基板を再熔融し、試料ガラスを作製して、特性を測定した。
実施例1−12に示すガラス組成となるよう調合したガラス原料を用いて実施例1−25と同様にしてガラス基板を作製し、各特性を測定した。
第2のガラス基板について、実施例を挙げて説明する。なお、第2のガラス基板とは、
モル%表示で、
SiO2 62〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
BaO 0〜1未満%、
を含有し、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜15%、およびCaO/B2O3>1.2の関係を満たし、
歪点が665℃以上であり、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成される、
ガラス基板である。
第3のガラス基板について、実施例を挙げて説明する。なお、第3のガラス基板とは、
モル%表示で、
SiO2 65〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜8.9未満%
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
を含有し、
BaOを実質的に含有せず、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜9.5%、および、CaO/B2O3>1.2の関係を満たし、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成される、
ガラス基板である。
上記開示から、本発明は以下の態様を提供する。
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が75ppm以下である、
p−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
熱収縮率(ppm)
={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×106
以降の本発明の態様においても、「熱収縮率」は同様に定義される。
熱収縮率が60ppm以下である、
前記第1の態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
モル%表示で、
SiO2 62〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
BaO 0〜1未満%、
を含有し、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜15%、およびCaO/B2O3>1.2の関係を満たし、
歪点が665℃以上であり、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成される、
p−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
モル%表示で、
SiO2 65〜74%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜8.9未満%
CaO 7超〜16%
La2O3 0〜1%
を含有し、
BaOを実質的に含有せず、
B2O3、P2O5およびCaOのモル%で示す含有率が、B2O3+P2O5=3〜9.5%、および、CaO/B2O3>1.2の関係を満たし、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成される、
p−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成されたガラス基板であり、
Tgで30分保持した後、Tg−100℃まで100℃/分で冷却し、室温まで放冷後、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後の前記ガラス基板の熱収縮率が75ppm以下である、
p−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
前記ガラスの歪点が680℃以上である、
前記第1〜第5の態様の何れか1つの態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
前記ガラスにおいて、SiO2、Al2O3、B2O3およびROのモル%で表す含有率が、
(SiO2+2×Al2O3)/(2×B2O3+RO)>3.0の関係を満たす、
前記第1〜第6の態様の何れか1つの態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
前記ガラスにおいて、SiO2およびAl2O3のモル%で表す含有率が、
SiO2+2Al2O3≧80%の関係を満たす、
前記第1〜第7の態様の何れか1つの態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
前記ガラスがZnOを任意の成分として含有し、
前記ガラスにおいて、B2O3、ROおよびZnOのモル%で示す含有率が、
B2O3+RO+ZnO<20%
の関係を満たす、
前記第1〜第8の態様の何れか1つの態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
前記ガラスの液相粘度が104.5dPa・s以上であり、前記ガラスをダウンドロー法によって成形することによって得られた、
前記第1〜第9の態様の何れか1つの態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
液晶ディスプレイ用ガラス基板である、
前記第1〜第10の態様の何れか1つの態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
モル%でSiO2が55〜80%、Al2O3が3〜20%、B2O3が3〜15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)が3〜25%であり、As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、失透温度が1250℃以下であるガラスとなるように調合したガラス原料を熔融して、熔融ガラスを生成する熔融工程と、
前記熔融ガラスをガラス板へと成形する成形工程と、
前記ガラス板を徐冷する徐冷工程と、を含み、
前記ガラス板の熱収縮率が75ppm以下である、
p−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供する。
前記ガラス板の熱収縮率が60ppm以下である、
前記第12の態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供する。
前記熔融工程では、β−OHが0.05〜0.40mm-1となるように熔融ガラスを生成し、
前記徐冷工程では、前記ガラス板をガラス転移点(Tg)からTg−100℃までの温度範囲内において、50〜300℃/分の平均速度で冷却する、
前記第12又は13の態様に記載のp−Si・TFTが形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供する。
モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が75ppm以下である、
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
熱収縮率が60ppm以下である、
前記第15の態様に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
Claims (12)
- モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、
熱収縮率が75ppm以下である、
ディスプレイ用ガラス基板。
ただし、前記熱収縮率とは、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、以下の式にて求められる値である。
熱収縮率(ppm)
={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×106 - 熱収縮率が60ppm以下である、
請求項1に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ガラスの歪点が680℃以上である、
請求項1又は2に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ガラスにおいて、SiO2、Al2O3、B2O3およびROのモル%で表す含有率が、
(SiO2+2×Al2O3)/(2×B2O3+RO)>3.0の関係を満たす、
請求項1〜3の何れか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ガラスにおいて、SiO2およびAl2O3のモル%で表す含有率が、
SiO2+2Al2O3≧80%の関係を満たす、
請求項1〜4の何れか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ガラスがZnOを任意の成分として含有し、
前記ガラスにおいて、B2O3、ROおよびZnOのモル%で示す含有率が、
B2O3+RO+ZnO<20%
の関係を満たす、
請求項1〜5の何れか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ガラスの液相粘度が104.5dPa・s以上であり、前記ガラスをダウンドロー法によって成形することによって得られた、
請求項1〜6の何れか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 液晶ディスプレイ用ガラス基板である、
請求項1〜7の何れか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - モル%でSiO2が55〜80%、Al2O3が3〜20%、B2O3が3〜15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)が3〜25%であり、As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、失透温度が1250℃以下であるガラスとなるように調合したガラス原料を熔融して、熔融ガラスを生成する熔融工程と、
前記熔融ガラスをガラス板へと成形する成形工程と、
前記ガラス板を徐冷する徐冷工程と、を含み、
前記ガラス板の熱収縮率が75ppm以下である、
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
ただし、前記熱収縮率とは、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後のガラス板の収縮量を用いて、以下の式にて求められる値である。
熱収縮率(ppm)
={熱処理後のガラス板の収縮量/熱処理前のガラス板の長さ}×106 - 前記ガラス板の熱収縮率が60ppm以下である、
請求項9に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 前記熔融工程では、β−OHが0.05〜0.40mm-1となるように熔融ガラスを生成し、
前記徐冷工程では、前記ガラス板をガラス転移点(Tg)からTg−100℃までの温度範囲内において、50〜300℃/分の平均速度で冷却する、
請求項9又は10に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - モル%表示で、
SiO2 55〜80%
Al2O3 3〜20%
B2O3 3〜15%
RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 3〜25%
を含有し、
As2O3およびSb2O3を実質的に含有せず、かつ、
失透温度が1250℃以下であるガラスから構成されたガラス基板であり、
Tgで30分保持した後、Tg−100℃まで100℃/分で冷却し、室温まで放冷後、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後の前記ガラス基板の熱収縮率が75ppm以下である、
ディスプレイ用ガラス基板。
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KR20220043118A (ko) * | 2019-07-29 | 2022-04-05 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 지지 유리 기판 |
US11773006B1 (en) | 2022-11-10 | 2023-10-03 | Corning Incorporated | Glasses for high performance displays |
Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09169538A (ja) * | 1994-11-30 | 1997-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及び液晶ディスプレイパネル |
JP2001106546A (ja) * | 1999-08-21 | 2001-04-17 | Carl Zeiss:Fa | アルカリフリーのアルミノホウケイ酸ガラス及びその使用 |
JP2001506223A (ja) * | 1996-12-17 | 2001-05-15 | コーニング インコーポレイテッド | ディスプレイパネル用ガラスおよび光電圧装置 |
JP2001240427A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-09-04 | Carl Zeiss:Fa | アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用 |
JP2002003240A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 液晶ディスプレイ用ガラス基板 |
JP2002234752A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-08-23 | Carl Zeiss:Fa | 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラスおよびその使用 |
JP2003503301A (ja) * | 1999-06-29 | 2003-01-28 | ホーヤ株式会社 | 液晶パネル用ガラス基板およびガラス組成物 |
JP2005306719A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-11-04 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ディスプレイ基板用ガラス |
JP2006213595A (ja) * | 2005-02-06 | 2006-08-17 | Henan Ancai High-Tech Co Ltd | アルカリ金属フリーのガラスの組成、それについての調合および使用 |
JP2006306721A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Schott Ag | フラッシュランプガラス |
JP2008544942A (ja) * | 2005-06-28 | 2008-12-11 | コーニング インコーポレイテッド | ボロアルミノシリケートガラスの清澄 |
JP2009525942A (ja) * | 2006-02-10 | 2009-07-16 | コーニング インコーポレイテッド | 熱および化学安定性が高いガラス組成物ならびにその製造方法 |
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JP2010509180A (ja) * | 2006-11-13 | 2010-03-25 | コーニング インコーポレイテッド | 清澄剤として鉄およびスズを含有する無アルカリガラス |
JP2011020864A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板の製造方法 |
JP2011126728A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Avanstrate Inc | ガラス組成物とそれを用いたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板 |
JP2012082130A (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-26 | Corning Inc | 高熱および化学安定性を有する無アルカリガラス組成物 |
WO2013005402A1 (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-10 | AvanStrate株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
WO2013099855A1 (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3083586B2 (ja) * | 1991-04-26 | 2000-09-04 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
US5116787A (en) * | 1991-08-12 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | High alumina, alkaline earth borosilicate glasses for flat panel displays |
US5116788A (en) * | 1991-08-12 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | Alkaline earth aluminoborosilicate glasses for flat panel displays |
US5374595A (en) * | 1993-01-22 | 1994-12-20 | Corning Incorporated | High liquidus viscosity glasses for flat panel displays |
DE69508706T2 (de) * | 1994-11-30 | 1999-12-02 | Asahi Glass Co. Ltd., Tokio/Tokyo | Alkalifreies Glas und Flachbildschirm |
JP3988456B2 (ja) * | 2001-12-21 | 2007-10-10 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス及びディスプレイ用ガラス基板 |
JP2004315354A (ja) | 2003-03-31 | 2004-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
WO2004087597A1 (ja) | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Asahi Glass Company Limited | 無アルカリガラス |
JP4941872B2 (ja) * | 2003-09-02 | 2012-05-30 | 日本電気硝子株式会社 | 液晶ディスプレイ用透明無アルカリガラス基板 |
CN1898168B (zh) | 2003-12-26 | 2012-08-01 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃、其制造方法及液晶显示板 |
JP5109225B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2012-12-26 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
JP2008105860A (ja) * | 2005-01-31 | 2008-05-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラスの製造方法 |
JP5083707B2 (ja) * | 2006-01-12 | 2012-11-28 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板の製造方法 |
KR101282952B1 (ko) * | 2006-01-12 | 2013-07-08 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 무 알칼리 유리기판 |
JP5088670B2 (ja) | 2006-04-11 | 2012-12-05 | 日本電気硝子株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板 |
JP5703535B2 (ja) * | 2006-05-23 | 2015-04-22 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
JP5808069B2 (ja) * | 2007-02-16 | 2015-11-10 | 日本電気硝子株式会社 | 太陽電池用ガラス基板 |
JP5435394B2 (ja) * | 2007-06-08 | 2014-03-05 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
JP5327702B2 (ja) * | 2008-01-21 | 2013-10-30 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
JP5333984B2 (ja) * | 2008-06-27 | 2013-11-06 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
JP5757451B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2015-07-29 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
CN102030475B (zh) * | 2010-10-15 | 2012-07-25 | 北京工业大学 | 用于tft-lcd的环保型无碱铝硼硅酸盐玻璃 |
-
2012
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-
2014
- 2014-05-13 US US14/276,843 patent/US9469564B2/en active Active
-
2015
- 2015-12-08 JP JP2015239041A patent/JP6348100B2/ja active Active
Patent Citations (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09169538A (ja) * | 1994-11-30 | 1997-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及び液晶ディスプレイパネル |
JP2001506223A (ja) * | 1996-12-17 | 2001-05-15 | コーニング インコーポレイテッド | ディスプレイパネル用ガラスおよび光電圧装置 |
JP2003503301A (ja) * | 1999-06-29 | 2003-01-28 | ホーヤ株式会社 | 液晶パネル用ガラス基板およびガラス組成物 |
JP2001106546A (ja) * | 1999-08-21 | 2001-04-17 | Carl Zeiss:Fa | アルカリフリーのアルミノホウケイ酸ガラス及びその使用 |
JP2001240427A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-09-04 | Carl Zeiss:Fa | アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用 |
JP2002003240A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 液晶ディスプレイ用ガラス基板 |
JP2002234752A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-08-23 | Carl Zeiss:Fa | 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラスおよびその使用 |
JP2005306719A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-11-04 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ディスプレイ基板用ガラス |
JP2006213595A (ja) * | 2005-02-06 | 2006-08-17 | Henan Ancai High-Tech Co Ltd | アルカリ金属フリーのガラスの組成、それについての調合および使用 |
JP2006306721A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Schott Ag | フラッシュランプガラス |
JP2008544942A (ja) * | 2005-06-28 | 2008-12-11 | コーニング インコーポレイテッド | ボロアルミノシリケートガラスの清澄 |
JP2009525942A (ja) * | 2006-02-10 | 2009-07-16 | コーニング インコーポレイテッド | 熱および化学安定性が高いガラス組成物ならびにその製造方法 |
JP2010509180A (ja) * | 2006-11-13 | 2010-03-25 | コーニング インコーポレイテッド | 清澄剤として鉄およびスズを含有する無アルカリガラス |
WO2009139861A1 (en) * | 2008-05-13 | 2009-11-19 | Corning Incorporated | Rare-earth-containing glass material and substrate and device comprising such substrate |
JP2009286689A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Corning Inc | ボロアルミノシリケートガラス |
JP2011020864A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板の製造方法 |
JP2011126728A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Avanstrate Inc | ガラス組成物とそれを用いたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板 |
JP2012082130A (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-26 | Corning Inc | 高熱および化学安定性を有する無アルカリガラス組成物 |
WO2013005402A1 (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-10 | AvanStrate株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
WO2013099855A1 (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
JP2013151407A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-08-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
D.EHRT: "Redox behaviour of Sn4+/Sn2+ in alkali free aluminosilicate glasses and melts", PHYSICS AND CHEMISTRY OF GLASSES:EUROPIAN JOURNAL OF GLASS SCIENCE AND TECHNOLOGY PART B, vol. 49, no. 2, JPN6017048854, April 2008 (2008-04-01), GB, pages 68 - 72, ISSN: 0003795879 * |
牧島亮男 他: ""ガラス材料設計支援システム:VitrES"", FUJITSU, vol. 第44巻第6号, JPN6017012715, 10 November 1993 (1993-11-10), JP, pages 560 - 565, ISSN: 0003562919 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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