JP2016035960A - 搬送装置 - Google Patents
搬送装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016035960A JP2016035960A JP2014157905A JP2014157905A JP2016035960A JP 2016035960 A JP2016035960 A JP 2016035960A JP 2014157905 A JP2014157905 A JP 2014157905A JP 2014157905 A JP2014157905 A JP 2014157905A JP 2016035960 A JP2016035960 A JP 2016035960A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support member
- suction
- region
- plate
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】略矩形形状の板状の支持部材の上面から板状体を浮上させて、搬送方向に沿って板状体を搬送させるときに、支持部材の搬送方向に略直交する辺である第1の辺の近傍の領域である第1の領域又は第1の辺と略平行な第2の辺の近傍の領域である第2の領域において板状体が前記支持部材の方へ吸引される力と、支持部材の第1の領域及び第2の領域以外の領域である第3の領域において板状体が支持部材の方へ吸引される力とが異なる。
【選択図】 図3
Description
図1は第1の実施の形態に係る露光装置1の概略を示す正面図である。露光装置1は、感光性物質を塗布した板状体(例えば、基板)に対してフォトマスクを介して露光光を照射して、所定の露光パターンを形成するものである。
正圧溝13から吹き出された空気と負圧孔15からは吸引された空気により、板状体Wが支持部材11から浮上する。板状体Wの移動に伴い、板状体Wが正圧溝13及び負圧孔15を次第に覆っていく。負圧孔15内部の圧力の低下を圧力センサ18a、18b、18cで検出し、その出力が演算部19bに送られる。演算部19bでは、圧力センサ18a、18b、18cの検出値と外気圧とを比較して差圧を求め、これに基づいて駆動部19cを駆動してバルブ17a、17b、17cを開閉する。これにより、負圧孔15a、15b、15c内部と外気との差圧が一定に保たれ、板状体Wの高さは均一又は略均一に保たれる。
第1の実施の形態では、負圧孔15a、15b、15cをそれぞれ異なる吸気ブロワに接続し、別々に制御することで、領域11f、11g、11hが空気を吸引する圧力を異ならせたが、領域11f、11g、11hが空気を吸引する圧力を異ならせる形態はこれに限られない。
10 :板状体搬送機構
11、11A、11B、11C:支持部材
12、12A:搬送部
13、13A:正圧溝
14 :吹出部
14a :供給管
15、15A、15B:負圧孔
16、16A:吸引部
16a、16b、16c、16d:排気管
17a、17b、17c、17d:バルブ
18a、18b、18c、18d:圧力センサ
19 :圧力調整ユニット
19a :メモリ
19b :演算部
19c :駆動部
20 :露光部
21 :光源
22 :ミラー
30 :マスク保持部
31 :マスク保持部材
32 :マスク駆動部
33 :x方向駆動部
34 :y方向駆動部
35 :θ方向駆動部
36 :z方向駆動部
Claims (4)
- 略矩形形状の板状の支持部材と、
前記支持部材の上面から板状体を浮上させて搬送方向に沿って前記板状体を搬送させる搬送部であって、前記支持部材に設けられた複数の吹出構造と、前記吹出構造を介して前記支持部材の下面から上面に向けて空気を吹き出す吹出部と、前記支持部材に設けられた複数の吸引孔と、前記吸引孔を介して前記支持部材の上面の空気を前記支持部材の下面に向けて吸引する吸引部と、を有する搬送部と、を備え、
前記支持部材の前記搬送方向に略直交する辺である第1の辺の近傍の領域である第1の領域又は前記第1の辺と略平行な第2の辺の近傍の領域である第2の領域において前記板状体が前記支持部材の方へ吸引される力と、前記支持部材の前記第1の領域及び前記第2の領域以外の領域である第3の領域において前記板状体が前記支持部材の方へ吸引される力とが異なる
ことを特徴とする搬送装置。 - 前記吸引孔は、前記第1の領域に形成された第1の吸引孔と、前記第2の領域に形成された第2の吸引孔と、前記第3の領域に形成された第3の吸引孔と、を有し、
前記吸引部は、前記第1の吸引孔を介して空気を吸引する第1の吸引部と、前記第2の吸引孔を介して空気を吸引する第2の吸引部と、前記第3の吸引孔を介して空気を吸引する第3の吸引部と、を有し、
前記第1の吸引部が空気を吸引する吸引力又は前記第2の吸引部が空気を吸引する吸引力と、前記第3の吸引部が空気を吸引する吸引力と、が異なる
ことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 - 前記吹出構造は、前記第1の領域に形成された第1の吹出構造と、前記第2の領域に形成された第2の吹出構造と、前記第3の領域に形成された第3の吹出構造と、を有し、
前記吸引孔は、前記第1の領域に形成された第1の吸引孔と、前記第2の領域に形成された第2の吸引孔と、前記第3の領域に形成された第3の吸引孔と、を有し、
前記第1の吹出構造の数に対する前記第1の吸引孔の数の比又は前記第2の吹出構造の数に対する前記第2の吸引孔の数の比と、前記第3の吹出構造の数に対する前記第3の吸引孔の数の比とが異なる、又は前記支持部材を上から見たときの前記第1の吹出構造の面積に対する前記第1の吸引孔の面積の比又は前記支持部材を上から見たときの前記第2の吹出構造の面積に対する前記第2の吸引孔の面積の比と、前記支持部材を上から見たときの前記第3の吹出構造の面積に対する前記第3の吸引孔の面積の比とが異なる
ことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 - 前記吸引孔又は前記吹出構造は、前記支持部材の前記搬送方向に直交する辺と略平行な線上に設けられ、
前記略平行な線のうちの前記支持部材の前記搬送方向に直交する辺に最も近い線上には、前記吸引孔と前記吹出構造とが両方設けられる
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の搬送装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014157905A JP6518891B2 (ja) | 2014-08-01 | 2014-08-01 | 搬送装置 |
CN201520550174.5U CN204957798U (zh) | 2014-08-01 | 2015-07-27 | 搬运装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014157905A JP6518891B2 (ja) | 2014-08-01 | 2014-08-01 | 搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016035960A true JP2016035960A (ja) | 2016-03-17 |
JP6518891B2 JP6518891B2 (ja) | 2019-05-29 |
Family
ID=55052878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014157905A Expired - Fee Related JP6518891B2 (ja) | 2014-08-01 | 2014-08-01 | 搬送装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6518891B2 (ja) |
CN (1) | CN204957798U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017146038A1 (ja) | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 株式会社ブリヂストン | タイヤ |
JP2021015931A (ja) * | 2019-07-16 | 2021-02-12 | 株式会社日本製鋼所 | 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法 |
JP7572771B2 (ja) | 2019-07-16 | 2024-10-24 | Jswアクティナシステム株式会社 | 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9889995B1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-02-13 | Core Flow Ltd. | Noncontact support platform with blockage detection |
JP2019010692A (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-24 | 日本電産サンキョー株式会社 | 産業用ロボットのハンドおよび産業用ロボット |
CN110670070A (zh) * | 2019-11-19 | 2020-01-10 | 江苏上达电子有限公司 | 一种液浮喷盘的设计方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006261394A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法及び基板処理プログラム |
JP2010260715A (ja) * | 2009-04-07 | 2010-11-18 | Myotoku Ltd | 浮上ユニット及び浮上装置 |
JP2011212544A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗布装置 |
JP2012195403A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 浮上式塗布装置 |
-
2014
- 2014-08-01 JP JP2014157905A patent/JP6518891B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-07-27 CN CN201520550174.5U patent/CN204957798U/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006261394A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法及び基板処理プログラム |
JP2010260715A (ja) * | 2009-04-07 | 2010-11-18 | Myotoku Ltd | 浮上ユニット及び浮上装置 |
JP2011212544A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗布装置 |
JP2012195403A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 浮上式塗布装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017146038A1 (ja) | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 株式会社ブリヂストン | タイヤ |
JP2021015931A (ja) * | 2019-07-16 | 2021-02-12 | 株式会社日本製鋼所 | 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法 |
US11749545B2 (en) | 2019-07-16 | 2023-09-05 | Jsw Aktina System Co., Ltd | Substrate-floatation-type laser processing apparatus and method for measuring floating height |
JP7572771B2 (ja) | 2019-07-16 | 2024-10-24 | Jswアクティナシステム株式会社 | 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN204957798U (zh) | 2016-01-13 |
JP6518891B2 (ja) | 2019-05-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2016035960A (ja) | 搬送装置 | |
WO2016136495A1 (ja) | ガス浮上ワーク支持装置および非接触ワーク支持方法 | |
JP5150949B2 (ja) | 近接スキャン露光装置及びその制御方法 | |
JP5485928B2 (ja) | 基板浮上搬送装置及び基板処理装置 | |
JP5092627B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板検査装置 | |
JP4535972B2 (ja) | ワークステージ及び露光装置 | |
JP4652351B2 (ja) | 基板支持装置、基板支持方法 | |
JP4789399B2 (ja) | 浮上ユニット | |
JP2006273576A (ja) | 搬送物浮上ユニット、搬送物浮上装置、及びステージ装置 | |
JP5430430B2 (ja) | ステージクリーナ、描画装置及び基板処理装置 | |
JP2011228633A (ja) | 物体搬送装置、露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び物体搬送方法 | |
JP2019041002A (ja) | レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法 | |
JP2006264804A (ja) | 大型フラットパネルの浮上ユニット及びこれを用いた非接触搬送装置 | |
JP2023175829A (ja) | 基板浮上型レーザ処理装置及び浮上量の測定方法 | |
JP2009104029A (ja) | 露光装置 | |
JP2010260715A (ja) | 浮上ユニット及び浮上装置 | |
JP4491364B2 (ja) | 非接触支持装置 | |
JP2018085472A (ja) | レーザアニール装置 | |
JP4494179B2 (ja) | 非接触支持装置 | |
JP6860357B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP2006323268A (ja) | 露光装置 | |
JP6456904B2 (ja) | ガス浮上ワーク支持装置 | |
JP2010258107A (ja) | 駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
WO2014125686A1 (ja) | 浮上搬送装置、搬送レール、および浮上搬送方法 | |
JP2006253216A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170529 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180911 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190313 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6518891 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |