JP2016072344A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
9 基板
31 基板保持部
61 薬液供給部
62 洗浄液供給部
63 吐出位置移動機構
71 制御部
91 上面
614 薬液吐出口
624 洗浄液吐出口
S11〜S13 ステップ
Claims (9)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
水平状態の基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上面上の吐出位置に向けて薬液を吐出する薬液吐出口を有し、前記基板に前記薬液を供給して薬液処理を行う薬液供給部と、
前記基板の前記上面上の前記吐出位置に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口を有し、前記基板に前記洗浄液を供給して洗浄処理を行う洗浄液供給部と、
前記薬液供給部および前記洗浄液供給部を制御することにより、前記基板に対する前記薬液処理を前記洗浄処理へと切り替える際に、前記薬液吐出口からの前記薬液の吐出が停止するよりも前に前記洗浄液吐出口からの前記洗浄液の吐出を開始し、前記基板に対する前記薬液処理が前記洗浄処理へと切り替えられる間、前記薬液吐出口から吐出される前記薬液と前記洗浄液吐出口から吐出される前記洗浄液との合計流量を一定以下に維持する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記薬液吐出口から前記吐出位置に向かう薬液吐出方向が、前記上下方向に平行であり、
前記洗浄液吐出口から前記吐出位置に向かう洗浄液吐出方向が、前記上下方向に平行であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記吐出位置と前記基板の前記上面の中央部との間の径方向の距離を変更する吐出位置移動機構をさらに備えることを特徴とすることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記吐出位置が、前記基板の前記上面の中央部であることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理装置であって、
水平状態の基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上面の中央部に向けて薬液を吐出する薬液吐出口を有し、前記基板に前記薬液を供給して薬液処理を行う薬液供給部と、
上下方向に対して傾斜する方向であって前記基板の前記上面の前記中央部に向かう洗浄液吐出方向に洗浄液を吐出する洗浄液吐出口を有し、前記基板に前記洗浄液を供給して洗浄処理を行う洗浄液供給部と、
前記薬液供給部および前記洗浄液供給部を制御することにより、前記基板に対する前記薬液処理を前記洗浄処理へと切り替える際に、前記薬液吐出口からの前記薬液の吐出が停止するよりも前に前記洗浄液吐出口からの前記洗浄液の吐出を開始し、前記洗浄液吐出口から前記基板に向かう前記洗浄液の液柱に、前記薬液吐出口からの前記薬液を合流させる制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置であって、
前記薬液吐出口から前記基板の前記上面に向かう薬液吐出方向が、前記上下方向に対して傾斜する方向であり、
前記基板の前記上面上における前記薬液吐出方向の射影が、前記基板の前記上面上における前記洗浄液吐出方向の射影と重なることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5または6に記載の基板処理装置であって、
前記制御部により、前記基板に対する前記薬液処理が前記洗浄処理へと切り替えられる間、前記薬液吐出口から吐出される前記薬液と前記洗浄液吐出口から吐出される前記洗浄液との合計流量が一定以下に維持されることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理方法であって、
a)水平状態の基板の上面上の吐出位置に向けて薬液吐出口から薬液を吐出して前記基板に薬液処理を行う工程と、
b)前記a)工程よりも後に、前記基板の前記上面上の前記吐出位置に向けて洗浄液吐出口から洗浄液を吐出して前記基板に洗浄処理を行う工程と、
を備え、
前記a)工程と前記b)工程との間において前記基板に対する前記薬液処理が前記洗浄処理へと切り替えられる際に、前記薬液吐出口からの前記薬液の吐出が停止するよりも前に前記洗浄液吐出口からの前記洗浄液の吐出が開始され、前記基板に対する前記薬液処理が前記洗浄処理へと切り替えられる間、前記薬液吐出口から吐出される前記薬液と前記洗浄液吐出口から吐出される前記洗浄液との合計流量が一定以下に維持されることを特徴とする基板処理方法。 - 基板を処理する基板処理方法であって、
a)水平状態の基板の上面の中央部に向けて薬液吐出口から薬液を吐出して前記基板に薬液処理を行う工程と、
b)前記a)工程よりも後に、上下方向に対して傾斜する方向であって前記基板の前記上面の前記中央部に向かう洗浄液吐出方向に洗浄液吐出口から洗浄液を吐出して前記基板に洗浄処理を行う工程と、
を備え、
前記a)工程と前記b)工程との間において前記基板に対する前記薬液処理が前記洗浄処理へと切り替えられる際に、前記薬液吐出口からの前記薬液の吐出が停止するよりも前に前記洗浄液吐出口からの前記洗浄液の吐出が開始され、前記洗浄液吐出口から前記基板に向かう前記洗浄液の液柱に、前記薬液吐出口からの前記薬液が合流することを特徴とする基板処理方法。
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