JP2016035960A - 搬送装置 - Google Patents

搬送装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016035960A
JP2016035960A JP2014157905A JP2014157905A JP2016035960A JP 2016035960 A JP2016035960 A JP 2016035960A JP 2014157905 A JP2014157905 A JP 2014157905A JP 2014157905 A JP2014157905 A JP 2014157905A JP 2016035960 A JP2016035960 A JP 2016035960A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
support member
suction
region
plate
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014157905A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6518891B2 (ja
Inventor
隆徳 松本
Takanori Matsumoto
隆徳 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
V Technology Co Ltd
Original Assignee
V Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by V Technology Co Ltd filed Critical V Technology Co Ltd
Priority to JP2014157905A priority Critical patent/JP6518891B2/ja
Priority to CN201520550174.5U priority patent/CN204957798U/zh
Publication of JP2016035960A publication Critical patent/JP2016035960A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6518891B2 publication Critical patent/JP6518891B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

【課題】支持部材の高さにばらつきがあったとしても、安定して薄い板状体を搬送することができる。
【解決手段】略矩形形状の板状の支持部材の上面から板状体を浮上させて、搬送方向に沿って板状体を搬送させるときに、支持部材の搬送方向に略直交する辺である第1の辺の近傍の領域である第1の領域又は第1の辺と略平行な第2の辺の近傍の領域である第2の領域において板状体が前記支持部材の方へ吸引される力と、支持部材の第1の領域及び第2の領域以外の領域である第3の領域において板状体が支持部材の方へ吸引される力とが異なる。
【選択図】 図3

Description

本発明は、搬送装置に関する。
特許文献1には、気体が吸引される負圧室を備えたチャンバーと、チャンバーの天井壁に形成され、チャンバー長手方向に沿って延びる縦溝と縦溝に交差する横溝とを有する溝部と、溝部の溝底を貫通する気体供給路と、天井壁を貫通し負圧室と連通するように配設された吸気孔と、天井壁に固定され、吸気孔と連通する吸引孔を有すると共に、気体供給路から溝部を経由して進入した気体を噴出する多孔質板と、を備え、横溝の終端が他の溝に繋がっていない浮上ユニットが開示されている。
特開2010−260715号公報
特許文献1に記載の発明では、多孔質板の端には溝が形成されておらず、吸気孔のみが設けられている。したがって、特許文献1に記載の発明では、多孔質板の中央領域に比べて、多孔質板の外周領域の正圧が低くなる、すなわち多孔質板からのワーク(板状体)の浮上高さが低くなる。このような現象は、ワークの厚さが、通常の場合(例えば、略0.7mm程度)と比べて薄い場合(例えば、略0.2〜0.5mm程度)に顕著である。
一般的に、多孔質板は、組み立て誤差により、高さ方向に取付誤差が生じる。したがって、特許文献1に記載の発明のように、多孔質板の中央領域に比べて、多孔質板の外周領域におけるワークの浮上高さが低くなる場合には、隣接する多孔質板の高さにばらつきにより、ワークが多孔質板に当接する恐れがある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、支持部材の高さにばらつきがあったとしても、安定して薄い板状体を搬送することができる搬送装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明に係る搬送装置は、例えば、略矩形形状の板状の支持部材と、前記支持部材の上面から板状体を浮上させて搬送方向に沿って前記板状体を搬送させる搬送部であって、前記支持部材に設けられた複数の吹出構造と、前記吹出構造を介して前記支持部材の下面から上面に向けて空気を吹き出す吹出部と、前記支持部材に設けられた複数の吸引孔と、前記吸引孔を介して前記支持部材の上面の空気を前記支持部材の下面に向けて吸引する吸引部と、を有する搬送部と、を備え、前記支持部材の前記搬送方向に略直交する辺である第1の辺の近傍の領域である第1の領域又は前記第1の辺と略平行な第2の辺の近傍の領域である第2の領域において前記板状体が前記支持部材の方へ吸引される力と、前記支持部材の前記第1の領域及び前記第2の領域以外の領域である第3の領域において前記板状体が前記支持部材の方へ吸引される力とが異なることを特徴とする。
本発明に係る搬送装置によれば、略矩形形状の板状の支持部材の上面から板状体を浮上させて、搬送方向に沿って板状体を搬送させるときに、支持部材の搬送方向に略直交する辺である第1の辺の近傍の領域である第1の領域又は第1の辺と略平行な第2の辺の近傍の領域である第2の領域において板状体が前記支持部材の方へ吸引される力と、支持部材の第1の領域及び第2の領域以外の領域である第3の領域において板状体が支持部材の方へ吸引される力とが異なる。これにより、支持部材の高さにばらつきがあったとしても、安定して薄い板状体を搬送することができる。
ここで、前記吸引孔は、前記第1の領域に形成された第1の吸引孔と、前記第2の領域に形成された第2の吸引孔と、前記第3の領域に形成された第3の吸引孔と、を有し、前記吸引部は、前記第1の吸引孔を介して空気を吸引する第1の吸引部と、前記第2の吸引孔を介して空気を吸引する第2の吸引部と、前記第3の吸引孔を介して空気を吸引する第3の吸引部と、を有し、前記第1の吸引部が空気を吸引する吸引力又は前記第2の吸引部が空気を吸引する吸引力と、前記第3の吸引部が空気を吸引する吸引力と、が異なってもよい。これにより、吸引孔の数、配置位置等が従来と同じ場合にもいても、安定して薄い板状体を搬送することができる。
ここで、前記吹出構造は、前記第1の領域に形成された第1の吹出構造と、前記第2の領域に形成された第2の吹出構造と、前記第3の領域に形成された第3の吹出構造と、を有し、前記吸引孔は、前記第1の領域に形成された第1の吸引孔と、前記第2の領域に形成された第2の吸引孔と、前記第3の領域に形成された第3の吸引孔と、を有し、前記第1の吹出構造の数に対する前記第1の吸引孔の数の比又は前記第2の吹出構造の数に対する前記第2の吸引孔の数の比と、前記第3の吹出構造の数に対する前記第3の吸引孔の数の比とが異なってもよいし、前記第1の吹出構造の面積に対する前記第1の吸引孔の面積の比又は前記第2の吹出構造の面積に対する前記第2の吸引孔の面積の比と、前記第3の吹出構造の面積に対する前記第3の吸引孔の面積の比とが異なってもよい。これにより、制御系を従来の構造と変えることなく、安定して薄い板状体を搬送することができる。
ここで、前記吸引孔又は前記吹出構造は、前記支持部材の前記搬送方向に直交する辺と略平行な線上に設けられ、前記略平行な線のうちの前記支持部材の前記搬送方向に直交する辺に最も近い線上には、前記吸引孔と前記吹出構造とが両方設けられてもよい。これにより、板状体が支持部材と支持部材との間を通過するときに、板状体の先端が浮き上がったり沈み込んだりすることを防止することができる。
本発明によれば、支持部材の高さにばらつきがあったとしても、安定して薄い板状体を搬送することができる。
第1の実施の形態に係る露光装置1の概略を示す正面図である。 (A)は、板状体搬送機構10の平面図(上(+z方向)から見た図)であり、(B)は、(A)のA−A断面図である。 支持部材11及び搬送部12の詳細を示す模式図である。 支持部材11における正圧溝13及び負圧孔15の配置を示す模式図である。 支持部材11における領域11f、11g、11hの位置を説明するための模式図である。 上面11aの高さ方向がばらついたときの、板状体Wの挙動を説明するための図である。(A)は、移動元の支持部材11αの上面11aより移動先の支持部材11βの上面11aが高い場合を示し、(B)は、移動元の支持部材11αの上面11aより移動先の支持部材11βの上面11aが低い場合を示す。 変形例に係る支持部材11Aの模式図である。 第2の実施の形態に係る露光装置2の支持部材11B及び搬送部12Aの詳細を示す模式図である。 支持部材11Bにおける正圧溝13及び負圧孔15Aの配置を示す模式図である。 変形例に係る支持部材11Cの模式図である。 変形例に係る支持部材11Dの模式図である。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。
<第1の実施の形態>
図1は第1の実施の形態に係る露光装置1の概略を示す正面図である。露光装置1は、感光性物質を塗布した板状体(例えば、基板)に対してフォトマスクを介して露光光を照射して、所定の露光パターンを形成するものである。
露光装置1は、主として、板状体搬送機構10と、露光部20と、マスク保持部30と、を備える。
板状体搬送機構10は、ガラスの板状体W(例えば、ガラス基板)を一定量(例えば、設計値であるH1)浮上させて保持すると共に、所定方向(例えば、x方向)に搬送する。板状体搬送機構10は、主として、支持部材11と、支持部材11の上面から板状体を浮上させて搬送方向に沿って前記板状体を搬送させる搬送部12(図1では図示せず、図3参照)とを備える。
支持部材11は、多数の微細な空孔を有する直方体状の焼結体により形成される。支持部材11は、略矩形形状の板状の部材である。図2(A)は、板状体搬送機構10の平面図(+z方向から見た図)である。図2(A)に示すように、板状体搬送機構10は、x方向及びy方向に沿って設けられた複数の支持部材11を有する。支持部材11は、長手方向が搬送方向(x方向)と略平行となるように、隣接する支持部材11と所定の距離だけ離して設けられる。
図2(B)は、図2(A)のA−A断面図である。図2(B)に示すように、支持部材11は、上面11aの高さが一定となるように組み立てられる。しかしながら、組み立て誤差により、上面11aの高さ(z方向の位置)は、支持部材11ごとに微小なばらつきH2(例えば、約10μm程度)を有する。本実施の形態における板状体搬送機構10は、後に詳述するように、組み立て誤差がある場合にも安定して板状体Wを搬送可能である。
図3は、支持部材11及び搬送部12の詳細を示す模式図である。なお、図3は、図1の一部(特に、板状体搬送機構10の一部)を拡大した図である。搬送部12は、主として、支持部材11に設けられた正圧溝13と、正圧溝13を介して支持部材11の下面から上面に向けて空気を吹き出す吹出部14と、支持部材11を貫通するように設けられた複数の負圧孔15(15a、15b、15c)と、負圧孔15を介して支持部材11の上面11a近傍の空気を支持部材11の下面11bに向けて吸引する複数の吸引部16(16a、16b、16c)と、を有する。
板状体Wは、吹出部14により正圧溝13から吹き出された空気と、吸引部16により負圧孔15から吸引された空気と、により形成される空気流によって、支持部材11の上面11aから浮上する。そして、板状体Wは、浮上したまま搬送方向(x方向)に搬送される。
図4は、支持部材11における正圧溝13及び負圧孔15の配置を示す模式図である。図4は、1つの支持部材11を上(+z方向)から見た図である。ただし、図面の簡略化のために、図4においては、正圧溝13と、吹出部14と、負圧孔15と、吸引部16との一部は省略して示している。
正圧溝13は、支持部材11の略全面に張り巡らされている。正圧溝13は、複数の溝13aと、複数の溝13bとを有する。溝13aと溝13bとの各々は、他の溝13a及び他の溝13bの少なくとも一方と連結されている。溝13aの各々は、支持部材11の搬送方向に直交する辺11c、11dと平行である。溝13bの各々は、支持部材11の搬送方向に平行な辺11eと平行である。溝13aと溝13bとにより略矩形の領域が形成され、この領域の内部に負圧孔15が形成される。
負圧孔15は、支持部材11の搬送方向に直交する辺11c、11dと略平行な線上に設けられる。また、負圧孔15は、支持部材11の搬送方向に平行な辺11eと略平行な線上に設けられる。図4に示す例では、辺11c、11dと略平行な線上に設けられた溝13a及び負圧孔15の列は列Lである。列Lは−x方向から列L1、L2・・・L27であり、辺11cに最も近い列は列L1であり、辺11dに最も近い列は列L27である。また、辺11eと略平行な線上に設けられた溝13a及び負圧孔15の列は列Kであり、列Kは−y方向から列K1、K2、K3、K4である。なお、列L、列Kを示す線は、実際に支持部材11に形成されているものではないため、図中1点鎖線で表示している。
なお、列Kと列Kとの間には、溝13bが設けられる。これは、溝13aを連結して1つの正圧溝13とするためであり、溝13bは必須ではない。また、正圧溝13としては、様々な形態の吹出構造を採用することができる。例えば、溝13aは、リブ状でなくてもよく、例えば溝13aを連結して1つの正圧溝13とされていない場合には、負圧孔15と同様の貫通孔でもよい。また、負圧孔15は、支持部材11を貫通する貫通孔であれば、丸孔に限定されない。
列L1、L2・・・L27において、溝13aは少なくとも1つの負圧孔15と隣接するよう配置される。本実施の形態では、溝13a及び負圧孔15がそれぞれ、同じ数だけ設けられる。例えば、列L1、列L15、列L27は、辺11eに近い位置に溝13aが2つ設けられ、中央部に負圧孔15が2つ設けられる。また、例えば、列L20は、辺11eに近い位置に負圧孔15が2つ設けられ、中央部に溝13aが2つ設けられる。
このように、列L1、L2・・・L27に、溝13a及び負圧孔15を両方設けることで、搬送方向に直交する方向に沿って板状体Wが湾曲したり、波打ったりすることを防止することができる。また、列K1〜K4には、正圧溝13及び負圧孔15が交互に設けられるため、搬送方向に沿って板状体Wが湾曲したり、波打ったりすることを防止することができる。
図3の説明に戻る。吹出部14は、主として、供給管14aと、図示しない送気ブロワと、を有する。正圧溝13は、一本の供給管14aに連結される。供給管14aは、正圧溝13に例えば圧縮空気を供給するものであり、一端が正圧溝13に接続され、他端が送気ブロワに接続されている。
供給管14aを介して供給された空気は、正圧溝13から支持部材11の上面に向けて吹き出される。正圧溝13から吹き出した空気は、支持部材11の内部にある多数の微細な空孔を通って支持部材11全体に広がる。これにより、支持部材11の略全面から略均等な圧力で空気が噴出される。
負圧孔15のうちの負圧孔15a、15cは、それぞれ、支持部材11の搬送方向に直交する2つの辺11c、11dの近傍の領域11f、11gに設けられる。また、負圧孔15のうちの負圧孔15bは、支持部材11の領域11f、11g以外の領域11h(ここでは、支持部材11の中央部の領域)に設けられる。なお、領域11f、11gは、辺11c、11dを含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。
図5は、支持部材11における領域11f、11g、11hの位置を説明するための模式図である。領域11f、11g、11hは、それぞれ、支持部材11の搬送方向に直交する短手方向に沿った帯状の領域である。なお、領域11f、11g、11hを示す線は、実際に支持部材に形成されているものではないため、図中1点鎖線で表示している。
領域11f、11gには、板状体Wの浮上高さが安定する最低限の列Lの数を含むように設定される。この最低限の列Lの数は、例えば2〜5列程度である。本実施の形態では、領域11fには、列L1〜L3の3列が含まれ、領域11gには、列L25〜L27の3列が含まれる。
領域11fに含まれる負圧孔15を負圧孔15aとし、領域11hに含まれる負圧孔15を負圧孔15bとし、領域11gに含まれる負圧孔15を負圧孔15cとしている。
図3の説明に戻る。吸引部16は、主として、排気管16a、16b、16cと、図示しない吸気ブロワとを有する。負圧孔15aには排気管16aの一端が接続され、負圧孔15bには排気管16bの一端が接続され、負圧孔15cには排気管16cの一端が接続されている。排気管16a、16b、16cの他端は、それぞれ吸気ブロワに接続されている。
排気管16a、16b、16cにそれぞれ接続された吸気ブロワは、それぞれ負圧孔15a、15b、15cを介して支持部材11の上面11aから吸引された空気を、下面10bに向けて排気する。
排気管16a、16b、16cの途中には、それぞれバルブ17a、17b、17cが設けられる。バルブ17a、17b、17cは、排気流量を調整すると共に外気を導入可能とするものであり、例えば電気信号に応じて開閉する電磁バルブである。
排気管16a、16b、16cの内部には、それぞれ圧力センサ18a、18b、18cが設けられる。圧力センサ18a、18b、18cは、それぞれ、排気管16a、16b、16cの内部の圧力を検出する。
バルブ17a、17b、17c及び圧力センサ18a、18b、18cには、圧力調整ユニット19が電気的に接続されている。圧力調整ユニット19は、バルブ17a、17b、17cをそれぞれ制御して外気の導入量を調整し、負圧孔15a、15b、15cの内部の圧力を所定の圧力に維持するものである。圧力調整ユニット19は、主として、メモリ19aと、演算部19bと、駆動部19cと、を有する。
メモリ19aは、設定すべき圧力の値(目標値)を記憶する。また、メモリ19aは、上面11aと板状体Wとの間の間隔を測定した測定値h(以下、測定値hという)と、圧力との関係を記憶する。
演算部19bは、圧力センサ18a、18b、18cの出力値と、露光装置1の外部に設けられた外気圧を検出する圧力センサ(図示せず)の出力値とを取得し、これらの差圧をそれぞれ算出する。また、演算部19bは、算出された差圧と、メモリ19aから読み出した目標値とのずれ量を演算し、バルブ17a、17b、17cの開閉のタイミング及び開閉量を決定する。また、演算部19bは、図示しないカメラやセンサ等を用いて、測定値hを測定する。
演算部19bは、測定した測定値hと、メモリ19aに記憶された測定値hと圧力との関係に基づいて、負圧孔15a、15b、15cの内部の圧力をそれぞれ決定する。そして、演算部19bは、決定した圧力に基づいて、バルブ17a、17b、17cの開閉のタイミング及び開閉量を決定する。当該処理の詳細については、後に詳述する。
駆動部19cは、演算部19bの演算結果に基づいて、バルブ17a、17b、17cをそれぞれ開閉駆動する。なお、所定の範囲は、板状体Wの大きさや剛性によって任意に設定することができる。
メモリ19aは、すでに公知の様々な種類の記憶装置を用いることができる。また、演算部19b、駆動部19cは、すでに公知の様々な技術を用いてこれらの処理を行うことができる。
このように、本実施の形態では、排気管16a、16b、16cは、それぞれ別の吸気ブロワに接続され、またそれぞれ別々に制御されるので、負圧孔15a、15b、15cからはそれぞれ異なる圧力で空気を吸引することができる。
なお、図3〜5における、正圧溝13、吹出部14、負圧孔15、及び吸引部16の数及び位置は、例示であり、図示された形態に限定されるものではない。
図1の説明に戻る。支持部材11の上方(+z方向)には、露光部20と、マスク保持部30とが設けられる。
露光部20は、フォトマスク(図示せず)を介して板状体Wに露光光を照射する。露光部20は、主として、光源21と、ミラー22と、オプチカルインテグレータ(図示せず)と、シャッター(図示せず)とを有する。光源21としては、例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線発光レーザが使用可能である。光源21から照射された光ELは、ミラー22により曲げられ、下方(−z方向)に向けて照射される。
マスク保持部30は、主として、複数のマスクMをそれぞれ保持するマスク保持部材31と、マスク保持部材31を駆動するマスク駆動部32と、を有する。
マスク保持部材31は、マスクMを支持部材11の上面11aと平行に保持する。マスク駆動部32は、マスク保持部材31をx方向に沿って駆動するx方向駆動部33と、マスク保持部材31をy方向に沿って駆動するy方向駆動部34と、マスク保持部材31をθ方向(xy平面の法線回り)に回転駆動するθ方向駆動部35と、マスク保持部材31をz方向に沿って駆動するz方向駆動部36と、を有する。これにより、マスク保持部材31は、マスク駆動部32によってx方向、y方向、z方向、θ方向にそれぞれ駆動可能である。また、マスク駆動部32は、z方向のチルト機構をさらに有してもよい。
なお、露光装置1は、露光部20、マスク保持部30等を制御する制御部(図示せず)を有するが、公知の様々な技術を用いることができるため、説明を省略する。
次に、このように構成された露光装置1の動作について説明する。
正圧溝13から吹き出された空気と負圧孔15からは吸引された空気により、板状体Wが支持部材11から浮上する。板状体Wの移動に伴い、板状体Wが正圧溝13及び負圧孔15を次第に覆っていく。負圧孔15内部の圧力の低下を圧力センサ18a、18b、18cで検出し、その出力が演算部19bに送られる。演算部19bでは、圧力センサ18a、18b、18cの検出値と外気圧とを比較して差圧を求め、これに基づいて駆動部19cを駆動してバルブ17a、17b、17cを開閉する。これにより、負圧孔15a、15b、15c内部と外気との差圧が一定に保たれ、板状体Wの高さは均一又は略均一に保たれる。
板状体WがマスクMの下を通過するときには、光源21からの光ELが、マスクMを介して照射される。これにより、マスクMのパターンが、板状体W表面に塗布された感光性物質に転写される。
板状体Wが搬送方向に搬送されると、板状体Wが支持部材11と支持部材11との間隙を通過する。このとき、下方(−z方向)からカメラ(図示せず)により板状体Wを観察する。また、このとき、変位センサ等により、支持部材11の上面11aと板状体Wとの間隔が測定される。
なお、本実施の形態においては、板状体Wが上面11aから浮上する高さH1が略30μmである(図1参照)のに対し、上面11aの高さ方向(z方向)の誤差H2は±略10μm程度、最大略20μm程度である(図2(B)参照)。そのため、板状体搬送機構10は、ある支持部材11の上から他の支持部材11の上へと板状体Wが搬送されていくときに、板状体Wと上面11aとの距離を調整する。
図6は、上面11aの高さ方向がばらついたときの、板状体Wの挙動を説明するための図である。図6(A)は、移動元の支持部材11αの上面11aより移動先の支持部材11βの上面11aが高い場合を示し、図6(B)は、移動元の支持部材11αの上面11aより移動先の支持部材11βの上面11aが低い場合を示す。
図6(A)に示すように、支持部材11βの上面11aが高い場合には、支持部材11αと支持部材11βとの略中間における測定値hは、板状体Wが上面11aから浮上する高さH1より小さい。したがって、演算部19bは、支持部材11βの負圧孔15aの圧力が、支持部材11α及び支持部材11βの負圧孔15bの圧力より小さくなるように、バルブ17a、17b、17cの開閉のタイミング及び開閉量を決定する。
これにより、支持部材11βの領域11fにおいて板状体Wを上面11a側(下向き、−z方向)に引っ張る力は、支持部材11α及び支持部材11βの領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力より小さくなる。
また、この場合には、支持部材11αの負圧孔15cの圧力が、支持部材11α及び支持部材11βの負圧孔15bの圧力より小さくなるように、バルブ17a、17b、17cの開閉のタイミング及び開閉量を決定する。
これにより、支持部材11αの領域11gにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力は、支持部材11α及び支持部材11βの領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力より小さくなる。
その結果、板状体Wは、図6(A)に一点鎖線で示すように、支持部材11βの領域11fにおいて、上面11aと板状体Wの先端Wa(搬送方向先方側の端)との距離は測定値hより大きくなる。そして、先端Waが、板状体Wのその他の部分より高い(+z方向にある)姿勢で、支持部材11αから支持部材11βに向けて搬送される。
なお、図6(A)に示す場合において、支持部材11βの領域11fにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力を、支持部材11α及び支持部材11βの領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力より小さくすること、及び支持部材11αの領域11gにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力を、支持部材11α及び支持部材11βの領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力より小さくすることは、必ずしも両方を行う必要は無く、どちらかのみを行ってもよい。
図6(B)に示すように、支持部材11αの上面11aが高い場合には、支持部材11αと支持部材11βとの略中間における測定値hは、板状体Wが上面11aから浮上する高さH1より大きい。したがって、演算部19bは、支持部材11βの負圧孔15aの圧力が、支持部材11α、及び支持部材11βの負圧孔15bの圧力より大きくなるように、バルブ17a、17b、17cの開閉のタイミング及び開閉量を決定する。
これにより、支持部材11βの領域11fにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力は、支持部材11αの領域11h、11g及び支持部材11βの領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力より大きくなる。その結果、板状体Wは、図6(B)に一点鎖線で示すように、支持部材11βの領域11fにおいて、上面11aと板状体Wの先端Wa(搬送方向先方側の端)との距離は測定値hより小さくなる。そして、先端Waが、板状体Wのその他の部分より低い(−z方向にある)姿勢で、支持部材11αから支持部材11βに向けて搬送される。
なお、領域11f、11gは、板状体Wの浮上高さが安定する最低限の列Lの数を含むため、板状体Wの先端Waが支持部材11βの領域11hに到達するときには、図6(A)、(B)に2点鎖線で示すように、測定値hは高さH1と略同一となる。したがって、演算部19bは、支持部材11αの負圧孔15bの圧力と、支持部材11βの負圧孔15bの圧力とが略同じとなるように、バルブ17bの開閉のタイミング及び開閉量を決定する。
本実施の形態によれば、支持部材11の搬送方向に直交する2つの辺に沿った領域(領域11f、11g)において板状体Wが支持部材11の方へ吸引される力と、支持部材11の領域11f、11g以外の領域(領域11h)において板状体Wが支持部材11の方へ吸引される力とが異なることができる。これにより、支持部材の組み立て誤差等により支持部材の高さにばらつきがあったとしても、安定して薄い板状体を搬送することができる。
また、本実施の形態によれば、支持部材11の搬送方向に直交する辺(11c、11d)と略平行な列Lのうちの支持部材11の搬送方向に直交する辺に最も近い列(本実施の形態では、L1、L27)には、溝13aと負圧孔15とが両方設けられているため、板状体Wの先端Waが支持部材11から出て行くとき(又は、先端Waが支持部材11に乗り上げるとき)に、板状体Wには、板状体Wを上向き(+z方向)に押し上げる力と、下向き(−z方向)に引っ張る力の両方の力を加えることができる。これにより、先端Waが浮き上がったり沈み込んだりすることを防止し、板状体Wの高さ(z方向)の変動を抑えることができる。
例えば、従来例のように、L1、L27に正圧溝13又は負圧孔15のみが設けられているとすると、板状体Wの先端Waが支持部材11から出て行くとき(又は、先端Waが支持部材11に乗り上げるとき)に、先端Waが支持部材11から浮き上がる又は沈み込む。したがって、支持部材11と支持部材11との間で測定値hが大きく変動してしまうおそれがある。しかしながら、本実施の形態では、このような測定値hの変動を抑え、板状体Wを安定して搬送することができる。
なお、本実施の形態では、本実施の形態では、列L1、L27等において、−y方向方+y方向に向かって溝13a、負圧孔15、負圧孔15、溝13aの順に並んでいるが、溝13a及び負圧孔15の配置はこれに限定されない。例えば、図7に示す支持部材11Aのように、列L1、L27等において、溝13aと負圧孔15とが交互に配置されていてもよい。
また、本実施の形態では、列Lが27列、列Kが4列であったが、列L及び列Kの数はこれに限定されない。ただし、板状体Wの変動を抑えるためには、列Kの数を偶数にして、列Lにおける溝13aの数と負圧孔15の数とを同数にすることが好ましい。
<第2の実施の形態>
第1の実施の形態では、負圧孔15a、15b、15cをそれぞれ異なる吸気ブロワに接続し、別々に制御することで、領域11f、11g、11hが空気を吸引する圧力を異ならせたが、領域11f、11g、11hが空気を吸引する圧力を異ならせる形態はこれに限られない。
第2の実施の形態は、正圧溝13と負圧孔15との数の比を異ならせることで、領域11f、11g、11hが空気を吸引する圧力を異ならせる形態である。以下、第2の実施の形態に係る露光装置2について説明する。なお、第1の実施の形態に係る露光装置1と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
図8は、支持部材11B及び搬送部12Aの詳細を示す模式図である。搬送部12Aは、主として、支持部材に設けられた正圧溝13と、正圧溝13から支持部材11Bの上面に向けて空気を吹き出す吹出部14と、支持部材11Bに設けられた複数の負圧孔15Aと、負圧孔15Aを介して支持部材11の上面11aの空気を支持部材11Bの下面に向けて吸引する吸引部16Aと、を有する。負圧孔15と負圧孔15Aとは、数及び配置位置のみが異なる。また、吸引部16と吸引部16Aとは、数及び配置位置のみが異なる。
吸引部16Aは、主として、排気管16dと、図示しない吸気ブロワと、を1組有する。負圧孔15Aには、排気管16dの一端が接続されている。排気管16dの他端は、吸気ブロワに接続されている。排気管16dの途中には、バルブ17dが設けられる。排気管16dの内部には、排気管16dの内部の圧力を検出する圧力センサ18dが設けられる。
図9は、支持部材11Bにおける正圧溝13及び負圧孔15Aの配置を示す模式図である。領域11f及び領域11gにおいては、溝13aの数に対して、負圧孔15Aの数が少ない。例えば、列L2、L26には、負圧孔15Aが設けられていない。これにより、領域11f及び領域11gにおける溝13aの数に対する負圧孔15Bの数の比を、領域11hにおける溝13aの数に対する負圧孔15Bの数の比より小さくすることができる。
このため、領域11fにおける溝13aの数に対する負圧孔15Aの数の比、及び領域11gにおける溝13aの数に対する負圧孔15Aの数の比と、領域11hにおける溝13aの数に対する負圧孔15Aの数の比とが異なる。その結果、領域11f及び領域11gにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力と、領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力とを異ならせることができる。
また、図10に示す支持部材11Cのように、溝13aの数を減らして溝13Aを形成することにより、領域11f及び領域11gにおける溝13aの数に対する負圧孔15Bの数の比を、領域11hにおける溝13aの数に対する負圧孔15Bの数の比より大きくすることもできる。なお、負圧孔15Aと負圧孔15Bとは、数及び配置位置のみが異なる。
さらに、図11に示すように、支持部材11Dを上(+z方向)から見たときの溝13Bや負圧孔15Aの面積を変えることで、領域11f及び領域11gにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力と、領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力と、を異ならせることができる。
例えば、図11に示す支持部材11Dは、支持部材11Dを上から見たときにおける、領域11f及び領域11gにおける溝13aの面積に対する負圧孔15Bの面積の比を、領域11hにおける溝13aの面積に対する負圧孔15Bの面積の比より小さくした形態である。支持部材11Bと、支持部材11Dとは、列L1、L27の構成のみが異なる。
溝13Bは、溝13aと、溝13bと、溝13cとを有する。溝13cは、溝13cの面積が2本の溝13aの面積と略同じとなるように、すなわち支持部材11Dを上から見たときの溝13aの面積と、支持部材11Dを上から見たときの溝13cの面積とが略同一となるように、溝13aの略半分の細さでかつ溝13aの略4倍の長さで形成される。このように、支持部材11Dを上から見たときにおける、領域11fにおける溝13aの面積に対する負圧孔15Bの面積の比、及び支持部材11Dを上から見たときにおける、領域11gにおける溝13aの面積に対する負圧孔15Bの面積の比を、支持部材11Dを上から見たときにおける、領域11hにおける溝13aの面積に対する負圧孔15Bの面積の比と異ならせることにより、領域11f及び領域11gにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力と、領域11hにおいて板状体Wを上面11a側に引っ張る力とを異ならせることができる。
以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略平行、略直交とは、厳密に平行、直交の場合には限られない。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合においても、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、例えばAの近傍であるときに、Aの近くであって、Aを含んでも含まなくてもよいことを示す概念である。
1、2 :露光装置
10 :板状体搬送機構
11、11A、11B、11C:支持部材
12、12A:搬送部
13、13A:正圧溝
14 :吹出部
14a :供給管
15、15A、15B:負圧孔
16、16A:吸引部
16a、16b、16c、16d:排気管
17a、17b、17c、17d:バルブ
18a、18b、18c、18d:圧力センサ
19 :圧力調整ユニット
19a :メモリ
19b :演算部
19c :駆動部
20 :露光部
21 :光源
22 :ミラー
30 :マスク保持部
31 :マスク保持部材
32 :マスク駆動部
33 :x方向駆動部
34 :y方向駆動部
35 :θ方向駆動部
36 :z方向駆動部

Claims (4)

  1. 略矩形形状の板状の支持部材と、
    前記支持部材の上面から板状体を浮上させて搬送方向に沿って前記板状体を搬送させる搬送部であって、前記支持部材に設けられた複数の吹出構造と、前記吹出構造を介して前記支持部材の下面から上面に向けて空気を吹き出す吹出部と、前記支持部材に設けられた複数の吸引孔と、前記吸引孔を介して前記支持部材の上面の空気を前記支持部材の下面に向けて吸引する吸引部と、を有する搬送部と、を備え、
    前記支持部材の前記搬送方向に略直交する辺である第1の辺の近傍の領域である第1の領域又は前記第1の辺と略平行な第2の辺の近傍の領域である第2の領域において前記板状体が前記支持部材の方へ吸引される力と、前記支持部材の前記第1の領域及び前記第2の領域以外の領域である第3の領域において前記板状体が前記支持部材の方へ吸引される力とが異なる
    ことを特徴とする搬送装置。
  2. 前記吸引孔は、前記第1の領域に形成された第1の吸引孔と、前記第2の領域に形成された第2の吸引孔と、前記第3の領域に形成された第3の吸引孔と、を有し、
    前記吸引部は、前記第1の吸引孔を介して空気を吸引する第1の吸引部と、前記第2の吸引孔を介して空気を吸引する第2の吸引部と、前記第3の吸引孔を介して空気を吸引する第3の吸引部と、を有し、
    前記第1の吸引部が空気を吸引する吸引力又は前記第2の吸引部が空気を吸引する吸引力と、前記第3の吸引部が空気を吸引する吸引力と、が異なる
    ことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
  3. 前記吹出構造は、前記第1の領域に形成された第1の吹出構造と、前記第2の領域に形成された第2の吹出構造と、前記第3の領域に形成された第3の吹出構造と、を有し、
    前記吸引孔は、前記第1の領域に形成された第1の吸引孔と、前記第2の領域に形成された第2の吸引孔と、前記第3の領域に形成された第3の吸引孔と、を有し、
    前記第1の吹出構造の数に対する前記第1の吸引孔の数の比又は前記第2の吹出構造の数に対する前記第2の吸引孔の数の比と、前記第3の吹出構造の数に対する前記第3の吸引孔の数の比とが異なる、又は前記支持部材を上から見たときの前記第1の吹出構造の面積に対する前記第1の吸引孔の面積の比又は前記支持部材を上から見たときの前記第2の吹出構造の面積に対する前記第2の吸引孔の面積の比と、前記支持部材を上から見たときの前記第3の吹出構造の面積に対する前記第3の吸引孔の面積の比とが異なる
    ことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
  4. 前記吸引孔又は前記吹出構造は、前記支持部材の前記搬送方向に直交する辺と略平行な線上に設けられ、
    前記略平行な線のうちの前記支持部材の前記搬送方向に直交する辺に最も近い線上には、前記吸引孔と前記吹出構造とが両方設けられる
    ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の搬送装置。
JP2014157905A 2014-08-01 2014-08-01 搬送装置 Expired - Fee Related JP6518891B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014157905A JP6518891B2 (ja) 2014-08-01 2014-08-01 搬送装置
CN201520550174.5U CN204957798U (zh) 2014-08-01 2015-07-27 搬运装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014157905A JP6518891B2 (ja) 2014-08-01 2014-08-01 搬送装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016035960A true JP2016035960A (ja) 2016-03-17
JP6518891B2 JP6518891B2 (ja) 2019-05-29

Family

ID=55052878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014157905A Expired - Fee Related JP6518891B2 (ja) 2014-08-01 2014-08-01 搬送装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6518891B2 (ja)
CN (1) CN204957798U (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017146038A1 (ja) 2016-02-26 2017-08-31 株式会社ブリヂストン タイヤ
JP2021015931A (ja) * 2019-07-16 2021-02-12 株式会社日本製鋼所 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法
JP7572771B2 (ja) 2019-07-16 2024-10-24 Jswアクティナシステム株式会社 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9889995B1 (en) * 2017-03-15 2018-02-13 Core Flow Ltd. Noncontact support platform with blockage detection
JP2019010692A (ja) * 2017-06-29 2019-01-24 日本電産サンキョー株式会社 産業用ロボットのハンドおよび産業用ロボット
CN110670070A (zh) * 2019-11-19 2020-01-10 江苏上达电子有限公司 一种液浮喷盘的设计方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006261394A (ja) * 2005-03-17 2006-09-28 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法及び基板処理プログラム
JP2010260715A (ja) * 2009-04-07 2010-11-18 Myotoku Ltd 浮上ユニット及び浮上装置
JP2011212544A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2012195403A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Tokyo Electron Ltd 浮上式塗布装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006261394A (ja) * 2005-03-17 2006-09-28 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法及び基板処理プログラム
JP2010260715A (ja) * 2009-04-07 2010-11-18 Myotoku Ltd 浮上ユニット及び浮上装置
JP2011212544A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2012195403A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Tokyo Electron Ltd 浮上式塗布装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017146038A1 (ja) 2016-02-26 2017-08-31 株式会社ブリヂストン タイヤ
JP2021015931A (ja) * 2019-07-16 2021-02-12 株式会社日本製鋼所 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法
US11749545B2 (en) 2019-07-16 2023-09-05 Jsw Aktina System Co., Ltd Substrate-floatation-type laser processing apparatus and method for measuring floating height
JP7572771B2 (ja) 2019-07-16 2024-10-24 Jswアクティナシステム株式会社 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN204957798U (zh) 2016-01-13
JP6518891B2 (ja) 2019-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016035960A (ja) 搬送装置
WO2016136495A1 (ja) ガス浮上ワーク支持装置および非接触ワーク支持方法
JP5150949B2 (ja) 近接スキャン露光装置及びその制御方法
JP5485928B2 (ja) 基板浮上搬送装置及び基板処理装置
JP5092627B2 (ja) 基板搬送装置及び基板検査装置
JP4535972B2 (ja) ワークステージ及び露光装置
JP4652351B2 (ja) 基板支持装置、基板支持方法
JP4789399B2 (ja) 浮上ユニット
JP2006273576A (ja) 搬送物浮上ユニット、搬送物浮上装置、及びステージ装置
JP5430430B2 (ja) ステージクリーナ、描画装置及び基板処理装置
JP2011228633A (ja) 物体搬送装置、露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び物体搬送方法
JP2019041002A (ja) レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法
JP2006264804A (ja) 大型フラットパネルの浮上ユニット及びこれを用いた非接触搬送装置
JP2023175829A (ja) 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法
JP2009104029A (ja) 露光装置
JP2010260715A (ja) 浮上ユニット及び浮上装置
JP4491364B2 (ja) 非接触支持装置
JP2018085472A (ja) レーザアニール装置
JP4494179B2 (ja) 非接触支持装置
JP6860357B2 (ja) 塗布装置および塗布方法
JP2006323268A (ja) 露光装置
JP6456904B2 (ja) ガス浮上ワーク支持装置
JP2010258107A (ja) 駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法
WO2014125686A1 (ja) 浮上搬送装置、搬送レール、および浮上搬送方法
JP2006253216A (ja) 基板処理装置および基板処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170529

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180306

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180501

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180911

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181109

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190305

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190313

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6518891

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees