JP2016065299A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016065299A5 JP2016065299A5 JP2014196266A JP2014196266A JP2016065299A5 JP 2016065299 A5 JP2016065299 A5 JP 2016065299A5 JP 2014196266 A JP2014196266 A JP 2014196266A JP 2014196266 A JP2014196266 A JP 2014196266A JP 2016065299 A5 JP2016065299 A5 JP 2016065299A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- frequency power
- plasma
- antenna
- sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 37
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 35
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 3
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014196266A JP6264248B2 (ja) | 2014-09-26 | 2014-09-26 | 成膜方法およびスパッタリング装置 |
| PCT/JP2015/061238 WO2016047184A1 (ja) | 2014-09-26 | 2015-04-10 | 成膜方法およびスパッタリング装置 |
| CN201580051441.7A CN106715750B (zh) | 2014-09-26 | 2015-04-10 | 成膜方法及溅镀装置 |
| KR1020177010896A KR20170058428A (ko) | 2014-09-26 | 2015-04-10 | 성막 방법 및 스퍼터링 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014196266A JP6264248B2 (ja) | 2014-09-26 | 2014-09-26 | 成膜方法およびスパッタリング装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016065299A JP2016065299A (ja) | 2016-04-28 |
| JP2016065299A5 true JP2016065299A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2017-02-16 |
| JP6264248B2 JP6264248B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=55580725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014196266A Active JP6264248B2 (ja) | 2014-09-26 | 2014-09-26 | 成膜方法およびスパッタリング装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6264248B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| KR (1) | KR20170058428A (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| CN (1) | CN106715750B (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| WO (1) | WO2016047184A1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7061257B2 (ja) | 2017-03-17 | 2022-04-28 | 日新電機株式会社 | スパッタリング装置 |
| JP6310601B1 (ja) | 2017-06-07 | 2018-04-11 | 日新電機株式会社 | スパッタリング装置 |
| TWI684283B (zh) * | 2017-06-07 | 2020-02-01 | 日商日新電機股份有限公司 | 薄膜電晶體的製造方法 |
| JP6916699B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2021-08-11 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 成膜方法および成膜装置 |
| JP6487611B1 (ja) | 2017-12-27 | 2019-03-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 成膜方法および成膜装置 |
| JP2021088727A (ja) * | 2018-03-20 | 2021-06-10 | 日新電機株式会社 | 成膜方法 |
| CN111270209B (zh) * | 2018-12-05 | 2023-12-12 | 东君新能源有限公司 | 一种蒸汽溅射装置及控制系统、控制方法 |
| JP2020152968A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | 日新電機株式会社 | スパッタリング装置 |
| GB2597985B (en) * | 2020-08-13 | 2024-07-31 | Dyson Technology Ltd | Method of forming a cathode layer, method of forming a battery half cell |
| JP7740827B2 (ja) * | 2021-10-20 | 2025-09-17 | 東京エレクトロン株式会社 | スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 |
| JP2024034664A (ja) * | 2022-09-01 | 2024-03-13 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03193868A (ja) * | 1989-12-21 | 1991-08-23 | Toyota Motor Corp | 薄膜の形成方法 |
| JP2002069635A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-08 | Ulvac Japan Ltd | プラズマ発生装置並びにこの装置を利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法 |
| JP2003183824A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-07-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパッタ方法 |
| JP2005163151A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Seinan Kogyo Kk | 三次元スパッタ成膜装置並びに方法 |
| JP2013206652A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Nissin Electric Co Ltd | アンテナ装置、それを備えるプラズマ処理装置およびスパッタリング装置 |
| KR20140019577A (ko) * | 2012-08-06 | 2014-02-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법 |
| JP2014057034A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-03-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 酸化アルミニウムの成膜方法 |
| JP6101533B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2017-03-22 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 酸化アルミニウムの成膜方法 |
-
2014
- 2014-09-26 JP JP2014196266A patent/JP6264248B2/ja active Active
-
2015
- 2015-04-10 KR KR1020177010896A patent/KR20170058428A/ko not_active Ceased
- 2015-04-10 CN CN201580051441.7A patent/CN106715750B/zh active Active
- 2015-04-10 WO PCT/JP2015/061238 patent/WO2016047184A1/ja not_active Ceased