JP2016025166A - Cutting device and cutting method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cutting device that can stably divide an object into individual pieces even when products are small.SOLUTION: A sealed board 12 is cut along a first cutting line 32 into an intermediate body 36 by using a first cutting condition. Subsequently, the intermediate body 36 is cut into individual pieces by using a second cutting condition. Accordingly, the intermediate body 36 is divided into products P corresponding to areas 34 surrounded by first cutting lines 32 and second cutting lines 33. The flow rate of cutting water under the second cutting condition for division into the products P is set to be smaller than the flow rate of cutting water under the first cutting condition when the intermediate body 36 is formed. By reducing the flow rate of cutting water under the second condition, the products P can be prevented from being displaced or scattered from a predetermined position of a cutting table 11 by the water pressure of the cutting water even when the products P are small.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、被切断物を切断して個片化された複数の製品を製造する切断装置及び切断方法に関するものである。   The present invention relates to a cutting apparatus and a cutting method for manufacturing a plurality of products obtained by cutting an object to be cut.

プリント基板やリードフレームなどからなる基板を格子状の複数の領域に仮想的に区画して、それぞれの領域にチップ状の素子を装着した後、基板全体を樹脂封止したものを封止済基板という。回転刃などを使用した切断機構によって封止済基板を切断し、それぞれの領域単位に個片化したものが製品となる。   A substrate consisting of a printed circuit board, a lead frame, etc. is virtually divided into a plurality of grid-like areas, chip-like elements are attached to each area, and then the whole board is sealed with resin. That's it. A product obtained by cutting a sealed substrate by a cutting mechanism using a rotary blade or the like and dividing it into individual region units becomes a product.

従来から、切断装置を用いて封止済基板の所定領域を回転刃などの切断機構によって切断している。例えば、BGA(Ball Grid Array Package)製品は、次のようにして切断される。まず、封止済基板の基板側の面を上にした状態で切断用テーブルの上に載置して吸着する。次に、封止済基板をアライメント(位置合わせ)する。アライメントすることによって、複数の領域を区切る仮想的な切断線の位置を設定する。次に、封止済基板を吸着した切断用テーブルと切断機構とを相対的に移動させる。切削水を封止済基板の切断箇所に噴射するとともに、切断機構によって封止済基板に設定された切断線に沿って封止済基板を切断する。封止済基板を切断することによって個片化された製品が製造される。   Conventionally, a predetermined region of a sealed substrate is cut by a cutting mechanism such as a rotary blade using a cutting device. For example, a BGA (Ball Grid Array Package) product is cut as follows. First, it is placed on the cutting table and sucked with the substrate-side surface of the sealed substrate facing up. Next, the sealed substrate is aligned (positioned). By aligning, the position of a virtual cutting line that divides a plurality of regions is set. Next, the cutting table that adsorbs the sealed substrate and the cutting mechanism are relatively moved. The cutting water is sprayed onto the cut portion of the sealed substrate, and the sealed substrate is cut along the cutting line set on the sealed substrate by the cutting mechanism. An individualized product is manufactured by cutting the sealed substrate.

近年は、半導体の微細化の進展に伴い、製造される製品がますます小さくなる傾向にある。例えば、アナログ製品やディスクリート製品などでは、一辺が2mm以下のサイズを有する製品が多くなっている。小さくなった製品を個片化する際には、切削水を噴射することによって、個片化された製品が切断用テーブルの所定位置から位置ずれする現象、又は、製品が切断用テーブルから飛んでしまうという現象が発生している。これらの現象は、個片化された製品を切断用テーブルの所定位置に吸着する吸着力よりも切削水によって製品に加えられる水圧のほうが高いため、発生すると考えられる。このような現象が発生すると、製品に欠けや割れなどが発生し、製品の品質を著しく低下させる。また、製品の歩留まりを大きく悪化させる。したがって、封止済基板を個片化する際には、製品が切断テーブルの所定位置から動かないように確実に固定することが重要となる。   In recent years, with the progress of semiconductor miniaturization, products manufactured tend to become smaller and smaller. For example, in analog products and discrete products, there are many products having a size of 2 mm or less on one side. When individualizing a reduced product, by spraying cutting water, the individualized product is displaced from a predetermined position on the cutting table, or the product flies off the cutting table. The phenomenon that occurs. These phenomena are considered to occur because the water pressure applied to the product by the cutting water is higher than the adsorption force for adsorbing the singulated product at a predetermined position of the cutting table. When such a phenomenon occurs, the product is chipped or cracked, and the quality of the product is significantly reduced. In addition, the product yield is greatly deteriorated. Therefore, when separating the sealed substrate, it is important to securely fix the product so as not to move from a predetermined position of the cutting table.

切断加工中の被加工材を効率良く洗浄するダイシング装置として、「(略)切断加工中の被加工材に向けて洗浄水を噴射する第1の洗浄水噴射手段と、(略)切断加工中の被加工材に向けて洗浄水を噴射する第2の洗浄水噴射手段と、(略)前記切断刃の端面に向けて切削水を供給する切削水噴射手段と、前記切断刃の両側面に設けられ、前記切断刃による被加工材の切断部に向けて冷却水を供給する冷却水噴射手段とが設けられる」ダイシング装置が提案されている(例えば、特許文献1の段落〔0008〕、〔0011〕、図3、図4参照)。   As a dicing apparatus that efficiently cleans the workpiece being cut, “(substantially) first cleaning water injection means for injecting cleaning water toward the workpiece being cut, and (substantially) during the cutting process” Second cleaning water spraying means for spraying cleaning water toward the workpiece, (substantially) cutting water spraying means for supplying cutting water toward the end face of the cutting blade, and both side surfaces of the cutting blade There is proposed a dicing apparatus that is provided with cooling water jetting means that supplies cooling water toward the cutting portion of the workpiece by the cutting blade (for example, paragraphs [0008] and [0008] of [Patent Document 1]. 0011], FIG. 3, FIG. 4).

特開2007−188974号公報JP 2007-188974 A

しかしながら、特許文献1に開示されたダイシング装置では、次のような課題が発生する。特許文献1の図3に示されるように、ダイシング装置1の切断装置10は、回転刃14、カッティングテーブル60、固定ウォーターカーテンノズル(第1の洗浄水噴射手段に相当)62、スポンジブロック(スクラブ洗浄手段に相当)64、及び移動ウォーターカーテンノズル(第2の洗浄水噴射手段に相当)66等から構成されている。   However, the dicing apparatus disclosed in Patent Document 1 has the following problems. As shown in FIG. 3 of Patent Document 1, the cutting device 10 of the dicing apparatus 1 includes a rotary blade 14, a cutting table 60, a fixed water curtain nozzle (corresponding to a first washing water injection means) 62, a sponge block (scrub) 64, a moving water curtain nozzle (corresponding to the second cleaning water jetting means) 66, and the like.

更に、フランジカバー(装置本体の一部)72には、切削水供給ノズル(切削水供給手段に相当)76、及び冷却水供給ノズル(冷却水供給手段に相当)78が設けられている。切削水供給ノズル76は、回転刃14に対向して配置され、この切削水供給ノズル76から噴射された切削水が、切断直前の回転刃14に供給される。また、冷却水供給ノズル78は、回転刃14を挟んで一対設けられており、この冷却水供給ノズル78から噴射された冷却水が、切断中の回転刃14及びウェーハWの切断部に供給され、回転刃14及び切断部が冷却される。   Further, the flange cover (a part of the apparatus main body) 72 is provided with a cutting water supply nozzle (corresponding to cutting water supply means) 76 and a cooling water supply nozzle (corresponding to cooling water supply means) 78. The cutting water supply nozzle 76 is disposed to face the rotary blade 14, and the cutting water sprayed from the cutting water supply nozzle 76 is supplied to the rotary blade 14 immediately before cutting. Further, a pair of cooling water supply nozzles 78 are provided across the rotary blade 14, and the cooling water sprayed from the cooling water supply nozzle 78 is supplied to the rotary blade 14 being cut and the cutting portion of the wafer W. The rotary blade 14 and the cutting part are cooled.

このような装置の構成によれば、ウェーハWに形成されるチップのサイズが小さくなった場合においては、切削水供給手段と冷却水供給手段とから噴射される加工水によって、個片化されたチップが飛びやすくなるおそれがある。   According to the configuration of such an apparatus, when the size of the chip formed on the wafer W is reduced, it is separated into pieces by the processing water sprayed from the cutting water supply means and the cooling water supply means. There is a risk that the tip will fly easily.

本発明は上記の課題を解決するもので、切断装置において、製品が小さくなった場合でも、製品が切断用テーブルの所定位置からずれたり飛んだりすることがなく、安定して個片化することができる切断装置及び切断方法を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problem, and in a cutting device, even when the product becomes small, the product does not deviate or fly out from a predetermined position of the cutting table, and can be separated into pieces stably. It is an object of the present invention to provide a cutting device and a cutting method capable of performing the above.

上記の課題を解決するために、本発明に係る切断装置は、複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物が載置されるテーブルと、被切断物を切断する切断手段と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させる移動機構と、切断手段と被切断物とが接する被加工点に切削水を供給する切削水供給機構とを備え、被切断物を個片化して領域のそれぞれに対応する製品を製造する際に使用される切断装置であって、被切断物を切断するための切断条件を制御する制御部を備え、制御部は、複数の切断線の一部に沿って被切断物を切断することによって複数の領域を含む中間体を生成するための第1の切断条件と、中間体を切断することによって製品に個片化するための第2の切断条件とを少なくとも有し、第2の切断条件における切削水の流量が第1の切断条件における切削水の流量よりも少ないことを特徴とする。   In order to solve the above problems, a cutting apparatus according to the present invention includes a table on which a workpiece having a plurality of regions surrounded by a plurality of cutting lines is placed, a cutting means for cutting the workpiece, A moving mechanism that relatively moves the table and the cutting means, and a cutting water supply mechanism that supplies cutting water to a processing point where the cutting means and the workpiece are in contact with each other. A cutting device used when manufacturing a product corresponding to each of the above, and includes a control unit that controls a cutting condition for cutting an object to be cut. A first cutting condition for generating an intermediate body including a plurality of regions by cutting the workpiece along the cutting direction, and a second cutting condition for separating the intermediate body into a product by cutting the intermediate body; Cutting at the second cutting condition Water flow rate is equal to or less than the flow rate of cutting fluid in the first cutting conditions.

また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、第2の切断条件におけるテーブルと切断手段との間における相対的な移動速度が第1の切断条件における相対的な移動速度よりも小さいことを特徴とする。   Further, in the cutting device according to the present invention, in the above-described cutting device, the relative moving speed between the table and the cutting means in the second cutting condition is smaller than the relative moving speed in the first cutting condition. It is characterized by that.

また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、少なくとも切削水の流量が流量調整手段によって制御されることを特徴とする。   The cutting device according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting device, at least a flow rate of the cutting water is controlled by a flow rate adjusting means.

また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、少なくとも切削水の流量が切替手段によって制御されることを特徴とする。   Further, the cutting device according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting device, at least a flow rate of the cutting water is controlled by the switching means.

また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、少なくとも切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する測定部を備え、測定部によって測定された測定値に基づき第1の切断条件及び第2の切断条件における加工水の流量を制御することを特徴とする。   Moreover, the cutting device according to the present invention includes a measuring unit that measures the flow rate of processing water that contains at least cutting water and is used for cutting in the above-described cutting device, and is based on a measurement value measured by the measuring unit. The flow rate of the processing water in the first cutting condition and the second cutting condition is controlled.

また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、切断手段の両側から切断手段の下方に向かって冷却水を供給する冷却水供給機構を備え、第2の切断条件における冷却水の流量が第1の切断条件における冷却水の流量よりも少ないことを特徴とする。   Further, the cutting device according to the present invention includes a cooling water supply mechanism that supplies cooling water from both sides of the cutting unit toward the lower side of the cutting unit in the above-described cutting unit, and the flow rate of the cooling water in the second cutting condition Is smaller than the flow rate of the cooling water in the first cutting condition.

また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、被切断物は封止済基板であることを特徴とする。   The cutting apparatus according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting apparatus, the object to be cut is a sealed substrate.

また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、被切断物は、複数の領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする。   The cutting apparatus according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting apparatus, the object to be cut is a substrate on which circuit elements respectively corresponding to a plurality of regions are formed.

上記の課題を解決するために、本発明に係る切断方法は、複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物をテーブルに載置する工程と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させる工程と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させることによって切断手段を使用して被切断物を切断する工程と、切断手段と被切断物とが接する被加工点に切削水供給機構を使用して切削水を供給する工程とを備えた切断方法であって、被切断物を切断するための切断条件を制御する工程を備え、切断する工程は、複数の切断線の一部に沿って被切断物を切断することによって複数の領域を含む中間体を生成する第1の工程と、中間体を切断することによって製品に個片化するための第2の工程とを少なくとも有し、制御する工程においては、第2の工程における切削水の流量を第1の工程における切削水の流量よりも少なくするように切削水供給機構を制御することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a cutting method according to the present invention includes a step of placing a workpiece having a plurality of regions surrounded by a plurality of cutting lines on a table, and the table and the cutting means relatively A step of moving, a step of cutting the workpiece using the cutting means by relatively moving the table and the cutting means, and a cutting water supply mechanism at a work point where the cutting means and the workpiece are in contact with each other A cutting method comprising: a step of supplying cutting water using a step of controlling cutting conditions for cutting an object to be cut, wherein the cutting step is performed on a part of a plurality of cutting lines. A first step of generating an intermediate including a plurality of regions by cutting the workpiece along the cut, and a second step of separating the intermediate into a product by cutting the intermediate In the controlling step, Characterized by the flow rate of the cutting water in the process control cutting water supply mechanism to less than the flow rate of the cutting water in the first step.

また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、相対的に移動させる工程においては、第2の工程におけるテーブルと切断手段との間における相対的な移動速度を第1の工程における相対的な移動速度よりも小さくすることを特徴とする。   Further, in the cutting method according to the present invention, in the above-described cutting method, the relative movement speed between the table and the cutting means in the second step is set to the relative speed in the first step in the relative moving step. The moving speed is smaller than a typical moving speed.

また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、制御する工程においては、流量調整手段を使用して少なくとも切削水の流量を制御することを特徴とする。   The cutting method according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting method, at least the flow rate of the cutting water is controlled using a flow rate adjusting means in the controlling step.

また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、制御する工程においては、切替手段を使用して少なくとも切削水の流量を制御することを特徴とする。   The cutting method according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting method, at least the flow rate of the cutting water is controlled using a switching means in the controlling step.

また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、少なくとも切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する工程を備え、制御する工程においては、測定する工程において測定した測定値に基づき第1の工程及び第2の工程における加工水の流量を制御することを特徴とする。   Further, the cutting method according to the present invention includes the step of measuring the flow rate of the processing water that contains at least cutting water and is used for cutting in the above-described cutting method, and in the control step, the measurement is performed in the measurement step. Based on the measured value, the flow rate of the processing water in the first step and the second step is controlled.

また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、切断手段の下方に向かって冷却水供給機構を使用して冷却水を供給する工程を備え、制御する工程においては、第2の工程における冷却水の流量を第1の工程における冷却水の流量よりも少なくするように冷却水供給機構を制御することを特徴とする。   Further, the cutting method according to the present invention includes the step of supplying cooling water using the cooling water supply mechanism toward the lower side of the cutting means in the cutting method described above, and the step of controlling the second step The cooling water supply mechanism is controlled so that the flow rate of the cooling water in is lower than the flow rate of the cooling water in the first step.

また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、被切断物は封止済基板であることを特徴とする。   The cutting method according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting method, the object to be cut is a sealed substrate.

また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、被切断物は、複数の領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする。   The cutting method according to the present invention is characterized in that, in the above-described cutting method, the object to be cut is a substrate on which circuit elements respectively corresponding to a plurality of regions are formed.

本発明によれば、切断装置において、複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物が載置されるテーブルと、被切断物を切断する切断手段と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させる移動機構と、切断手段と被切断物とが接する被加工点に切削水を供給する切削水供給機構と、切断条件を制御する制御部とを備える。第1の切断条件によって、複数の切断線の一部に沿って被切断物を切断して中間体を生成する。第2の切断条件によって、中間体を切断することによって被切断物を個片化して製品を製造する。第2の切断条件における切削水の流量を第1の切断条件における切削水の流量よりも少なくする。このことによって、製品が小さくなった場合でも、切削水の水圧によって製品がテーブルの所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。   According to the present invention, in the cutting apparatus, a table on which a workpiece having a plurality of regions surrounded by a plurality of cutting lines is placed, a cutting means for cutting the workpiece, and the table and the cutting means are relative to each other. A moving mechanism for moving the cutting device, a cutting water supply mechanism for supplying cutting water to a processing point where the cutting means and the object to be cut contact, and a control unit for controlling cutting conditions. According to the first cutting condition, the object to be cut is cut along a part of the plurality of cutting lines to generate an intermediate. According to the second cutting condition, the product is manufactured by cutting the intermediate body into individual pieces to be cut. The flow rate of the cutting water under the second cutting condition is made smaller than the flow rate of the cutting water under the first cutting condition. Thereby, even when the product is small, it is possible to prevent the product from being displaced from a predetermined position of the table or flying due to the hydraulic pressure of the cutting water.

本発明に係る切断装置が有する各ノズルを示し、図1(a)は回転刃周辺の平面図、図1(b)はスピンドルとは反対の側から回転刃を見た概略断面図である。FIG. 1A is a plan view of the periphery of a rotary blade, and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view of the rotary blade as viewed from the side opposite to the spindle. 本発明に係る切断装置の実施例1において、図1に示された各ノズルに加工水を供給する加工水供給機構を示す概略図である。In Example 1 of the cutting device concerning the present invention, it is a schematic diagram showing a processing water supply mechanism which supplies processing water to each nozzle shown in FIG. (a)〜(c)は、本発明に係る切断装置が封止済基板を切断する過程を示す平面図である。図3(a)は、封止済基板に設定された切断線を示す平面図、図3(b)は、第1の切断線に沿って封止済基板が切断された後の状態を示す平面図、図3(c)は、封止済基板が個片化された後の状態を示す平面図である。(A)-(c) is a top view which shows the process in which the cutting device which concerns on this invention cut | disconnects a sealed substrate. FIG. 3A is a plan view showing a cutting line set on the sealed substrate, and FIG. 3B shows a state after the sealed substrate is cut along the first cutting line. FIG. 3C is a plan view showing a state after the sealed substrate is separated into pieces. 本発明に係る切断装置の実施例2において、図1に示された各ノズルに加工水を供給する加工水供給機構を示す概略図である。In Example 2 of the cutting device which concerns on this invention, it is the schematic which shows the process water supply mechanism which supplies process water to each nozzle shown by FIG. 本発明に係る切断装置の実施例3において、切断装置の概要を示す平面図である。In Example 3 of the cutting device which concerns on this invention, it is a top view which shows the outline | summary of a cutting device.

図3に示されるように、まず、第1の切断条件を使用して、第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断して中間体36を形成する。次に、第2の切断条件を使用して、中間体36を切断して個片化する。このことによって、中間体36を、第1の切断線32と第2の切断線33とによって囲まれた領域34に相当する製品Pにそれぞれ個片化する。中間体36を形成する際の第1の切断条件における切削水の流量に対して、製品Pに個片化する際の第2の切断条件における切削水の流量を少なくする。第2の切断条件における切削水の流量を少なくすることによって、製品Pが小さくなった場合でも、切削水の水圧によって製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。   As shown in FIG. 3, first, the sealed substrate 12 is cut along the first cutting line 32 to form the intermediate 36 using the first cutting condition. Next, the intermediate body 36 is cut into pieces by using the second cutting conditions. As a result, the intermediate body 36 is separated into products P corresponding to the regions 34 surrounded by the first cutting line 32 and the second cutting line 33. The flow rate of the cutting water in the second cutting condition when the product P is separated into pieces is reduced with respect to the flow rate of the cutting water in the first cutting condition when the intermediate body 36 is formed. By reducing the flow rate of the cutting water in the second cutting condition, even when the product P becomes small, the product P is prevented from being displaced from the predetermined position of the cutting table 11 or flying due to the water pressure of the cutting water. be able to.

本発明に係る切断装置の加工水供給機構の実施例1について、図1〜図3を参照して説明する。本出願書類におけるいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。   A working water supply mechanism of a cutting device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Any figure in the present application document is schematically omitted or exaggerated as appropriate for easy understanding. About the same component, the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted suitably.

図1(a)に示されるように、切断装置はスピンドル1を備え、スピンドル1は回転軸2を有する。回転軸2には回転刃3が取り付けられる。回転刃用カバー4(図中において二点鎖線で示す)がスピンドル1に取り付けられる。回転刃3は回転刃用カバー4によって覆われる。被切断物及び回転刃3に加工水を供給するノズルが、回転刃用カバー4に取り付けられる。例えば、1個の切削水供給用ノズル5と2個の冷却水供給用ノズル6と2個の洗浄水供給用ノズル7とが、回転刃用カバー4に取り付けられる。切削水供給用ノズル5は切削水供給用配管8に、2個の冷却水供給用ノズル6は冷却水供給用配管9に、2個の洗浄水供給用ノズル7は洗浄水供給用配管10に、それぞれ接続される。   As shown in FIG. 1A, the cutting device includes a spindle 1, and the spindle 1 has a rotating shaft 2. A rotary blade 3 is attached to the rotary shaft 2. A rotary blade cover 4 (indicated by a two-dot chain line in the figure) is attached to the spindle 1. The rotary blade 3 is covered with a rotary blade cover 4. A nozzle for supplying processing water to the workpiece and the rotary blade 3 is attached to the rotary blade cover 4. For example, one cutting water supply nozzle 5, two cooling water supply nozzles 6, and two cleaning water supply nozzles 7 are attached to the rotary blade cover 4. The cutting water supply nozzle 5 is connected to the cutting water supply pipe 8, the two cooling water supply nozzles 6 are connected to the cooling water supply pipe 9, and the two cleaning water supply nozzles 7 are connected to the cleaning water supply pipe 10. , Each connected.

図1(b)に示されるように、切断用テーブル11の上には被切断物である封止済基板12が吸着又は粘着シートによって固定される。封止済基板12は、最終的に切断されて個片化される被切断物である。封止済基板12は、プリント基板やリードフレームなどからなる基板13と、基板13が有する複数の領域に装着された複数のチップ状部品(図示なし)と、複数の領域が一括して覆われるようにして形成された封止樹脂14とを有する。封止済基板12は、基板13側の面を上にして切断用テーブル11に固定される。   As shown in FIG. 1B, a sealed substrate 12, which is an object to be cut, is fixed on the cutting table 11 by suction or an adhesive sheet. The sealed substrate 12 is an object to be cut that is finally cut into pieces. The sealed substrate 12 covers a substrate 13 made of a printed circuit board, a lead frame, etc., a plurality of chip-like components (not shown) mounted in a plurality of regions of the substrate 13, and a plurality of regions collectively. The sealing resin 14 thus formed is included. The sealed substrate 12 is fixed to the cutting table 11 with the substrate 13 side facing up.

図1(a)、(b)に示されるように、切削水供給用ノズル5から、封止済基板12と回転刃3とが接触する被加工点に向かって切削水15が噴射される。切削水15は、回転刃3の側面における目詰りを防止することによって回転刃3と封止済基板12との間における摩擦を低減する機能を有する。2個の冷却水供給用ノズル6は回転刃3を挟むようにして配置される。各冷却水供給用ノズル6は、回転刃3の側面と封止済基板12の上面とに対して平行になるように、それぞれ配置される。冷却水供給用ノズル6から、回転刃3の側面を含む所定の部分に向かって冷却水16が噴射される。冷却水16は、回転刃3と封止済基板12とを冷却する機能を有する。更に、2個の洗浄水供給用ノズル7から、封止済基板12の上面であって回転刃3の側面に近い所定の部分に向かって洗浄水17が噴射される。洗浄水17は、回転刃3によって発生した切り屑などを除去する機能を有する。切り屑には、粉状や粒状の物質の他に、封止済基板12における最も端の切断線に沿って封止済基板12を切断した場合に発生する細長い端材が含まれる。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the cutting water 15 is jetted from the cutting water supply nozzle 5 toward the processing point where the sealed substrate 12 and the rotary blade 3 come into contact. The cutting water 15 has a function of reducing friction between the rotary blade 3 and the sealed substrate 12 by preventing clogging on the side surface of the rotary blade 3. The two cooling water supply nozzles 6 are arranged so as to sandwich the rotary blade 3. Each cooling water supply nozzle 6 is arranged so as to be parallel to the side surface of the rotary blade 3 and the upper surface of the sealed substrate 12. Cooling water 16 is jetted from the cooling water supply nozzle 6 toward a predetermined portion including the side surface of the rotary blade 3. The cooling water 16 has a function of cooling the rotary blade 3 and the sealed substrate 12. Further, the cleaning water 17 is jetted from the two cleaning water supply nozzles 7 toward a predetermined portion near the side surface of the rotary blade 3 on the upper surface of the sealed substrate 12. The cleaning water 17 has a function of removing chips generated by the rotary blade 3. In addition to powdery and granular materials, the chips include elongated end materials that are generated when the sealed substrate 12 is cut along the cutting line at the end of the sealed substrate 12.

図1(b)に示されるように、切断用テーブル11は、移動機構(図示なし)によって、送り速度VでY方向に往復移動する。回転刃3は、スピンドル1に組み込まれたモータ(図示なし)によって、図の反時計回りに回転数Rで高速回転する。   As shown in FIG. 1B, the cutting table 11 reciprocates in the Y direction at a feed speed V by a moving mechanism (not shown). The rotary blade 3 is rotated at a high rotational speed R counterclockwise by a motor (not shown) incorporated in the spindle 1.

図2に示されるように、工場の給水機構18は、工場内の多数の装置に加工水として、例えば、純水を供給する給水機構である。給水機構18は、工場内の多数の装置に加工水を供給しているため、装置の稼働状況によっては供給する加工水の圧力が変動しやすい。工場から供給する加工水の圧力が低下すると、各装置に供給される加工水に所定の圧力が得られなくなり、加工水の流量も少なくなる。したがって、工場の給水機構18が供給する加工水は、圧力の低下なども考慮して0.3〜0.5MPa程度に設定することが好ましい。   As shown in FIG. 2, the water supply mechanism 18 in the factory is a water supply mechanism that supplies, for example, pure water as processed water to a large number of apparatuses in the factory. Since the water supply mechanism 18 supplies the processed water to a large number of apparatuses in the factory, the pressure of the supplied processed water tends to fluctuate depending on the operation status of the apparatus. When the pressure of the processing water supplied from the factory decreases, a predetermined pressure cannot be obtained for the processing water supplied to each device, and the flow rate of the processing water decreases. Therefore, it is preferable to set the working water supplied from the factory water supply mechanism 18 to about 0.3 to 0.5 MPa in consideration of a decrease in pressure and the like.

工場の給水機構18から切断装置に加工水が供給される。切断装置が有する各分岐配管、具体的には切削水供給用配管8と冷却水供給用配管9と洗浄水供給用配管10とは、切断装置の共通配管19を介して、給水機構18に接続される。共通配管19には、加工水の圧力を調整する圧力調整器(レギュレータ)20が設けられる。給水機構18から共通配管19に供給される加工水は、圧力調整器20によって所定の圧力に降圧される。所定の圧力に降圧された加工水が所定の流量で各分岐配管に供給される。図2においては、例えば、切断装置の共通配管19に最大で12L/分の加工水が供給され、共通配管19から各分岐配管に所定量の加工水が供給される。また、共通配管19には、給水機構18から供給される加工水の流量を測定する流量センサ21が設けられる。   Processing water is supplied from the water supply mechanism 18 of the factory to the cutting device. Each branch pipe of the cutting apparatus, specifically, the cutting water supply pipe 8, the cooling water supply pipe 9, and the cleaning water supply pipe 10 are connected to the water supply mechanism 18 through the common pipe 19 of the cutting apparatus. Is done. The common pipe 19 is provided with a pressure regulator (regulator) 20 that adjusts the pressure of the processing water. The processing water supplied from the water supply mechanism 18 to the common pipe 19 is lowered to a predetermined pressure by the pressure regulator 20. The processing water whose pressure has been reduced to a predetermined pressure is supplied to each branch pipe at a predetermined flow rate. In FIG. 2, for example, processing water of 12 L / min at the maximum is supplied to the common pipe 19 of the cutting apparatus, and a predetermined amount of processing water is supplied from the common pipe 19 to each branch pipe. The common pipe 19 is provided with a flow rate sensor 21 that measures the flow rate of the processing water supplied from the water supply mechanism 18.

切断装置において、封止済基板12(図1参照)を切断するための切断条件などを制御する制御部22が設けられる。例えば、封止済基板12に噴射される切削水15、冷却水16、洗浄水17のそれぞれの流量や切断用テーブル11の移動速度Vや回転刃3の回転数Rなどが、制御部22によって制御される。制御部22は、信号線23を介して共通配管19に設けられた流量センサ21に接続される。   In the cutting apparatus, a control unit 22 that controls cutting conditions for cutting the sealed substrate 12 (see FIG. 1) is provided. For example, the flow rate of the cutting water 15, the cooling water 16, and the cleaning water 17 sprayed onto the sealed substrate 12, the moving speed V of the cutting table 11, the rotational speed R of the rotary blade 3, and the like are controlled by the control unit 22. Be controlled. The control unit 22 is connected to a flow rate sensor 21 provided in the common pipe 19 via a signal line 23.

切削水供給用配管8と冷却水供給用配管9と洗浄水供給用配管10とには、供給される加工水の流量を調整するための流量コントローラ24、25、26がそれぞれ設けられる。各流量コントローラ24、25、26は、信号線27、28、29を介して、それぞれ制御部22に接続される。切削水供給用ノズル5から噴射される切削水15、冷却水供給用ノズル6から噴射される冷却水16、及び、洗浄水供給用ノズル7から噴射される洗浄水17の流量が、流量コントローラ24、25、26によってそれぞれ制御される。切断用テーブル11は、信号線30を介して、制御部22に接続される。切断用テーブル11の移動速度Vは、制御部22によって制御される。スピンドル1は、信号線31を介して、制御部22に接続される。スピンドル1に設けられた回転刃3の回転数Rは、制御部22によって制御される。   The cutting water supply pipe 8, the cooling water supply pipe 9, and the cleaning water supply pipe 10 are respectively provided with flow rate controllers 24, 25, and 26 for adjusting the flow rate of the supplied processing water. Each flow controller 24, 25, 26 is connected to the control unit 22 via a signal line 27, 28, 29. The flow rate of the cutting water 15 injected from the cutting water supply nozzle 5, the cooling water 16 injected from the cooling water supply nozzle 6, and the cleaning water 17 injected from the cleaning water supply nozzle 7 is a flow rate controller 24. , 25 and 26, respectively. The cutting table 11 is connected to the control unit 22 via the signal line 30. The moving speed V of the cutting table 11 is controlled by the control unit 22. The spindle 1 is connected to the control unit 22 via a signal line 31. The rotational speed R of the rotary blade 3 provided on the spindle 1 is controlled by the control unit 22.

切削水15は、共通配管19から切削水供給用配管8、流量コントローラ24、切削水供給用ノズル5(図1参照)を順次経由して封止済基板12に噴射される。冷却水16は、共通配管19から冷却水供給用配管9、流量コントローラ25、冷却水供給用ノズル6(図1参照)を順次経由して封止済基板12に噴射される。洗浄水17は、共通配管19から洗浄水供給用配管10、流量コントローラ26、洗浄水供給用ノズル7(図1参照)を順次経由して封止済基板12に噴射される。工場の給水機構18から切断装置の共通配管19に供給された加工水は、各分岐配管に設けられた流量コントローラ24、25、26によって所定の流量に制御され、各ノズルから所定流量の加工水が封止済基板12に噴射される。   The cutting water 15 is sprayed from the common pipe 19 to the sealed substrate 12 via the cutting water supply pipe 8, the flow rate controller 24, and the cutting water supply nozzle 5 (see FIG. 1) in this order. The cooling water 16 is sprayed from the common pipe 19 to the sealed substrate 12 via the cooling water supply pipe 9, the flow rate controller 25, and the cooling water supply nozzle 6 (see FIG. 1) in this order. The cleaning water 17 is sprayed from the common pipe 19 to the sealed substrate 12 via the cleaning water supply pipe 10, the flow rate controller 26, and the cleaning water supply nozzle 7 (see FIG. 1) in this order. The processing water supplied from the water supply mechanism 18 of the factory to the common pipe 19 of the cutting device is controlled to a predetermined flow rate by the flow rate controllers 24, 25, and 26 provided in each branch pipe, and the processing water of a predetermined flow rate from each nozzle. Is sprayed onto the sealed substrate 12.

切断装置の共通配管19に設けられた流量センサ21によって、共通配管19に供給される加工水の流量が測定される。測定された加工水の流量に基づき、制御部22は各流量コントローラ24、25、26に供給する加工水の流量を制御する。このことによって、例えば、給水機構18から供給する加工水の圧力が低下して加工水の流量が少なくなったとしても、所定の流量の加工水を供給するように制御部22が各流量コントローラ24、25、26を制御する。   The flow rate sensor 21 provided in the common pipe 19 of the cutting device measures the flow rate of the processing water supplied to the common pipe 19. Based on the measured flow rate of the processed water, the control unit 22 controls the flow rate of the processed water supplied to each flow rate controller 24, 25, 26. Thus, for example, even if the pressure of the processing water supplied from the water supply mechanism 18 decreases and the flow rate of the processing water decreases, the control unit 22 causes each flow controller 24 to supply a predetermined flow rate of the processing water. , 25 and 26 are controlled.

制御部22は、流量センサ21、各流量コントローラ24、25、26、切断用テーブル11、スピンドル1などに、各信号線を介してそれぞれ接続される。したがって、切断装置における切断条件の設定や変更などは、すべて制御部22によって制御することができる。切削水供給用ノズル5、冷却水供給用ノズル6、洗浄水供給用ノズル7から噴射する加工水の流量を、制御部22によってそれぞれ最適に制御することができる。   The control unit 22 is connected to the flow rate sensor 21, the flow rate controllers 24, 25, and 26, the cutting table 11, the spindle 1, and the like via respective signal lines. Accordingly, setting and changing of the cutting conditions in the cutting device can be controlled by the control unit 22. The flow rate of the processing water sprayed from the cutting water supply nozzle 5, the cooling water supply nozzle 6, and the cleaning water supply nozzle 7 can be optimally controlled by the control unit 22.

実施例1においては、流量センサ21を切断装置の共通配管19に設けた場合を示した。これに限らず、変形例として、切削水供給用配管8、冷却水供給用配管9、洗浄水供給用配管10に、それぞれ流量センサ21a、21b、21c(図中において二点鎖線で示す)を設けることができる。その場合には、各流量センサ21a、21b、21cが、それぞれ信号線(図示なし)を介して制御部22に接続される。各流量センサ21a、21b、21cによって測定された加工水の流量に基づき、所定流量の加工水を供給するように制御部22が各流量コントローラ24、25、26を制御する。   In Example 1, the case where the flow sensor 21 was provided in the common piping 19 of the cutting device was shown. Not limited to this, as a modification, flow rate sensors 21a, 21b, and 21c (shown by two-dot chain lines in the drawing) are respectively provided in the cutting water supply pipe 8, the cooling water supply pipe 9, and the cleaning water supply pipe 10. Can be provided. In that case, each flow sensor 21a, 21b, 21c is connected to the control part 22 via a signal line (not shown), respectively. Based on the flow rate of the processed water measured by the flow rate sensors 21a, 21b, and 21c, the control unit 22 controls the flow rate controllers 24, 25, and 26 so as to supply a predetermined flow rate of processed water.

図1〜図3を参照して、封止済基板12の構成、及び、実施例1において、封止済基板12を切断して個片化する工程を説明する。図3(a)に示されるように、封止済基板12は、基板13と硬化樹脂からなる封止樹脂14(図中において太い点線で示す)とを有する。封止済基板12には、短手方向に沿う複数の第1の切断線32と長手方向に沿う複数の第2の切断線33とがそれぞれ設定される。第1の切断線32と第2の切断線33とによって囲まれた領域34が、個片化されることによってそれぞれ製品Pになる(図3(c)参照)。図3(a)においては、例えば、短手方向に10本の第1の切断線32が、長手方向に4本の第2の切断線33が設定される。したがって、短手方向には3個及び長手方向には9個の領域34が形成され、合計で27個の領域34が格子状に形成される。   With reference to FIGS. 1-3, the structure of the sealed substrate 12 and the process of cutting the sealed substrate 12 into pieces in Example 1 will be described. As shown in FIG. 3A, the sealed substrate 12 includes a substrate 13 and a sealing resin 14 (shown by a thick dotted line in the drawing) made of a cured resin. In the sealed substrate 12, a plurality of first cutting lines 32 along the short direction and a plurality of second cutting lines 33 along the longitudinal direction are set. The regions 34 surrounded by the first cutting line 32 and the second cutting line 33 are separated into individual products P (see FIG. 3C). In FIG. 3A, for example, ten first cutting lines 32 are set in the short direction, and four second cutting lines 33 are set in the long direction. Therefore, three regions 34 are formed in the short direction and nine regions 34 are formed in the longitudinal direction, and a total of 27 regions 34 are formed in a lattice shape.

まず、封止済基板12を切断するために、基板13側の面を上にして、封止済基板12を吸着又は粘着シートによって切断用テーブル11に固定する(図1(b)参照)。吸着する場合には、封止済基板12に設けられた各領域34が、切断用テーブル11に設けられたそれぞれの吸着孔35によって吸着される。したがって、個片化された状態においても、各領域34に相当する製品Pがそれぞれの吸着孔35によって吸着される。   First, in order to cut the sealed substrate 12, the surface on the substrate 13 side is turned up, and the sealed substrate 12 is fixed to the cutting table 11 by suction or an adhesive sheet (see FIG. 1B). In the case of adsorption, each region 34 provided in the sealed substrate 12 is adsorbed by the respective adsorption holes 35 provided in the cutting table 11. Therefore, the product P corresponding to each region 34 is adsorbed by the respective adsorbing holes 35 even in the state of being separated into pieces.

次に、切断用テーブル11とスピンドル1とを相対的に移動させる(図1参照)。「相対的に移動させる」という文言には次の3つの態様が含まれる。それらの態様は、切断用テーブル11を固定してスピンドル1を移動させる態様、スピンドル1を固定して切断用テーブル11を移動させる態様、及び、切断用テーブル11とスピンドル1との双方を移動させる態様である。   Next, the cutting table 11 and the spindle 1 are relatively moved (see FIG. 1). The term “relatively move” includes the following three modes. These modes include a mode in which the cutting table 11 is fixed and the spindle 1 is moved, a mode in which the spindle 1 is fixed and the cutting table 11 is moved, and both the cutting table 11 and the spindle 1 are moved. It is an aspect.

実施例1においては、図1に示されるように、スピンドル1を固定して、移動機構(図示なし)によって切断用テーブル11をY方向に送り速度V(mm/秒)で移動させる。まず、回転刃3の下端が、封止樹脂14の下面より深くなるように、スピンドル1を降下させる。次に、スピンドル1の先端に取り付けられた回転刃3を反時計回りに回転数Rでもって高速回転させる。次に、切断用テーブル11を+Y方向に送り速度Vで移動させ、封止済基板12に設定された第1の切断線32及び第2の切断線33(図3(a)参照)に沿って封止済基板12を切断する。切断する時には、切削水供給用ノズル5から切削水15を、冷却水供給用ノズル6から冷却水16を、洗浄水供給用ノズル7から洗浄水17を、封止済基板12及び回転刃3に向かってそれぞれ噴射する。   In the first embodiment, as shown in FIG. 1, the spindle 1 is fixed, and the cutting table 11 is moved in the Y direction at a feed speed V (mm / sec) by a moving mechanism (not shown). First, the spindle 1 is lowered so that the lower end of the rotary blade 3 is deeper than the lower surface of the sealing resin 14. Next, the rotary blade 3 attached to the tip of the spindle 1 is rotated at a high speed with the rotation speed R counterclockwise. Next, the cutting table 11 is moved at the feed speed V in the + Y direction, and along the first cutting line 32 and the second cutting line 33 (see FIG. 3A) set on the sealed substrate 12. Then, the sealed substrate 12 is cut. When cutting, the cutting water 15 is supplied from the cutting water supply nozzle 5, the cooling water 16 is supplied from the cooling water supply nozzle 6, and the cleaning water 17 is supplied from the cleaning water supply nozzle 7 to the sealed substrate 12 and the rotary blade 3. Inject each towards.

次に、図3を参照して、具体的に封止済基板12を切断する動作について説明する。まず、図3(a)に示されるように、短手方向に設定された第1の切断線32のうち図の最も右端の切断線に沿って封止済基板12を切断する。この場合には、第1の切断条件を使用して封止済基板12を切断する。第1の切断条件としては、例えば、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を4L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を4L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を40mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する(図1参照)。   Next, with reference to FIG. 3, the operation | movement which cut | disconnects the sealed substrate 12 concretely is demonstrated. First, as shown in FIG. 3A, the sealed substrate 12 is cut along the rightmost cutting line in the drawing among the first cutting lines 32 set in the short direction. In this case, the sealed substrate 12 is cut using the first cutting condition. As the first cutting condition, for example, the flow rate of the cutting water 15 injected from the cutting water supply nozzle 5 is 4 L / min, and the flow rate of the cooling water 16 injected from the two cooling water supply nozzles 6 is 4 L / min. The flow rate of the cleaning water 17 sprayed from the two cleaning water supply nozzles 7 is 2 L / min, the feed speed of the cutting table 11 is 40 mm / sec, and the rotation speed of the rotary blade 3 is 30,000 rpm / min. Set (see FIG. 1).

次に、図3(b)に示されるように、第1の切断条件を使用して、短手方向に設定された10本の第1の切断線32のうち残りの9本に沿って封止済基板12を切断する。短手方向に設定された合計10本の第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断することによって、9個の中間体36(図において網掛けで示す部分)が形成される。各中間体36は、8本の第1の切断線32に対応する間隙を挟んで、長手方向に沿って互いに分離されている。各中間体36は、短手方向に沿って3個の領域34を有している。各中間体36は、中間体36が有する3個の領域34に対応する3個の吸着孔35によって、切断用テーブル11に吸着されている。図3(a)の左右方向における最も端の切断線の外側の部分、言い換えれば、最も右端の切断線の右側の部分と最も左端の切断線の左側の部分とは、細長い端材からなる不要な部分として、洗浄水などによって流されて除去される(図3(b)参照)。   Next, as shown in FIG. 3B, the first cutting condition is used to seal along the remaining nine of the ten first cutting lines 32 set in the short direction. The stopped substrate 12 is cut. By cutting the sealed substrate 12 along a total of ten first cutting lines 32 set in the short direction, nine intermediate bodies 36 (portions indicated by shading in the figure) are formed. . The intermediate bodies 36 are separated from each other along the longitudinal direction with a gap corresponding to the eight first cutting lines 32 interposed therebetween. Each intermediate body 36 has three regions 34 along the short direction. Each intermediate body 36 is sucked to the cutting table 11 by three suction holes 35 corresponding to the three regions 34 of the intermediate body 36. The portion outside the outermost cutting line in the left-right direction in FIG. 3A, in other words, the rightmost portion of the rightmost cutting line and the leftmost portion of the leftmost cutting line are not formed of elongated end members. As a special part, it is removed by being washed away with washing water or the like (see FIG. 3B).

次に、図3(c)に示されるように、切断用テーブル11を90度回転させる。次に、長手方向に設定された4本の第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断する。この場合において、最初に、第1の切断条件を使用して、第2の切断線33のうち最も端の切断線(例えば、図3(c)における最も右端の部分に相当する切断線)に沿って封止済基板12を切断する。図3(c)における最も右端の部分に相当する切断線よりも右側の部分(図示なし)は、細長い端材からなる不要な部分として、洗浄水などによって流されて除去される。   Next, as shown in FIG. 3C, the cutting table 11 is rotated 90 degrees. Next, the sealed substrate 12 is cut along the four second cutting lines 33 set in the longitudinal direction. In this case, first, the first cutting condition is used, and the second cutting line 33 is cut into the most cutting line (for example, the cutting line corresponding to the rightmost part in FIG. 3C). Then, the sealed substrate 12 is cut. The portion (not shown) on the right side of the cutting line corresponding to the rightmost portion in FIG. 3 (c) is removed by being washed away with washing water or the like as an unnecessary portion made of an elongated end material.

続いて、第2の切断条件を使用して、長手方向に設定された4本の第2の切断線33のうち残りの3本に沿って封止済基板12を切断する。3本の第2の切断線のそれぞれを切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する。各製品Pは、それぞれの領域34に対応する吸着孔35によって切断用テーブル11に吸着される。   Subsequently, using the second cutting conditions, the sealed substrate 12 is cut along the remaining three of the four second cutting lines 33 set in the longitudinal direction. By cutting each of the three second cutting lines, a product P corresponding to the segmented region 34 is completed. Each product P is sucked to the cutting table 11 by the suction holes 35 corresponding to the respective regions 34.

ある1本の切断線を切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する場合に、第2の切断条件を使用する。第2の切断条件としては、例えば、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を2L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を2L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を20mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する(図1参照)。この場合には、第1の切断条件に対して、切削水15の流量を1/2、冷却水16の流量を1/2、及び、切断用テーブル11の送り速度を1/2に変更して、第2の切断条件を設定した。   When the product P corresponding to the segmented region 34 is completed by cutting a single cutting line, the second cutting condition is used. As the second cutting condition, for example, the flow rate of the cutting water 15 injected from the cutting water supply nozzle 5 is 2 L / min, and the flow rate of the cooling water 16 injected from the two cooling water supply nozzles 6 is 2 L / min. The flow rate of the cleaning water 17 sprayed from the two cleaning water supply nozzles 7 is 2 L / min, the feed speed of the cutting table 11 is 20 mm / sec, and the rotation speed of the rotary blade 3 is 30,000 rpm / min. Set (see FIG. 1). In this case, with respect to the first cutting condition, the flow rate of the cutting water 15 is changed to 1/2, the flow rate of the cooling water 16 is changed to 1/2, and the feed rate of the cutting table 11 is changed to 1/2. Then, the second cutting condition was set.

上述したように、ある1本の切断線を切断することによって製品Pが完成する場合以外の場合に、第1の切断条件を使用する。ある1本の切断線を切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する場合に、第2の切断条件を使用する。これら切断条件を使用して封止済基板12を切断することによって、封止済基板12は、第1の切断線32と第2の切断線33とによって囲まれた領域34にそれぞれ個片化される。個片化されたそれぞれの領域34が製品Pに相当する。各製品Pは、それぞれの領域34に対応する吸着孔35によって切断用テーブル11に吸着される。第1の切断線32及び第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断して個片化することによって複数の製品Pが完成する。   As described above, the first cutting condition is used in cases other than the case where the product P is completed by cutting a certain cutting line. When the product P corresponding to the segmented region 34 is completed by cutting a single cutting line, the second cutting condition is used. By cutting the sealed substrate 12 using these cutting conditions, the sealed substrate 12 is separated into regions 34 surrounded by the first cutting line 32 and the second cutting line 33, respectively. Is done. Each divided region 34 corresponds to the product P. Each product P is sucked to the cutting table 11 by the suction holes 35 corresponding to the respective regions 34. A plurality of products P is completed by cutting the sealed substrate 12 along the first cutting line 32 and the second cutting line 33 into pieces.

本実施例においては、第2の切断条件として、切削水15の流量と冷却水16の流量とを1/2に減らし、かつ、切断用テーブル11の送り速度を1/2に遅くして、封止済基板12を個片化した。これに限らず、第2の切断条件として、切削水15の流量を1/2に減らし、かつ、切断用テーブル11の送り速度を1/2に遅くして、封止済基板12を個片化することができる。更には、第2の切断条件として、切削水15の流量のみを1/2に減らして封止済基板12を個片化することができる。   In this embodiment, as the second cutting condition, the flow rate of the cutting water 15 and the flow rate of the cooling water 16 are reduced to 1/2, and the feed speed of the cutting table 11 is reduced to 1/2, The sealed substrate 12 was separated into pieces. Not limited to this, as a second cutting condition, the flow rate of the cutting water 15 is reduced to ½, and the feeding speed of the cutting table 11 is reduced to ½ to separate the sealed substrate 12 into pieces. Can be Furthermore, as the second cutting condition, only the flow rate of the cutting water 15 can be reduced to ½, and the sealed substrate 12 can be singulated.

例えば、第2の切断条件における切削水15の流量を第1の切断条件における切削水15の流量よりも少なくする。このことに起因して、次の効果が生じる。第1の効果は、これらの製品Pに切削水15が衝突することによって製品Pが位置ずれする現象が抑制されることである。第2の効果は、これらの製品Pに切削水15が衝突することによって製品Pが切断用テーブル11の所定位置から引き離されて流出する現象が抑制されることである。これらの効果は、製品Pの一辺(短辺)が3mm以下である場合に顕著である。これらの効果は、製品Pの一辺(短辺)が2mm以下である場合にいっそう顕著である。   For example, the flow rate of the cutting water 15 under the second cutting condition is made smaller than the flow rate of the cutting water 15 under the first cutting condition. This causes the following effects. The first effect is that a phenomenon that the product P is displaced due to the cutting water 15 colliding with these products P is suppressed. A second effect is that a phenomenon in which the product P is separated from a predetermined position of the cutting table 11 and flows out due to the cutting water 15 colliding with the products P is suppressed. These effects are remarkable when one side (short side) of the product P is 3 mm or less. These effects are more remarkable when one side (short side) of the product P is 2 mm or less.

本実施例によれば、製品Pに個片化する工程に相当しない工程(中間体36を形成する工程を含む)において使用される第1の切断条件に対して、製品Pに個片化する際の第2の切断条件を最適化する。例えば、第1の切断条件における切削水の流量に対して、第2の切断条件における切削水の流量を少なくする。このことによって、製品Pが小さくなった場合でも、切削水15の水圧によって製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。   According to the present embodiment, the product P is singulated with respect to the first cutting condition used in the step (including the step of forming the intermediate 36) not corresponding to the step of singulating the product P. The second cutting condition is optimized. For example, the flow rate of the cutting water in the second cutting condition is reduced with respect to the flow rate of the cutting water in the first cutting condition. Thereby, even when the product P becomes small, it is possible to prevent the product P from being displaced from a predetermined position of the cutting table 11 or flying due to the water pressure of the cutting water 15.

個片化された製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることがないように、第2の切断条件を製品Pのサイズに対応して設定することができる。具体的には、上述した切削水15の流量に加えて、冷却水16の流量、洗浄水17の流量、切断用テーブル11の送り速度、回転刃3の回転数などを最適にして、第2の切断条件を設定することができる。第2の切断条件においては、切削水15の流量を少なくすることに加えて、冷却水16の流量を少なくすること、切断用テーブル11の送り速度を遅くすることなどが、製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを防ぐことに、効果がある。   The second cutting condition can be set in accordance with the size of the product P so that the separated product P does not deviate or fly from a predetermined position of the cutting table 11. Specifically, in addition to the above-described flow rate of the cutting water 15, the flow rate of the cooling water 16, the flow rate of the cleaning water 17, the feed rate of the cutting table 11, the rotational speed of the rotary blade 3, etc. are optimized, The cutting conditions can be set. In the second cutting condition, in addition to reducing the flow rate of the cutting water 15, reducing the flow rate of the cooling water 16, reducing the feed rate of the cutting table 11, etc. It is effective to prevent the table 11 from being displaced or flying from a predetermined position.

また、本実施例によれば、第2の切断条件において、噴射する切削水15及び冷却水16の流量を、第1の切断条件に対して1/2に減らしている。このことによって、製品Pに個片化する際に使用する加工水の量を節約することができる。   Further, according to the present embodiment, the flow rates of the cutting water 15 and the cooling water 16 to be injected are reduced to ½ with respect to the first cutting condition in the second cutting condition. As a result, the amount of processing water used when the product P is separated into pieces can be saved.

また、本実施例によれば、第1の切断条件及び第2の切断条件として、切削水15の流量、冷却水16の流量、洗浄水17の流量、切断用テーブル11の送り速度、及び、回転刃3の回転数などを設定する。切断装置に設けられた制御部22を使用して、これらの切断条件を設定し、制御することができる。したがって、製品Pのサイズに応じて、制御部22を使用して、切断条件を容易に設定又は変更することができる。   Further, according to the present embodiment, as the first cutting condition and the second cutting condition, the flow rate of the cutting water 15, the flow rate of the cooling water 16, the flow rate of the cleaning water 17, the feed rate of the cutting table 11, and The number of rotations of the rotary blade 3 is set. These cutting conditions can be set and controlled using the control unit 22 provided in the cutting apparatus. Therefore, according to the size of the product P, the cutting condition can be easily set or changed using the control unit 22.

また、本実施例によれば、流量センサ21によって、切断装置に供給される加工水の流量を測定する。工場の給水機構18から切断装置に供給される加工水の圧力が低下して流量が少なくなったとしても、測定された加工水の流量に基づき、制御部22によって所定の流量を供給するように各流量コントローラ24、25、26を制御する。したがって、それぞれのノズルから所定流量の加工水を封止済基板12に噴射することができる。   Further, according to the present embodiment, the flow rate sensor 21 measures the flow rate of the processing water supplied to the cutting device. Even if the pressure of the processing water supplied from the water supply mechanism 18 of the factory to the cutting device decreases and the flow rate decreases, the control unit 22 supplies a predetermined flow rate based on the measured flow rate of the processing water. Each flow controller 24, 25, 26 is controlled. Therefore, a predetermined flow rate of processing water can be sprayed from the respective nozzles onto the sealed substrate 12.

図4を参照して、本発明に係る切断装置の実施例2における加工水供給機構について説明する。実施例1で示した加工水供給機構と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。   With reference to FIG. 4, the processing water supply mechanism in Example 2 of the cutting device based on this invention is demonstrated. The same components as those in the processing water supply mechanism shown in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

工場の給水機構18から切断装置に供給される加工水は、圧力調整器20によって所定の圧力に降圧され、各分岐配管に所定の流量の加工水が供給される。図4においては、例えば、最大で16L/分の加工水が共通配管19に供給され、共通配管19から各分岐配管に所定量の加工水が供給される。   The processing water supplied from the water supply mechanism 18 of the factory to the cutting device is depressurized to a predetermined pressure by the pressure regulator 20, and a predetermined flow rate of processing water is supplied to each branch pipe. In FIG. 4, for example, processing water of up to 16 L / min is supplied to the common pipe 19, and a predetermined amount of processing water is supplied from the common pipe 19 to each branch pipe.

切断装置が有する3つの分岐配管37、38、39には、共通配管19から供給される加工水の流量を調整するための流量調整絞り40、41、42がそれぞれ設けられる。例えば、流量調整絞り40によって、分岐配管37には8L/分の加工水が供給される。流量調整絞り41によって、分岐配管38には4L/分の加工水が供給される。流量調整絞り42によって、分岐配管39には2L/分の加工水が供給される。   The three branch pipes 37, 38, 39 included in the cutting device are provided with flow rate adjustment throttles 40, 41, 42 for adjusting the flow rate of the processing water supplied from the common pipe 19, respectively. For example, the processing water is supplied to the branch pipe 37 by the flow rate adjusting throttle 40. The flow control throttle 41 supplies 4 L / min of processed water to the branch pipe 38. The flow control throttle 42 supplies 2 L / min of processed water to the branch pipe 39.

分岐配管37は、更に切削水供給用ノズル5に接続される分岐配管37Aと冷却水供給用ノズル6に接続される分岐配管37Bとに分岐される。分岐配管38は、更に冷却水供給用ノズル6に接続される分岐配管38Aと切削水供給用ノズル5に接続される分岐配管38Bとに分岐される。分岐配管39は洗浄水供給用ノズル7に接続される。   The branch pipe 37 is further branched into a branch pipe 37A connected to the cutting water supply nozzle 5 and a branch pipe 37B connected to the cooling water supply nozzle 6. The branch pipe 38 is further branched into a branch pipe 38 </ b> A connected to the cooling water supply nozzle 6 and a branch pipe 38 </ b> B connected to the cutting water supply nozzle 5. The branch pipe 39 is connected to the cleaning water supply nozzle 7.

分岐配管37には電磁弁43が、分岐配管38には電磁弁44が、分岐配管39には電磁弁45が、それぞれ設けられる。電磁弁43は信号線46を介して制御部22に接続される。電磁弁44は信号線47を介して制御部22に接続される。電磁弁45は信号線48を介して制御部22に接続される。電磁弁43、44、45は、制御部22によってそれぞれ開閉を制御される。電磁弁43、44、45を開くことによって、加工水が各ノズルに供給される。   The branch pipe 37 is provided with an electromagnetic valve 43, the branch pipe 38 is provided with an electromagnetic valve 44, and the branch pipe 39 is provided with an electromagnetic valve 45. The electromagnetic valve 43 is connected to the control unit 22 via a signal line 46. The electromagnetic valve 44 is connected to the control unit 22 via a signal line 47. The electromagnetic valve 45 is connected to the control unit 22 via a signal line 48. The solenoid valves 43, 44, 45 are controlled to be opened and closed by the control unit 22. By opening the solenoid valves 43, 44, 45, the processing water is supplied to each nozzle.

切断用テーブル11は、信号線30を介して、制御部22に接続される。切断用テーブル11の移動速度Vは、制御部22によって制御される。スピンドル1は、信号線31を介して、制御部22に接続される。スピンドル1に設けられた回転刃3の回転数は、制御部22によって制御される。   The cutting table 11 is connected to the control unit 22 via the signal line 30. The moving speed V of the cutting table 11 is controlled by the control unit 22. The spindle 1 is connected to the control unit 22 via a signal line 31. The number of rotations of the rotary blade 3 provided on the spindle 1 is controlled by the control unit 22.

図3、図4を参照して、実施例2において封止済基板12を切断して個片化する工程を説明する。例えば、分岐配管37に供給する加工水を、流量調整絞り40によって8L/分に調整する。分岐配管38に供給する加工水を、流量調整絞り41によって4L/分に調整する。分岐配管39に供給する加工水を、流量調整絞り42によって2L/分に調整する。   With reference to FIG. 3, FIG. 4, the process of cut | disconnecting and separating the board | substrate 12 which has been sealed in Example 2 is demonstrated. For example, the processing water supplied to the branch pipe 37 is adjusted to 8 L / min by the flow rate adjusting throttle 40. The processing water supplied to the branch pipe 38 is adjusted to 4 L / min by the flow rate adjusting throttle 41. The processing water supplied to the branch pipe 39 is adjusted to 2 L / min by the flow rate adjusting throttle 42.

実施例1と同様に、第1の切断条件として、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を4L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を4L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を40mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する。   As in the first embodiment, as the first cutting condition, the flow rate of the cutting water 15 injected from the cutting water supply nozzle 5 is 4 L / min, and the flow rate of the cooling water 16 injected from the two cooling water supply nozzles 6 4 L / min, the flow rate of the cleaning water 17 sprayed from the two cleaning water supply nozzles 7 is 2 L / min, the feed speed of the cutting table 11 is 40 mm / sec, and the rotational speed of the rotary blade 3 is 30, Set to 000 rpm / min.

図3(b)に示された中間体36を個片化する際に使用される第2の切断条件として、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を2L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を2L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を20mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する。   As a second cutting condition used when the intermediate body 36 shown in FIG. 3B is singulated, the flow rate of the cutting water 15 sprayed from the cutting water supply nozzle 5 is 2 L / min. The flow rate of the cooling water 16 injected from the cooling water supply nozzle 6 is 2 L / min, the flow rate of the cleaning water 17 injected from the two cleaning water supply nozzles 7 is 2 L / min, and the feed speed of the cutting table 11 is 20 mm / sec and the rotation speed of the rotary blade 3 are set to 30,000 rpm / min.

第1の切断条件を使用して封止済基板12を切断する場合には、図4に示されるように、制御部22によって、分岐配管37の電磁弁43と分岐配管39の電磁弁45とを開き、分岐配管38の電磁弁44を閉じる。このことによって、分岐配管37から分岐配管37Aを経由して切削水供給用ノズル5に4L/分の加工水を供給する。分岐配管37から分岐配管37Bを経由して冷却水供給用ノズル6に4L/分の加工水を供給する。分岐配管39から洗浄水供給用ノズル7に2L/分の加工水を供給する。実施例1と同様に、第1の切断条件を使用して封止済基板12を切断して中間体36を形成する。   When the sealed substrate 12 is cut using the first cutting condition, as shown in FIG. 4, the control unit 22 causes the solenoid valve 43 of the branch pipe 37 and the solenoid valve 45 of the branch pipe 39 to And the solenoid valve 44 of the branch pipe 38 is closed. As a result, 4 L / min of processing water is supplied from the branch pipe 37 to the cutting water supply nozzle 5 via the branch pipe 37A. Process water is supplied from the branch pipe 37 to the cooling water supply nozzle 6 via the branch pipe 37B. 2 L / min of processing water is supplied from the branch pipe 39 to the cleaning water supply nozzle 7. Similarly to Example 1, the sealed substrate 12 is cut using the first cutting conditions to form the intermediate 36.

第2の切断条件を使用して中間体36を切断する場合には、図4に示されるように、制御部22によって、分岐配管38の電磁弁44と分岐配管39の電磁弁45とを開き、分岐配管37の電磁弁43を閉じる。このことによって、分岐配管38から分岐配管38Aを経由して冷却水供給用ノズル6に2L/分の加工水を供給する。分岐配管38から分岐配管38Bを経由して切削水供給用ノズル5に2L/分の加工水を供給する。分岐配管39から洗浄水供給用ノズル7に2L/分の加工水を供給する。実施例1と同様に、第2の切断条件を使用して中間体36を切断して個片化する。第1の切断条件及び第2の切断条件を使用して封止済基板12を切断して個片化することによって複数の製品Pを製造する。   When the intermediate body 36 is cut using the second cutting condition, the control valve 22 opens the solenoid valve 44 of the branch pipe 38 and the solenoid valve 45 of the branch pipe 39 as shown in FIG. The electromagnetic valve 43 of the branch pipe 37 is closed. Thus, 2 L / min of processing water is supplied from the branch pipe 38 to the cooling water supply nozzle 6 via the branch pipe 38A. Processing water is supplied from the branch pipe 38 to the cutting water supply nozzle 5 via the branch pipe 38B. 2 L / min of processing water is supplied from the branch pipe 39 to the cleaning water supply nozzle 7. Similar to Example 1, the intermediate 36 is cut into pieces using the second cutting conditions. A plurality of products P are manufactured by cutting and sealing the sealed substrate 12 using the first cutting condition and the second cutting condition.

本実施例によれば、まず、分岐配管37の電磁弁43を開き、分岐配管38の電磁弁44を閉じることによって、第1の切断条件を設定する。第1の切断条件を使用して、封止済基板12を切断して中間体36を形成する。次に、分岐配管38の電磁弁44を開き、分岐配管37の電磁弁43を閉じることによって、第2の切断条件を設定する。第2の切断条件を使用して、中間体36を切断して製品Pに個片化する。第1の切断条件に対して第2の切断条件を最適化して、封止済基板12を製品Pに個片化する。このことによって、製品Pが小さくなった場合でも、加工水の水圧によって製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。   According to the present embodiment, first, the first cutting condition is set by opening the electromagnetic valve 43 of the branch pipe 37 and closing the electromagnetic valve 44 of the branch pipe 38. Using the first cutting condition, the sealed substrate 12 is cut to form the intermediate 36. Next, the second cutting condition is set by opening the electromagnetic valve 44 of the branch pipe 38 and closing the electromagnetic valve 43 of the branch pipe 37. Using the second cutting conditions, the intermediate 36 is cut into pieces P. The second cutting condition is optimized with respect to the first cutting condition, and the sealed substrate 12 is separated into products P. Thereby, even when the product P becomes small, it is possible to prevent the product P from being displaced from a predetermined position of the cutting table 11 or flying due to the hydraulic pressure of the processing water.

また、本実施例によれば、第2の切断条件において、噴射する切削水15及び冷却水16の流量を、第1の切断条件に対して1/2に減らしている。このことによって、製品Pに個片化する際に使用する加工水の量を節約することができる。   Further, according to the present embodiment, the flow rates of the cutting water 15 and the cooling water 16 to be injected are reduced to ½ with respect to the first cutting condition in the second cutting condition. As a result, the amount of processing water used when the product P is separated into pieces can be saved.

図5を参照して、本発明に係る切断装置の実施例3を説明する。図5に示される切断装置49は、被切断物を複数の製品Pに個片化する。切断装置49は、受け入れユニットAと切断ユニットBと洗浄ユニットCと検査ユニットDと収容ユニットEとを、それぞれ構成要素(モジュール)として有する。   A third embodiment of the cutting device according to the present invention will be described with reference to FIG. The cutting device 49 shown in FIG. 5 divides a workpiece into a plurality of products P. The cutting device 49 includes a receiving unit A, a cutting unit B, a cleaning unit C, an inspection unit D, and a storage unit E as components (modules).

各構成要素(各ユニットA〜E)は、それぞれ他の構成要素に対して着脱可能かつ交換可能であり、それぞれが予想される要求仕様に応じた異なる複数の仕様を有するようにして予め用意される。各構成要素A〜Eを含んで切断装置49が構成される。   Each component (each unit A to E) is detachable and replaceable with respect to other components, and each component is prepared in advance so as to have a plurality of different specifications according to expected specifications. The A cutting device 49 is configured including the components A to E.

受け入れユニットAにはプレステージ50が設けられる。前工程の装置である樹脂封止装置から、被切断物に相当する封止済基板12がプレステージ50に受け入れられる。封止済基板12(例えば、BGA方式の封止済基板)は、基板13側の面を上にしてプレステージ50に配置される。   The receiving unit A is provided with a prestage 50. A pre-stage 50 receives a sealed substrate 12 corresponding to an object to be cut from a resin sealing device, which is a device in the previous process. The sealed substrate 12 (for example, a BGA-type sealed substrate) is disposed on the prestage 50 with the surface on the substrate 13 side up.

切断装置49は、ツインカットテーブル方式の切断装置である。したがって、切断ユニットBには、2個の切断用ステージ51A、51Bが設けられる。2個の切断用ステージ51A、51Bは、移動機構(図示なし)によって、それぞれ図のY方向に移動可能であり、かつ、θ方向に回動可能である。切断用ステージ51A、51Bの上には切断用テーブル11A、11Bが取り付けられる。切断ユニットBは、基板載置部52と基板切断部53と基板洗浄部54とから構成される。   The cutting device 49 is a twin-cut table type cutting device. Therefore, the cutting unit B is provided with two cutting stages 51A and 51B. The two cutting stages 51A and 51B can be moved in the Y direction in the drawing and can be rotated in the θ direction by a moving mechanism (not shown). Cutting tables 11A and 11B are mounted on the cutting stages 51A and 51B. The cutting unit B includes a substrate placing unit 52, a substrate cutting unit 53, and a substrate cleaning unit 54.

基板載置部52には、アライメント用のカメラ55が設けられる。カメラ55は、基板載置部52において独立してX方向に移動可能である。封止済基板12は、基板載置部52において、カメラ55によってアライメントマークが検出され、仮想的な第1の切断線32と第2の切断線33とが設定される(図3(a)参照)。   The substrate platform 52 is provided with an alignment camera 55. The camera 55 can move independently in the X direction in the substrate platform 52. In the substrate 12 that has been sealed, the alignment mark is detected by the camera 55 in the substrate mounting section 52, and the virtual first cutting line 32 and the second cutting line 33 are set (FIG. 3A). reference).

基板切断部53には、2個のスピンドル1A、1Bが設けられる。切断装置49は、ツインスピンドル構成の切断装置である。2個のスピンドル1A、1Bは、独立してX方向及びZ方向に移動可能である。2個のスピンドル1A、1Bには、切断手段としてそれぞれ回転刃3A、3Bが設けられる。これらの回転刃3A、3Bは、それぞれY方向とZ方向とを含む面内において回転することによって封止済基板12を切断する。   The substrate cutting unit 53 is provided with two spindles 1A and 1B. The cutting device 49 is a twin spindle configuration cutting device. The two spindles 1A and 1B can move independently in the X direction and the Z direction. The two spindles 1A and 1B are provided with rotary blades 3A and 3B, respectively, as cutting means. These rotary blades 3A and 3B cut the sealed substrate 12 by rotating in a plane including the Y direction and the Z direction, respectively.

各スピンドル1A、1Bには、高速回転する回転刃3A、3Bによって発生する摩擦熱を抑えるために切削水15を噴射する切削水供給用ノズル5A、5Bが設けられる。切削水15は回転刃3A、3Bが封止済基板12を切断する被加工点に向かって噴射される。スピンドル1A又は1Bには、回転刃3A又は3Bによって切断された切断溝(カーフ)の位置、幅、欠け(チッピング)の有無などを検査するためのカーフチェック用のカメラ(図示なし)が設けられる。カメラは、回転刃3A又は3Bが切断する切断線上を撮像するようにして設けられる。   Each spindle 1A, 1B is provided with cutting water supply nozzles 5A, 5B for injecting cutting water 15 to suppress frictional heat generated by the rotating blades 3A, 3B rotating at high speed. The cutting water 15 is sprayed toward the processing point where the rotary blades 3A and 3B cut the sealed substrate 12. The spindle 1A or 1B is provided with a kerf checking camera (not shown) for inspecting the position, width, chipping (chipping) of the cutting groove (kerf) cut by the rotary blade 3A or 3B. . The camera is provided so as to capture an image on a cutting line that the rotary blade 3A or 3B cuts.

基板洗浄部54においては、封止済基板12を切断して個片化された複数の製品Pからなる集合体56の基板13側の面(図1(b)参照)を洗浄する洗浄機構(図示なし)が設けられる。   In the substrate cleaning unit 54, a cleaning mechanism (see FIG. 1B) for cleaning the surface on the substrate 13 side of the assembly 56 composed of a plurality of products P cut into pieces by cutting the sealed substrate 12. (Not shown) is provided.

洗浄ユニットCには、個片化された各製品Pの封止樹脂14側の面(図1(b)参照)を洗浄する洗浄機構57が設けられる。洗浄機構57には、Y方向を軸にして回転可能であるようにして洗浄ローラ58が設けられる。封止樹脂14側の面を洗浄する洗浄機構58の上方には、複数の製品Pからなる集合体56が配置される。集合体56は、基板13側の面を搬送機構(図示なし)によって吸着されて固定されている。すなわち、封止樹脂14側の面を下にして搬送機構に固定されている。搬送機構はX方向及びZ方向に移動可能である。この搬送機構が下降してX方向に往復移動することによって、集合体56の封止樹脂14側の面が洗浄ローラ58により洗浄される。   The cleaning unit C is provided with a cleaning mechanism 57 that cleans the sealing resin 14 side surface of each product P (see FIG. 1B). The cleaning mechanism 57 is provided with a cleaning roller 58 so as to be rotatable about the Y direction. An assembly 56 composed of a plurality of products P is disposed above the cleaning mechanism 58 that cleans the surface on the sealing resin 14 side. The assembly 56 is fixed by adsorbing the surface on the substrate 13 side by a transport mechanism (not shown). That is, it is fixed to the transport mechanism with the surface on the sealing resin 14 side down. The transport mechanism is movable in the X direction and the Z direction. As the transport mechanism descends and reciprocates in the X direction, the surface on the sealing resin 14 side of the assembly 56 is cleaned by the cleaning roller 58.

検査ユニットDには検査用ステージ59が設けられる。封止済基板12を切断して個片化された複数の製品Pからなる集合体56は、検査用ステージ59に一括して移載される。検査用ステージ59はX方向に移動可能であり、かつ、Y方向を軸にして回転できるように構成される。個片化された複数の製品P(例えば、BGA製品)からなる集合体56は、封止樹脂14側の面及び基板13側の面を検査用のカメラ60によって検査されて、良品と不良品とに選別される。検査済みの製品Pからなる集合体56は、インデックステーブル61に移載される。検査ユニットDには、インデックステーブル61に配置された製品Pをトレイに移送するため複数の移送機構62が設けられる。   The inspection unit D is provided with an inspection stage 59. The assembly 56 composed of a plurality of products P cut into pieces by cutting the sealed substrate 12 is collectively transferred to the inspection stage 59. The inspection stage 59 is configured to be movable in the X direction and to be rotatable about the Y direction. The assembly 56 made up of a plurality of separated products P (for example, BGA products) is inspected by the inspection camera 60 on the surface on the sealing resin 14 side and the surface on the substrate 13 side, so that a non-defective product and a defective product are obtained. And sorted. The assembly 56 composed of the inspected products P is transferred to the index table 61. The inspection unit D is provided with a plurality of transfer mechanisms 62 for transferring the products P arranged on the index table 61 to the tray.

収容ユニットEには良品を収容する良品用トレイ63と不良品を収容する不良品用トレイ(図示なし)とが設けられる。移送機構62によって良品と不良品とに選別された製品Pが各トレイに収容される。図においては、良品用トレイ63を1個のみ示しているが、良品用トレイ63は複数個収容ユニットE内に設けられる。   The storage unit E is provided with a non-defective product tray 63 for storing non-defective products and a defective product tray (not shown) for storing defective products. The products P sorted into non-defective products and defective products by the transfer mechanism 62 are accommodated in each tray. Although only one good product tray 63 is shown in the figure, a plurality of good product trays 63 are provided in the storage unit E.

本実施例においては、切断装置49の動作や切断条件などを設定して制御する制御部22を受け入れユニットA内に設けた。これに限らず、制御部22を他のユニット内に設けてもよい。   In the present embodiment, the control unit 22 for setting and controlling the operation and cutting conditions of the cutting device 49 is provided in the receiving unit A. Not only this but the control part 22 may be provided in another unit.

また、本実施例においては、ツインカットテーブル方式、ツインスピンドル構成の切断装置49を説明した。これに限らず、シングルカットテーブル方式、ツインスピンドル構成の切断装置やツインカットテーブル方式、シングルスピンドル構成の切断装置などにおいても、本発明を適用できる。   In the present embodiment, the twin-cut table type and twin-spindle cutting device 49 has been described. The present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a single-cut table type, twin-spindle-type cutting device, twin-cut table type, single-spindle-type cutting device, or the like.

なお、各実施例においては、まず、短手方向に形成された第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断し、次に、長手方向に形成された第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断した。これに限らず、変形例として、第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断し、次に、第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断してもよい。   In each embodiment, first, the sealed substrate 12 is cut along the first cutting line 32 formed in the short direction, and then the second cutting line 33 formed in the longitudinal direction. The sealed substrate 12 was cut along Not limited to this, as a modification, the sealed substrate 12 may be cut along the second cutting line 33, and then the sealed substrate 12 may be cut along the first cutting line 32. .

別の変形例として、短手方向に形成された10本の第1の切断線32のうち一部の第1の切断線32に沿って、封止済基板12を複数のブロックに切断してもよい。例えば、両端を含む4本の第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断して、同じ大きさを有する3個の複数のブロックを生成する。引き続いて、各ブロックからなる中間体の全体を対象にして、第1の切断線32と第2の切断線33とに順次沿って(逆の順番でもよい)、中間体を切断する。最初に封止済基板12を複数のブロックに切断する方法は、封止済基板12における反りやうねり等の変形が大きい場合に有効である。いずれの変形例においても、ある切断線を切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する場合に、第2の切断条件を使用する。   As another modification, the sealed substrate 12 is cut into a plurality of blocks along a part of the first cutting lines 32 of the ten first cutting lines 32 formed in the short direction. Also good. For example, the sealed substrate 12 is cut along the four first cutting lines 32 including both ends, and three blocks having the same size are generated. Subsequently, the intermediate body is cut along the first cutting line 32 and the second cutting line 33 sequentially (or in reverse order) for the entire intermediate body made up of each block. The method of first cutting the sealed substrate 12 into a plurality of blocks is effective when the sealed substrate 12 is largely deformed such as warpage or undulation. In any of the modified examples, the second cutting condition is used when the product P corresponding to the segmented region 34 is completed by cutting a certain cutting line.

また、各実施例においては、切断手段として回転刃3を使用する場合を示した、これに限らず、切断手段として、回転刃3以外に、ワイヤソー、バンドソー、ウォータージェット、細い柱状に噴射された噴射水の中を進行するレーザ光などを使用してもよい。言い換えれば、被切断物を切断する際に被加工点又はその周辺に加工用の液体(加工液)を供給する態様を有する切断加工において、本発明を適用できる。   Moreover, in each Example, the case where the rotary blade 3 was used as a cutting | disconnection means was shown, It was not limited to this, As a cutting means, the wire saw, the band saw, the water jet, and the thin column shape were injected. You may use the laser beam etc. which advance in the jet water. In other words, the present invention can be applied to cutting processing having a mode in which a processing liquid (processing fluid) is supplied to a processing point or its periphery when a workpiece is cut.

また、各実施例においては、切削水15、冷却水16などを含む加工水として純水を使用する場合を示した。これに限らず、切削水15、冷却水16などを含む加工水としては、純水の他に、界面活性剤、防錆剤などの添加物を含む液体を使用できる。   Moreover, in each Example, the case where the pure water was used as processing water containing the cutting water 15, the cooling water 16, etc. was shown. Not only this but as processing water containing cutting water 15, cooling water 16, etc., the liquid containing additives, such as surfactant and a rust preventive agent other than pure water, can be used.

また、各実施例においては、被切断物として封止済基板12を切断する場合を示した。これに限らず、封止済基板12以外の被切断物として、次の被切断物を切断して個片化する場合に本発明を適用できる。第1に、シリコン、化合物半導体からなる半導体ウェーハを個片化する場合である。第2に、抵抗体、コンデンサ、センサ等の回路素子が作り込まれたセラミックス基板等を個片化してチップ抵抗、チップコンデンサ、チップ型のセンサ等の製品を製造する場合である。これら2つの場合には、半導体ウェーハ、セラミックス基板等が、複数の領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板に該当する。第3に、樹脂成形品を個片化して、レンズ、光学モジュール、導光板等の光学部品を製造する場合である。第4に、樹脂成形品を個片化して、一般的な成形製品を製造する場合である。上述した4つの場合を含む様々な場合において、ここまで説明した内容を適用できる。   Moreover, in each Example, the case where the sealed board | substrate 12 was cut | disconnected as a to-be-cut object was shown. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to the case where the next object to be cut is cut into individual pieces as objects other than the sealed substrate 12. First, a semiconductor wafer made of silicon or a compound semiconductor is singulated. Secondly, a product such as a chip resistor, a chip capacitor, or a chip-type sensor is manufactured by dividing a ceramic substrate or the like on which circuit elements such as a resistor, a capacitor, or a sensor are built. In these two cases, a semiconductor wafer, a ceramic substrate, or the like corresponds to a substrate on which circuit elements corresponding to a plurality of regions are formed. Third, the resin molded product is separated into individual pieces to produce optical components such as lenses, optical modules, and light guide plates. Fourth, it is a case where a general molded product is manufactured by dividing a resin molded product into individual pieces. The contents described so far can be applied to various cases including the above four cases.

また、各実施例においては、被切断物として、長手方向と短手方向とを持つ矩形の形状を有する被切断物を切断する場合を示した。これに限らず、正方形の形状を有する被切断物を切断する場合や、半導体ウェーハのような実質的に円形の形状を有する被切断物を切断する場合においても、ここまで説明した内容を適用できる。   Moreover, in each Example, the case where the to-be-cut object which has a rectangular shape with a longitudinal direction and a transversal direction as a to-be-cut object was cut | disconnected was shown. The present invention is not limited to this, and the contents described so far can also be applied when cutting a workpiece having a square shape or cutting a workpiece having a substantially circular shape such as a semiconductor wafer. .

加えて、切断線に曲線や折れ線を含む被切断物を切断する場合においても、ここまで説明した内容を適用できる。この場合には、個片化された各領域34に相当する製品Pは、ある種のメモリーカードのように外周に曲線や折れ線を含む不規則な外形を有する。   In addition, the contents described so far can also be applied to the case of cutting an object to be cut that includes a curve or a broken line in the cutting line. In this case, the product P corresponding to each divided region 34 has an irregular outer shape including a curve or a broken line on the outer periphery like a certain type of memory card.

本発明は、上述した各実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて、任意にかつ適宜に組み合わせ、変更し、又は選択して採用できるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be arbitrarily combined, modified, or selected and adopted as necessary within the scope not departing from the gist of the present invention. It is.

1、1A、1B スピンドル
2 回転軸
3、3A、3B 回転刃(切断手段)
4 回転刃用カバー
5、5A、5B 切削水供給用ノズル(切削水供給機構)
6 冷却水供給用ノズル(冷却水供給機構)
7 洗浄水供給用ノズル
8 切削水供給用配管
9 冷却水供給用配管
10 洗浄水供給用配管
11、11A、11B 切断用テーブル(テーブル)
12 封止済基板(被切断物)
13 基板
14 封止樹脂
15 切削水(切削水、加工水)
16 冷却水(加工水)
17 洗浄水(加工水)
18 工場の給水機構
19 共通配管
20 圧力調整器
21、21a、21b、21c 流量センサ(測定部)
22 制御部
23、27、28、29、30、31 信号線
24 流量コントローラ(流量調整手段)
25、26 流量コントローラ
32 第1の切断線(切断線)
33 第2の切断線(切断線)
34 領域(製品)
35 吸着孔
36 中間体
37、38、39 分岐配管
40、41、42 流量調整絞り
43 電磁弁(切替手段)
44、45 電磁弁
46、47、48 信号線
49 切断装置
50 プレステージ
51A、51B 切断用ステージ
52 基板載置部
53 基板切断部
54 基板洗浄部
55 アライメント用のカメラ
56 複数の製品Pからなる集合体
57 洗浄機構
58 洗浄ローラ
59 検査用ステージ
60 検査用のカメラ
61 インデックステーブル
62 移送機構
63 良品用トレイ
V 送り速度
R 回転数
A 受け入れユニット
B 切断ユニット
C 洗浄ユニット
D 検査ユニット
E 収容ユニット
P 製品
1, 1A, 1B Spindle 2 Rotating shaft 3, 3A, 3B Rotating blade (cutting means)
4 Rotating blade cover 5, 5A, 5B Cutting water supply nozzle (cutting water supply mechanism)
6 Cooling water supply nozzle (cooling water supply mechanism)
7 Cleaning Water Supply Nozzle 8 Cutting Water Supply Pipe 9 Cooling Water Supply Pipe 10 Cleaning Water Supply Pipe 11, 11A, 11B Cutting Table (Table)
12 Sealed substrate (object to be cut)
13 Substrate 14 Sealing resin 15 Cutting water (Cutting water, processing water)
16 Cooling water (processed water)
17 Washing water (processed water)
18 Factory water supply mechanism 19 Common piping 20 Pressure regulator 21, 21a, 21b, 21c Flow rate sensor (measurement unit)
22 control unit 23, 27, 28, 29, 30, 31 signal line 24 flow rate controller (flow rate adjusting means)
25, 26 Flow controller 32 First cutting line (cutting line)
33 Second cutting line (cutting line)
34 Area (Product)
35 Adsorption hole 36 Intermediate 37, 38, 39 Branch piping 40, 41, 42 Flow rate adjusting throttle 43 Solenoid valve (switching means)
44, 45 Solenoid valve 46, 47, 48 Signal line 49 Cutting device 50 Prestage 51A, 51B Cutting stage 52 Substrate placing part 53 Substrate cutting part 54 Substrate cleaning part 55 Camera for alignment 56 Assembly of a plurality of products P 57 Cleaning mechanism 58 Cleaning roller 59 Inspection stage 60 Inspection camera 61 Index table 62 Transfer mechanism 63 Non-defective tray V Feeding speed R Rotational speed A Receiving unit B Cutting unit C Cleaning unit D Inspection unit E Storage unit P Product

Claims (16)

複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物が載置されるテーブルと、前記被切断物を切断する切断手段と、前記テーブルと前記切断手段とを相対的に移動させる移動機構と、前記切断手段と前記被切断物とが接する被加工点に切削水を供給する切削水供給機構とを備え、前記被切断物を個片化して前記領域のそれぞれに対応する製品を製造する際に使用される切断装置であって、
前記被切断物を切断するための切断条件を制御する制御部を備え、
前記制御部は、複数の前記切断線の一部に沿って前記被切断物を切断することによって複数の前記領域を含む中間体を生成するための第1の切断条件と、前記中間体を切断することによって前記製品に個片化するための第2の切断条件とを少なくとも有し、
前記第2の切断条件における前記切削水の流量が前記第1の切断条件における前記切削水の流量よりも少ないことを特徴とする切断装置。
A table on which an object to be cut having a plurality of regions surrounded by a plurality of cutting lines is placed; a cutting means for cutting the object to be cut; and a moving mechanism for relatively moving the table and the cutting means. A cutting water supply mechanism that supplies cutting water to a processing point where the cutting means and the workpiece are in contact with each other, and divides the workpiece to produce a product corresponding to each of the regions Cutting device used for
A control unit for controlling cutting conditions for cutting the workpiece,
The control unit cuts the intermediate body with a first cutting condition for generating an intermediate body including a plurality of the regions by cutting the workpiece along a part of the plurality of cutting lines. And having at least a second cutting condition for singulation into the product,
The cutting device characterized in that the flow rate of the cutting water under the second cutting condition is smaller than the flow rate of the cutting water under the first cutting condition.
請求項1に記載された切断装置において、
前記第2の切断条件における前記テーブルと前記切断手段との間における相対的な移動速度が前記第1の切断条件における前記相対的な移動速度よりも小さいことを特徴とする切断装置。
The cutting device according to claim 1, wherein
The cutting apparatus characterized in that a relative moving speed between the table and the cutting means in the second cutting condition is smaller than the relative moving speed in the first cutting condition.
請求項1又は2に記載された切断装置において、
少なくとも前記切削水の流量が流量調整手段によって制御されることを特徴とする切断装置。
The cutting device according to claim 1 or 2,
A cutting apparatus characterized in that at least the flow rate of the cutting water is controlled by a flow rate adjusting means.
請求項1又は2に記載された切断装置において、
少なくとも前記切削水の流量が切替手段によって制御されることを特徴とする切断装置。
The cutting device according to claim 1 or 2,
A cutting apparatus characterized in that at least the flow rate of the cutting water is controlled by switching means.
請求項1〜4のいずれかに記載された切断装置において、
少なくとも前記切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する測定部を備え、
前記測定部によって測定された測定値に基づき前記第1の切断条件及び前記第2の切断条件における前記加工水の流量を制御することを特徴とする切断装置。
In the cutting device according to any one of claims 1 to 4,
A measuring unit that includes at least the cutting water and measures a flow rate of the processing water used for cutting;
A cutting apparatus that controls a flow rate of the processing water under the first cutting condition and the second cutting condition based on a measurement value measured by the measurement unit.
請求項1〜5のいずれかに記載された切断装置において、
前記切断手段の両側から前記切断手段の下方に向かって冷却水を供給する冷却水供給機構を備え、
前記第2の切断条件における前記冷却水の流量が前記第1の切断条件における前記冷却水の流量よりも少ないことを特徴とする切断装置。
In the cutting device according to any one of claims 1 to 5,
A cooling water supply mechanism for supplying cooling water from both sides of the cutting means toward the lower side of the cutting means;
The cutting device characterized in that the flow rate of the cooling water in the second cutting condition is smaller than the flow rate of the cooling water in the first cutting condition.
請求項1〜6のいずれかに記載された切断装置において、
前記被切断物は封止済基板であることを特徴とする切断装置。
In the cutting device according to any one of claims 1 to 6,
The cutting apparatus, wherein the object to be cut is a sealed substrate.
請求項1〜6のいずれかに記載された切断装置において、
前記被切断物は、複数の前記領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする切断装置。
In the cutting device according to any one of claims 1 to 6,
The cutting object is a substrate on which circuit elements respectively corresponding to the plurality of regions are formed.
複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物をテーブルに載置する工程と、前記テーブルと切断手段とを相対的に移動させる工程と、前記テーブルと前記切断手段とを相対的に移動させることによって前記切断手段を使用して前記被切断物を切断する工程と、前記切断手段と前記被切断物とが接する被加工点に切削水供給機構を使用して切削水を供給する工程とを備えた切断方法であって、
前記被切断物を切断するための切断条件を制御する工程を備え、
前記切断する工程は、複数の前記切断線の一部に沿って前記被切断物を切断することによって複数の前記領域を含む中間体を生成する第1の工程と、前記中間体を切断することによって前記製品に個片化するための第2の工程とを少なくとも有し、
前記制御する工程においては、前記第2の工程における前記切削水の流量を前記第1の工程における前記切削水の流量よりも少なくするように前記切削水供給機構を制御することを特徴とする切断方法。
Placing a workpiece having a plurality of regions surrounded by a plurality of cutting lines on a table; relatively moving the table and the cutting means; and relatively moving the table and the cutting means A step of cutting the workpiece using the cutting means by moving, and a step of supplying cutting water to a processing point where the cutting means and the workpiece are in contact with each other using a cutting water supply mechanism A cutting method comprising:
Comprising a step of controlling cutting conditions for cutting the workpiece,
The step of cutting includes a first step of generating an intermediate including a plurality of the regions by cutting the object to be cut along a part of the plurality of cutting lines, and cutting the intermediate And at least a second step for singulating the product,
In the controlling step, the cutting water supply mechanism is controlled so that the flow rate of the cutting water in the second step is smaller than the flow rate of the cutting water in the first step. Method.
請求項9に記載された切断方法において、
前記相対的に移動させる工程においては、前記第2の工程における前記テーブルと前記切断手段との間における相対的な移動速度を前記第1の工程における前記相対的な移動速度よりも小さくすることを特徴とする切断方法。
The cutting method according to claim 9, wherein
In the relatively moving step, the relative moving speed between the table and the cutting means in the second step is made smaller than the relative moving speed in the first step. Cutting method characterized.
請求項9又は10に記載された切断方法において、
前記制御する工程においては、流量調整手段を使用して少なくとも前記切削水の流量を制御することを特徴とする切断方法。
The cutting method according to claim 9 or 10,
In the controlling step, the flow rate adjusting means is used to control at least the flow rate of the cutting water.
請求項9又は10に記載された切断方法において、
前記制御する工程においては、切替手段を使用して少なくとも前記切削水の流量を制御することを特徴とする切断方法。
The cutting method according to claim 9 or 10,
In the controlling step, at least the flow rate of the cutting water is controlled using a switching means.
請求項9〜12のいずれかに記載された切断方法において、
少なくとも前記切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する工程を備え、
前記制御する工程においては、前記測定する工程において測定した測定値に基づき前記第1の工程及び前記第2の工程における前記加工水の流量を制御することを特徴とする切断方法。
In the cutting method according to any one of claims 9 to 12,
Comprising a step of measuring a flow rate of the processing water that contains at least the cutting water and is used for cutting,
In the controlling step, the flow rate of the processing water in the first step and the second step is controlled based on the measured value measured in the measuring step.
請求項9〜13のいずれかに記載された切断方法において、
前記切断手段の下方に向かって冷却水供給機構を使用して冷却水を供給する工程を備え、
前記制御する工程においては、前記第2の工程における前記冷却水の流量を前記第1の工程における前記冷却水の流量よりも少なくするように前記冷却水供給機構を制御することを特徴とする切断方法。
In the cutting method according to any one of claims 9 to 13,
Supplying cooling water using a cooling water supply mechanism toward the lower side of the cutting means,
In the step of controlling, the cooling water supply mechanism is controlled so that the flow rate of the cooling water in the second step is smaller than the flow rate of the cooling water in the first step. Method.
請求項9〜14のいずれかに記載された切断方法において、
前記被切断物は封止済基板であることを特徴とする切断方法。
In the cutting method in any one of Claims 9-14,
The cutting method, wherein the object to be cut is a sealed substrate.
請求項9〜14のいずれかに記載された切断方法において、
前記被切断物は、複数の前記領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする切断方法。
In the cutting method in any one of Claims 9-14,
The cutting method according to claim 1, wherein the object to be cut is a substrate on which circuit elements respectively corresponding to the plurality of regions are formed.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018058130A (en) * 2016-10-03 2018-04-12 Towa株式会社 Discoid rotary blade, cutting device, and manufacturing method for discoid rotary blade
JP2019087705A (en) * 2017-11-10 2019-06-06 株式会社ディスコ Cleaning nozzle
WO2023135862A1 (en) * 2022-01-11 2023-07-20 Towa株式会社 Cutting device, and method for manufacturing cut product
CN117381629A (en) * 2023-12-12 2024-01-12 泰州市江洲数控机床制造有限公司 Magnetic control type reciprocating sand wire cutting machine

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08102451A (en) * 1994-09-30 1996-04-16 Nec Corp Dicing device
JP2000349046A (en) * 1999-06-02 2000-12-15 Sharp Corp Method and device for dicing semiconductor wafer
JP2001196282A (en) * 2000-01-13 2001-07-19 Hitachi Ltd Semiconductor device and its manufacturing method
JP2002313753A (en) * 2001-04-19 2002-10-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd Cutting water supply controller for dicing device
JP2014108491A (en) * 2012-12-03 2014-06-12 Towa Corp Cutting apparatus and method for manufacturing electronic component

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2893641B2 (en) * 1993-12-16 1999-05-24 株式会社東京精密 Dicing equipment
JP3608152B2 (en) * 2000-05-26 2005-01-05 ホーコス株式会社 Automatic cutting fluid supply device
JP2002075919A (en) * 2000-08-30 2002-03-15 Sharp Corp Dicing method of semiconductor wafer
JP4796271B2 (en) * 2003-07-10 2011-10-19 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Manufacturing method of semiconductor device
JP2006231474A (en) * 2005-02-25 2006-09-07 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP4777072B2 (en) * 2006-01-11 2011-09-21 株式会社東京精密 Dicing machine
JP2007329263A (en) * 2006-06-07 2007-12-20 Disco Abrasive Syst Ltd Wafer cutting method
JP5511154B2 (en) * 2008-06-13 2014-06-04 Towa株式会社 Separation apparatus and method for manufacturing electronic parts
KR20100082550A (en) * 2009-01-09 2010-07-19 (주)캠시스 Water jet singulation apparatus and water jet cutting method of the same
JP5757806B2 (en) * 2011-06-30 2015-08-05 株式会社ディスコ Workpiece cutting method
JP5291178B2 (en) * 2011-12-26 2013-09-18 株式会社ディスコ Cutting equipment

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08102451A (en) * 1994-09-30 1996-04-16 Nec Corp Dicing device
JP2000349046A (en) * 1999-06-02 2000-12-15 Sharp Corp Method and device for dicing semiconductor wafer
JP2001196282A (en) * 2000-01-13 2001-07-19 Hitachi Ltd Semiconductor device and its manufacturing method
JP2002313753A (en) * 2001-04-19 2002-10-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd Cutting water supply controller for dicing device
JP2014108491A (en) * 2012-12-03 2014-06-12 Towa Corp Cutting apparatus and method for manufacturing electronic component

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018058130A (en) * 2016-10-03 2018-04-12 Towa株式会社 Discoid rotary blade, cutting device, and manufacturing method for discoid rotary blade
JP2019087705A (en) * 2017-11-10 2019-06-06 株式会社ディスコ Cleaning nozzle
TWI770308B (en) * 2017-11-10 2022-07-11 日商迪思科股份有限公司 cleaning nozzle
WO2023135862A1 (en) * 2022-01-11 2023-07-20 Towa株式会社 Cutting device, and method for manufacturing cut product
CN117381629A (en) * 2023-12-12 2024-01-12 泰州市江洲数控机床制造有限公司 Magnetic control type reciprocating sand wire cutting machine
CN117381629B (en) * 2023-12-12 2024-02-06 泰州市江洲数控机床制造有限公司 Magnetic control type reciprocating sand wire cutting machine

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