JP2016031451A - マスクブランクス除去用組成物及びマスクブランクスの除去方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、特許文献2には、マスクブランクス用ガラス基板上に形成された薄膜を剥離してマスクブランクス用ガラス基板を再生するために用いられる方法として、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含み、前記弗素化合物を0.1〜0.8重量%含むと共に前記酸化剤を0.5〜4.0重量%含む水溶液を用いる方法が開示されている。
本発明の組成物に用いられる(A)過酸化水素[以下、(A)成分と略す場合がある]の濃度は、0.01〜50質量%、好ましくは1〜50質量%、特に好ましくは5〜40質量%である。(A)成分の濃度が0.01質量%未満であると、充分なエッチング速度が得られないために好ましくない。一方、(A)成分の濃度が50質量%よりも多く配合しても、エッチング速度が上昇しないことや、安全面で問題がある場合があることから好ましくない。なお、(A)成分の濃度は、ガラス基材上に形成されたモリブデンシリサイド膜、モリブデンシリサイド酸化膜及びモリブデンシリサイド窒化膜等のマスクブランクスの厚みや幅等を勘案して上記濃度範囲で適宜調節することができる。
[実施例1]
表1に示す配合で組成物を配合し、本発明組成物1〜8を得た。含有量の残部は水である。
表2に示す配合で組成物を配合し、比較組成物1〜7を得た。含有量の残部は水である。
石英ガラス基板(厚さ0.7mm)またはホウケイ酸ガラス基板(厚さ0.7mm)上にモリブデンシリサイド膜(90nm)を形成した基板を縦30mm×横30mmに切断してテストピースとしたものを複数枚用意し、このテストピースに対して実施例組成物1〜8を使用して50℃、30分の条件でディップ法によるモリブデンシリサイド膜の除去を行った。なお、モリブデンシリサイド膜を形成する前の石英ガラス基板の表面の粗さは0.7nmであり、ホウケイ酸ガラス基板の表面の粗さは0.2nmであった。
実施例2に使用したものと同様の石英ガラス基板(厚さ0.7mm)またはホウケイ酸ガラス基板(厚さ0.7mm)上にモリブデンシリサイド膜(90nm)を形成した基板を縦30mm×横30mmに切断してテストピースとしたものを複数枚用意し、このテストピースに対して比較例組成物1〜7を使用して50℃、30分の条件でディップ法によるモリブデンシリサイド膜の除去を行った。
実施例2で得られたモリブデンシリサイド膜を除去した後の各基板の表面を光学顕微鏡で観察し、モリブデンシリサイド膜の除去が完了しているか、否かを確認した。モリブデンシリサイド膜が除去できている場合を○とし、モリブデンシリサイド膜が残っている場合を×として評価した。また、処理後の各ガラス基板の表面をAFMで測定することで、粗さを評価した。結果を表3に示す。
比較例2で得られたモリブデンシリサイド膜を除去した後の各基板の表面を光学顕微鏡で観察し、モリブデンシリサイド膜の除去が完了しているか、否かを確認した。モリブデンシリサイド膜が除去できている場合を○とし、モリブデンシリサイド膜が残っている場合を×として評価した。また、処理後の各ガラス基板の表面をAFMで測定することで、粗さを評価した。結果を表4に示す。
一方、表4の結果より、比較評価例1、3及び5は、モリブデンシリサイド膜は減少しているものの、完全に除去することができていなかった。また、比較評価例2、4及び6はモリブデンシリサイド膜を除去することができていたが、評価例1−1〜1−9と比較するとガラス基材の表面が大きく荒れてしまっていた。また、フッ化水素アンモニウムを含む比較組成物6及び7を使用した比較評価例7及び8は共にモリブデンシリサイド膜を除去することができなかった。
以上により、本発明の組成物はガラス基材上に形成されたモリブデンシリサイド膜を除去する場合において、処理後のガラス基材表面の平坦性が良く、また処理速度が早い組成物であることがわかった。
表5に示す配合で組成物を配合し、本発明組成物9〜16を得た。含有量の残部は水である。
表6に示す配合で組成物を配合し、比較組成物8〜14を得た。含有量の残部は水である。
実施例2に使用したものと同様の石英ガラス基板(厚さ0.7mm)またはホウケイ酸ガラス基板(厚さ0.7mm)上にモリブデンシリサイド膜(90nm)を形成した基板を縦30mm×横30mmに切断してテストピースとしたものを複数枚用意し、このテストピースに対して本発明組成物9〜16を使用して50℃、20分の条件でディップ法によるモリブデンシリサイド膜の除去を行った。
実施例2に使用したものと同様の石英ガラス基板(厚さ0.7mm)またはホウケイ酸ガラス基板(厚さ0.7mm)上にモリブデンシリサイド膜(90nm)を形成した基板を縦30mm×横30mmに切断してテストピースとしたものを複数枚用意し、このテストピースに対して比較組成物8〜14を使用して50℃、20分の条件でディップ法によるモリブデンシリサイド膜の除去を行った。
実施例4で得られたモリブデンシリサイド膜を除去した後の各基板の表面を光学顕微鏡で観察し、モリブデンシリサイド膜の除去が完了しているか、否かを確認した。モリブデンシリサイド膜が除去できている場合を○とし、モリブデンシリサイド膜が残っている場合を×として評価した。また、処理後の各ガラス基板の表面をAFMで測定することで、粗さを評価した。結果を表7に示す。
比較例4で得られたモリブデンシリサイド膜を除去した後の各基板の表面を光学顕微鏡で観察し、モリブデンシリサイド膜の除去が完了しているか、否かを確認した。モリブデンシリサイド膜が除去できている場合を○とし、モリブデンシリサイド膜が残っている場合を×として評価した。また、処理後の各ガラス基板の表面をAFMで測定することで、粗さを評価した。結果を表8に示す。
一方、表8の結果より、比較評価9、11及び13は、モリブデンシリサイド膜は減少しているものの、完全に除去することができていなかった。また、比較評価例10、12及び14はモリブデンシリサイド膜を除去することができていたが、評価例2−1〜2−9と比較するとガラス基材の表面が大きく荒れてしまっていた。また、フッ化水素アンモニウムを含む比較組成物13及び14を使用した比較評価例15及び16は共にモリブデンシリサイド膜を除去することができなかった。
以上により、本発明組成物はガラス基材上に形成されたモリブデンシリサイド膜を除去する場合において、処理後のガラス基材表面の平坦性が良く、また処理速度が早い組成物であることがわかった。
表9に示す配合で組成物を配合し、本発明組成物17〜24を得た。含有量の残部は水である。
表10に示す配合で組成物を配合し、比較組成物15〜21を得た。含有量の残部は水である。
実施例2に使用したものと同様の石英ガラス基板(厚さ0.7mm)またはホウケイ酸ガラス基板(厚さ0.7mm)上にモリブデンシリサイド膜(90nm)を形成した基板を縦30mm×横30mmに切断してテストピースとしたものを複数枚用意し、このテストピースに対して本発明組成物17〜24を使用して50℃、15分の条件でディップ法によるモリブデンシリサイド膜の除去を行った。
実施例2に使用したものと同様の石英ガラス基板(厚さ0.7mm)またはホウケイ酸ガラス基板(厚さ0.7mm)上にモリブデンシリサイド膜(90nm)を形成した基板を縦30mm×横30mmに切断してテストピースとしたものを複数枚用意し、このテストピースに対して比較例組成物15〜21を使用して50℃、15分の条件でディップ法によるモリブデンシリサイド膜の除去を行った。
実施例6で得られたモリブデンシリサイド膜を除去した後の各基板の表面を光学顕微鏡で観察し、モリブデンシリサイド膜の除去が完了しているか、否かを確認した。モリブデンシリサイド膜が除去できている場合を○とし、モリブデンシリサイド膜が残っている場合を×として評価した。また、処理後の各ガラス基板の表面をAFMで測定することで、粗さを評価した。結果を表11に示す。
比較例6で得られたモリブデンシリサイド膜を除去した後の各基板の表面を光学顕微鏡で観察し、モリブデンシリサイド膜の除去が完了しているか、否かを確認した。モリブデンシリサイド膜が除去できている場合を○とし、モリブデンシリサイド膜が残っている場合を×として評価した。また、処理後の各ガラス基板の表面をAFMで測定することで、粗さを評価した。結果を表12に示す。
一方、表12の結果より、比較評価例17、19及び21は、モリブデンシリサイド膜は減少しているものの、完全に除去することができていなかった。また、比較評価例18、20及び22はモリブデンシリサイド膜を除去することができていたが、評価例3−1〜3−9と比較するとガラス基材の表面が大きく荒れてしまっていた。また、フッ化水素アンモニウムを含む比較組成物20及び21を使用した比較評価例23及び24は共にモリブデンシリサイド膜を除去することができなかった。
以上により、本発明の組成物はガラス基材上に形成されたモリブデンシリサイド膜を除去する場合において、処理後のガラス基材表面の平坦性が良く、また処理速度が早い組成物であることがわかった。
Claims (4)
- ガラス基材上に形成されたモリブデンシリサイド膜、モリブデンシリサイド酸化膜及びモリブデンシリサイド窒化膜から選ばれる少なくとも1種の膜を除去するために用いられる組成物において、組成物が、
(A)0.01〜50質量%の過酸化水素成分
(B)0.01〜1質量%フッ化アンモニウム成分、及び
(C)リン酸、硫酸及び硝酸から選ばれる少なくとも1種の酸成分
を含む水溶液からなり、該水溶液のpHが1〜3の範囲内にあることを特徴とする組成物。 - 上記ガラス基材が石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスである、請求項1に記載の組成物。
- 上記水溶液のpHが1.5〜2.5である、請求項1または2に記載の組成物。
- 請求項1ないし3のいずれか1項に記載の組成物を用いることを特徴とするガラス基材上に形成されたモリブデンシリサイド膜、モリブデンシリサイド酸化膜及びモリブデンシリサイド窒化膜から選ばれる少なくとも1種の膜を除去するための方法。
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