JP2016071059A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016071059A5 JP2016071059A5 JP2014199013A JP2014199013A JP2016071059A5 JP 2016071059 A5 JP2016071059 A5 JP 2016071059A5 JP 2014199013 A JP2014199013 A JP 2014199013A JP 2014199013 A JP2014199013 A JP 2014199013A JP 2016071059 A5 JP2016071059 A5 JP 2016071059A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- pattern
- photomask
- film
- transparent substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 76
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 63
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N nitride(3-) Chemical compound [N-3] TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 190
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 50
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 26
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 24
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 21
- 230000003287 optical Effects 0.000 description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 17
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 210000000481 Breast Anatomy 0.000 description 2
- XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P Ceric ammonium nitrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ce+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014199013A JP6335735B2 (ja) | 2014-09-29 | 2014-09-29 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 |
TW104127730A TWI604264B (zh) | 2014-09-29 | 2015-08-25 | 光罩及顯示裝置之製造方法 |
TW108109637A TWI694302B (zh) | 2014-09-29 | 2015-08-25 | 光罩及顯示裝置之製造方法 |
TW106130523A TWI658320B (zh) | 2014-09-29 | 2015-08-25 | 圖案轉印方法及顯示裝置之製造方法 |
TW106130522A TWI635353B (zh) | 2014-09-29 | 2015-08-25 | 光罩及顯示裝置之製造方法 |
KR1020150136927A KR20160037806A (ko) | 2014-09-29 | 2015-09-25 | 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법 |
CN201510624801.XA CN105467745B (zh) | 2014-09-29 | 2015-09-25 | 光掩模和显示装置的制造方法 |
CN201911133180.XA CN110824828B (zh) | 2014-09-29 | 2015-09-25 | 光掩模和显示装置的制造方法 |
KR1020170129436A KR102182505B1 (ko) | 2014-09-29 | 2017-10-11 | 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법 |
KR1020200154522A KR102304206B1 (ko) | 2014-09-29 | 2020-11-18 | 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014199013A JP6335735B2 (ja) | 2014-09-29 | 2014-09-29 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018088122A Division JP6731441B2 (ja) | 2018-05-01 | 2018-05-01 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016071059A JP2016071059A (ja) | 2016-05-09 |
JP2016071059A5 true JP2016071059A5 (zh) | 2016-07-14 |
JP6335735B2 JP6335735B2 (ja) | 2018-05-30 |
Family
ID=55605593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014199013A Active JP6335735B2 (ja) | 2014-09-29 | 2014-09-29 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6335735B2 (zh) |
KR (3) | KR20160037806A (zh) |
CN (2) | CN110824828B (zh) |
TW (4) | TWI635353B (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6259509B1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-01-10 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法 |
JP6808665B2 (ja) * | 2017-03-10 | 2021-01-06 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP7080070B2 (ja) * | 2017-03-24 | 2022-06-03 | Hoya株式会社 | フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP6368000B1 (ja) * | 2017-04-04 | 2018-08-01 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法 |
TWI659262B (zh) * | 2017-08-07 | 2019-05-11 | 日商Hoya股份有限公司 | 光罩之修正方法、光罩之製造方法、光罩及顯示裝置之製造方法 |
TWI691608B (zh) * | 2017-09-12 | 2020-04-21 | 日商Hoya股份有限公司 | 光罩之修正方法、光罩之製造方法、光罩及顯示裝置之製造方法 |
JP6731441B2 (ja) * | 2018-05-01 | 2020-07-29 | Hoya株式会社 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 |
KR102254646B1 (ko) | 2018-07-30 | 2021-05-21 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크 수정 방법, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크, 및 표시 장치용 디바이스의 제조 방법 |
KR102367141B1 (ko) * | 2019-02-27 | 2022-02-23 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법 |
JP7437959B2 (ja) * | 2019-03-07 | 2024-02-26 | Hoya株式会社 | 修正フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP7383490B2 (ja) * | 2020-01-07 | 2023-11-20 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | フォトマスク |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0315845A (ja) | 1989-06-14 | 1991-01-24 | Hitachi Ltd | マスク及びマスク作製方法 |
JPH0695360A (ja) * | 1992-09-10 | 1994-04-08 | Fujitsu Ltd | 光学マスク |
JP2000019710A (ja) * | 1998-07-07 | 2000-01-21 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法 |
JP2000181048A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Sharp Corp | フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法 |
JP3746497B2 (ja) * | 2003-06-24 | 2006-02-15 | 松下電器産業株式会社 | フォトマスク |
JP4645076B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2011-03-09 | 凸版印刷株式会社 | 位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法 |
DE602006021102D1 (de) * | 2005-07-21 | 2011-05-19 | Shinetsu Chemical Co | Photomaskenrohling, Photomaske und deren Herstellungsverfahren |
JP3971774B2 (ja) * | 2005-10-17 | 2007-09-05 | 松下電器産業株式会社 | パターン形成方法 |
JP3971775B2 (ja) * | 2005-10-17 | 2007-09-05 | 松下電器産業株式会社 | フォトマスク |
JP2007219038A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Hoya Corp | マスクブランク及びフォトマスク |
JP4484909B2 (ja) * | 2007-07-24 | 2010-06-16 | キヤノン株式会社 | 原版データ作成方法、原版作成方法、露光方法および原版データ作成プログラム |
US8709681B2 (en) * | 2009-04-16 | 2014-04-29 | Hoya Corporation | Mask blank, transfer mask, and film denseness evaluation method |
JP5611581B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-10-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク及びその製造方法、並びに、転写マスク及びその製造方法 |
CN103998985B (zh) * | 2011-12-21 | 2018-04-03 | 大日本印刷株式会社 | 大型相移掩膜及大型相移掩膜的制造方法 |
JP2013140236A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-18 | Hoya Corp | マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 |
JP6232709B2 (ja) * | 2012-02-15 | 2017-11-22 | 大日本印刷株式会社 | 位相シフトマスク及び当該位相シフトマスクを用いたレジストパターン形成方法 |
JP6139826B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2017-05-31 | Hoya株式会社 | フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP6093117B2 (ja) * | 2012-06-01 | 2017-03-08 | Hoya株式会社 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法 |
JP5916680B2 (ja) * | 2012-10-25 | 2016-05-11 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用フォトマスク、及びパターン転写方法 |
-
2014
- 2014-09-29 JP JP2014199013A patent/JP6335735B2/ja active Active
-
2015
- 2015-08-25 TW TW106130522A patent/TWI635353B/zh active
- 2015-08-25 TW TW104127730A patent/TWI604264B/zh active
- 2015-08-25 TW TW106130523A patent/TWI658320B/zh active
- 2015-08-25 TW TW108109637A patent/TWI694302B/zh active
- 2015-09-25 CN CN201911133180.XA patent/CN110824828B/zh active Active
- 2015-09-25 KR KR1020150136927A patent/KR20160037806A/ko active Search and Examination
- 2015-09-25 CN CN201510624801.XA patent/CN105467745B/zh active Active
-
2017
- 2017-10-11 KR KR1020170129436A patent/KR102182505B1/ko active IP Right Grant
-
2020
- 2020-11-18 KR KR1020200154522A patent/KR102304206B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6335735B2 (ja) | フォトマスク及び表示装置の製造方法 | |
JP2016071059A5 (zh) | ||
KR102195658B1 (ko) | 포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 블랭크 및 표시 장치의 제조 방법 | |
JP2016024264A5 (zh) | ||
KR102245531B1 (ko) | 표시 장치 제조용 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법 | |
JP7231667B2 (ja) | 表示装置製造用フォトマスクブランク、表示装置製造用フォトマスク及び表示装置の製造方法 | |
JP6731441B2 (ja) | フォトマスク及び表示装置の製造方法 | |
JP2019012280A (ja) | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクブランク及び表示装置の製造方法 |