JP2014108491A - Cutting apparatus and method for manufacturing electronic component - Google Patents
Cutting apparatus and method for manufacturing electronic component Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014108491A JP2014108491A JP2012264409A JP2012264409A JP2014108491A JP 2014108491 A JP2014108491 A JP 2014108491A JP 2012264409 A JP2012264409 A JP 2012264409A JP 2012264409 A JP2012264409 A JP 2012264409A JP 2014108491 A JP2014108491 A JP 2014108491A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotary blade
- cutting
- stage
- resin
- cut
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 155
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 42
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 202
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 202
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 199
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 112
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 26
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Abstract
Description
本発明は、基板と複数のチップ状部品と封止樹脂とを有する樹脂封止体を切断して複数の電子部品を製造する際に使用される、電子部品製造用の切断装置及び切断方法に関するものである。 The present invention relates to a cutting apparatus and a cutting method for manufacturing an electronic component used when a plurality of electronic components are manufactured by cutting a resin sealing body having a substrate, a plurality of chip-shaped components, and a sealing resin. Is.
電子部品を製造する際に、回転刃(ブレード)を使用して樹脂封止体を切断することによって複数の電子部品に個片化すること(singulation )が、広く実施されている(例えば、特許文献1参照)。切断対象物である樹脂封止体は、基板と、基板が有する複数の領域に装着された複数のチップ状部品と、複数の領域が一括して覆われるようにして平板状に形成された封止樹脂とを有する。言い換えれば、樹脂封止体は、複数のチップ状部品が装着された基板と封止樹脂とが積層した複合材料である。 When manufacturing an electronic component, it is widely practiced to singulation into a plurality of electronic components by cutting a resin sealing body using a rotary blade (blade) (for example, patents) Reference 1). The resin sealing body, which is an object to be cut, includes a substrate, a plurality of chip-like components mounted in a plurality of regions of the substrate, and a sealing plate formed in a flat plate shape so that the plurality of regions are collectively covered. A stop resin. In other words, the resin sealing body is a composite material in which a substrate on which a plurality of chip-shaped components are mounted and a sealing resin are laminated.
基板には、銅や鉄系合金等からなるリードフレーム、ガラスエポキシ積層板、銅張りポリイミドフィルムの積層板等を基材とするプリント基板(プリント配線板)が含まれる。更に、基板には、アルミナ、炭化珪素、サファイア等を基材とするセラミックス基板、銅やアルミニウム等の金属を基材とする金属ベース基板、ポリイミドフィルム等を基材とするフィルムベース基板等が含まれる。チップ状部品には、それぞれチップ状の半導体集積回路(semiconductor integrated circuit ;ICと略称する)、光半導体素子、トランジスタ、ダイオード、抵抗、コンデンサ、サーミスタ等が含まれる。基板における1個の領域には1個のチップ状部品が装着されていてもよく、複数個のチップ状部品が装着されていてもよい。1個の領域に装着された複数個のチップ状部品は、同種であってもよく、異種であってもよい。封止樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂が硬化して形成された硬化樹脂が使用される。 The substrate includes a printed circuit board (printed wiring board) based on a lead frame made of copper, an iron-based alloy, or the like, a glass epoxy laminated board, a laminated board of a copper-clad polyimide film, or the like. Furthermore, the substrates include ceramic substrates based on alumina, silicon carbide, sapphire, etc., metal base substrates based on metals such as copper and aluminum, film base substrates based on polyimide films, etc. It is. Each chip-shaped component includes a chip-shaped semiconductor integrated circuit (abbreviated as IC), an optical semiconductor element, a transistor, a diode, a resistor, a capacitor, a thermistor, and the like. One chip-shaped component may be mounted on one area of the substrate, or a plurality of chip-shaped components may be mounted. The plurality of chip-like components mounted on one region may be the same type or different types. As the sealing resin, for example, a cured resin formed by curing a thermosetting resin such as an epoxy resin or a silicone resin is used.
近年、基板の材料及び封止樹脂の材料が多様化してきた。このことに起因して、1枚の回転刃を使用して樹脂封止体を一括して切断する場合には、次の問題が発生するおそれがある。第1の問題は、切断された部分の端面(被切断面)において、基板(基板に含まれる銅箔等の金属箔を含む)又は封止樹脂からなるばりが発生することである(例えば、特許文献2の段落[0011]〜[0012]、特許文献3の段落[0012]参照)。第2の問題は、被切断面の近傍においてチッピング(欠け)が発生することである(例えば、特許文献3の段落[0090]参照)。
In recent years, substrate materials and sealing resin materials have been diversified. Due to this, when the resin sealing body is cut at once using one rotary blade, the following problems may occur. The first problem is that a flash made of a substrate (including a metal foil such as a copper foil contained in the substrate) or a sealing resin occurs on the end surface (surface to be cut) of the cut portion (for example, (See paragraphs [0011] to [0012] of
図1は、回転刃を使用して樹脂封止体を切断する従来の方法を示す概略断面図である。なお、本出願書類におけるいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素には同一の符号を付して、説明を適宜省略する。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a conventional method of cutting a resin sealing body using a rotary blade. In addition, in order to make it easy to understand, all drawings in the present application document are schematically omitted and exaggerated as appropriate. The same components are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
図1に示されているように、樹脂封止体1は、切削されて最終的に切断される切断対象物である。樹脂封止体1は、基板2と、基板2が有する複数の領域3に装着された複数のチップ状部品(図示なし)と、複数の領域3が一括して覆われるようにして平板状に形成された封止樹脂4とを有する。基板2が有する複数の領域3は仮想的な境界線5によって矩形状に区切られている。図1に示された例においては、基板2は銅からなるリードフレームである。基板2は、樹脂封止体1が切断されて形成された複数の電子部品において外部に対して電気的に接続されるための外部電極として機能する電極部6を有する。
As shown in FIG. 1, the resin sealing
樹脂封止体1は、封止樹脂4が下側になるようにして、粘着テープ7によってステージ8の上面に固定されている。ステージ8は、駆動機構(図示なし)によって図のX方向、Y方向、及び、Z方向に沿って移動する。図1においては、ステージ8が+X方向に移動速度(送り速度)vで移動している。回転刃9は、例えば、電動式のスピンドル(図示なし)が有する回転軸10に取り付けられている。回転刃9の表面には、例えば、切断対象物を切削するためのダイヤモンド粒子からなる砥粒が露出している。回転刃9と樹脂封止体1とが接触する部分(接触部)の近傍にはノズル11が設けられている。回転刃9が樹脂封止体1を切削する工程においては、ノズル11から接触部に向かって切削水12が吐出される。切削水12としては、純水の他に、純水に添加剤を加えた液体、純水に二酸化炭素(CO2)のガスを溶け込ませた液体等が使用される。
The resin sealing
チッピングの発生とばりの発生とについて図1を参照して説明する。図1に示された例においては次の問題が発生するおそれがある。第1の問題は、回転刃9が封止樹脂4(最下層)の内側から封止樹脂4の表面( surface:図では下面)を突き抜けてその表面の外側の空間に向かって回転する場所において、チッピングが発生するという問題である。回転刃9と封止樹脂4との接点において、接線方向の分力f1と接線に対する垂直方向の分力f2とが合成されたf3が、その接点に作用する力に相当する。接点に作用する力f3は封止樹脂4の表面に対して斜め下向きに作用する。このことに基づいて、この接点の封止樹脂4の表面は、その表面が接している粘着テープ7に向かう力である斜め下向きの力f3を受ける。したがって、この接点の封止樹脂4の表面においてチッピングが発生しやすい。
The occurrence of chipping and the occurrence of flash will be described with reference to FIG. The following problem may occur in the example shown in FIG. The first problem is where the
第2の問題は、回転刃9と銅からなる基板2(最上層)が有する電極部6とが接触する部分において電極部6にばりが発生するという問題である。図1に示されているように、回転刃9と電極部6とが短い距離において接触する。このことに起因して回転刃9の表面温度が上昇するので、電極部6の銅と回転刃9の表面のダイヤモンド粒子とが溶着しやすい。このことにより、ダイヤモンド粒子が切断対象物を切削する機能が低下するので、電極部6にばりが発生しやすいと考えられる。一方、電極部6におけるばりの発生を抑制するためには、ステージ8がX方向に移動する送り速度vを低減する必要がある。このことは、作業効率の低下という別の問題を引き起こす。
The second problem is that a flash is generated in the
これらの問題を解決するために、第1の方式として、樹脂封止体を主として構成する2種類の材料に応じた2枚の切断刃を使用する方式が提案されている(例えば、特許文献2の段落[0028]〜[0039]、図3〜5等を参照)。第2の方式として、樹脂封止体を構成する複数の異なった材料に対応した複数の異なった特性の材料からなる1枚のブレードを使用する方式が提案されている(例えば、特許文献3の段落[0037]〜[0054]、図3〜6を参照)。 In order to solve these problems, as a first method, a method using two cutting blades corresponding to two kinds of materials mainly constituting the resin sealing body has been proposed (for example, Patent Document 2). Paragraphs [0028] to [0039] and FIGS. 3 to 5). As a second method, a method using one blade made of a plurality of materials having different characteristics corresponding to a plurality of different materials constituting the resin sealing body has been proposed (for example, Patent Document 3). Paragraphs [0037] to [0054], see FIGS.
しかしながら、第1の方式によれば、2枚の切断刃を使用すること、切断装置の構成が複雑になること、及び、2枚の切断刃の制御が複雑になること、という好ましくない問題が発生する。第2の方式によれば、1枚のブレードの構成が複雑になること、及び、樹脂封止体を構成する異なった複数の材料の組合せに応じた複数の種類のブレードを準備する必要があること、という好ましくない問題が発生する。 However, according to the first method, there are undesirable problems such as using two cutting blades, complicating the configuration of the cutting device, and complicating the control of the two cutting blades. Occur. According to the second method, the configuration of one blade is complicated, and it is necessary to prepare a plurality of types of blades corresponding to a combination of a plurality of different materials constituting the resin sealing body. This is an undesirable problem.
上述した問題に鑑み、本発明は、単純な構成を有する1枚の回転刃を使用して樹脂封止体を一括して切断する場合にチッピングの発生とばりの発生とを抑制する、電子部品製造用の切断装置及び切断方法を提供することを目的とする。 In view of the above-described problems, the present invention is an electronic component that suppresses the occurrence of chipping and flash when a resin sealing body is cut at once using a single rotary blade having a simple configuration. It is an object of the present invention to provide a cutting device and a cutting method for manufacturing.
上述した課題を解決するために、本発明に係る電子部品製造用の切断装置は、複数の領域を有する基板と該複数の領域にそれぞれ装着された複数のチップ状部品と封止樹脂とを有する樹脂封止体を複数の領域の境界線に沿って切断して複数の電子部品を製造する際に使用され、樹脂封止体が固定されるステージと、回転軸を有するスピンドルと、回転軸に固定された回転刃と、ステージとスピンドルとを相対的に移動させる駆動機構と、駆動機構による移動と回転軸の回転とを少なくとも制御する制御部とを備える電子部品製造用の切断装置であって、回転刃と樹脂封止体とが接触する部分に切削水を吐出するノズルを備え、制御部は次の動作が実行されるように制御することを特徴とする。
(1)基板と封止樹脂とのうち一方からなる最下層がステージに固定された状態において、基板と封止樹脂とのうち他方からなる最上層を回転刃が境界線に重なって切削することができる第1の位置に回転刃がつくまで、ステージとスピンドルとを相対的に移動させる。
(2)回転刃が第1の位置についた状態において、回転刃の外周部が最上層の表面から内側に向かって切り進むことができる一方向に回転刃を回転させる。
(3)回転刃において最上層に接触することができる第1の接触部に向かってノズルから切削水を吐出する。
(4)動作 (2)及び (3)の後に、ステージとスピンドルとを第1の方向に相対的に移動させて回転刃が最上層を切削する。
(5)最上層が切削された後に、最下層を回転刃が境界線に重なって切削することができ、かつ、回転刃の外周部が最下層の表面から内側に向かって切り進むことができる第2の位置に回転刃がつくまで、ステージとスピンドルとを相対的に移動させる。
(6)回転刃において最下層に接触することができる第2の接触部に向かってノズルから切削水を吐出する。
(7)動作 (5)及び (6)の後に、ステージとスピンドルとを第1の方向とは逆の第2の方向に相対的に移動させて回転刃が最下層を切削することによって、樹脂封止体を切断する。
In order to solve the above-described problem, a cutting apparatus for manufacturing an electronic component according to the present invention includes a substrate having a plurality of regions, a plurality of chip-like components respectively mounted in the plurality of regions, and a sealing resin. Used when manufacturing a plurality of electronic components by cutting a resin sealing body along a boundary line of a plurality of regions, a stage on which the resin sealing body is fixed, a spindle having a rotation shaft, and a rotation shaft A cutting apparatus for manufacturing an electronic component, comprising: a fixed rotary blade; a drive mechanism that relatively moves a stage and a spindle; and a control unit that at least controls movement by the drive mechanism and rotation of a rotary shaft. A nozzle that discharges cutting water is provided at a portion where the rotary blade and the resin sealing body are in contact with each other, and the control unit performs control so that the following operation is performed.
(1) In the state where the lowermost layer consisting of one of the substrate and the sealing resin is fixed to the stage, the uppermost layer consisting of the other of the substrate and the sealing resin is cut with the rotary blade overlapping the boundary line. The stage and the spindle are moved relative to each other until the rotary blade comes to the first position where the rotation is possible.
(2) In a state where the rotary blade is in the first position, the rotary blade is rotated in one direction in which the outer peripheral portion of the rotary blade can be cut inward from the surface of the uppermost layer.
(3) The cutting water is discharged from the nozzle toward the first contact portion that can contact the uppermost layer in the rotary blade.
(4) After the operations (2) and (3), the rotary blade cuts the uppermost layer by relatively moving the stage and the spindle in the first direction.
(5) After the uppermost layer is cut, the lowermost layer can be cut with the rotary blade overlapping the boundary line, and the outer periphery of the rotary blade can be cut inward from the surface of the lowermost layer The stage and the spindle are relatively moved until the rotary blade comes to the second position.
(6) The cutting water is discharged from the nozzle toward the second contact portion that can contact the lowermost layer in the rotary blade.
(7) After the operations (5) and (6), the rotary blade cuts the lowermost layer by relatively moving the stage and the spindle in the second direction opposite to the first direction, so that the resin is removed. Cut the sealing body.
また、本発明に係る電子部品製造用の切断装置は、上述の切断装置において、回転刃が有する1つの面の側においてノズルが単数個設けられ、第1の接触部と第2の接触部とに向かってノズルが同時に切削水を吐出することを特徴とする。 Moreover, the cutting device for manufacturing an electronic component according to the present invention is the above-described cutting device, wherein a single nozzle is provided on one surface side of the rotary blade, and the first contact portion and the second contact portion are provided. The nozzle discharges cutting water at the same time.
また、本発明に係る電子部品製造用の切断装置は、上述の切断装置において、回転刃が有する1つの面の側においてノズルが単数個設けられ、第1の接触部の近傍と第2の接触部の近傍とにノズルが移動することを特徴とする。 The cutting apparatus for manufacturing an electronic component according to the present invention is the above-described cutting apparatus, wherein a single nozzle is provided on one surface side of the rotary blade, and the vicinity of the first contact portion and the second contact are provided. The nozzle moves to the vicinity of the part.
また、本発明に係る電子部品製造用の切断装置は、上述の切断装置において、回転刃が有する1つの面の側においてノズルが複数個設けられ、複数個のノズルのうち一部分のノズルが第1の接触部に向かって切削水を吐出し、複数個のノズルのうち他のノズルが第2の接触部に向かって切削水を吐出することを特徴とする。 The cutting device for manufacturing an electronic component according to the present invention is the above-described cutting device, wherein a plurality of nozzles are provided on one surface side of the rotary blade, and a part of the plurality of nozzles is the first. The cutting water is discharged toward the contact portion, and the other nozzles of the plurality of nozzles discharge the cutting water toward the second contact portion.
また、本発明に係る電子部品製造用の切断装置は、上述の切断装置において、樹脂封止体は中間層を有し、制御部は次の3つの動作のうちいずれか1つの動作が実行されるように制御することを特徴とする。
(1)回転刃が、最上層と中間層とを第1の方向に沿って切削した後に、最下層を第2の方向に沿って切削する。
(2)回転刃が、最上層を第1の方向に沿って切削した後に、中間層と最下層とを第2の方向に沿って切削する。
(3)回転刃が、最上層と中間層とを第1の方向に沿って切削した後に、中間層と最下層とを第2の方向に沿って切削する。
Further, in the cutting device for manufacturing an electronic component according to the present invention, in the above-described cutting device, the resin sealing body has an intermediate layer, and the control unit executes any one of the following three operations. It is characterized by controlling so that.
(1) The rotary blade cuts the lowermost layer along the second direction after cutting the uppermost layer and the intermediate layer along the first direction.
(2) After the rotary blade cuts the uppermost layer along the first direction, the intermediate layer and the lowermost layer cut along the second direction.
(3) The rotary blade cuts the uppermost layer and the intermediate layer along the first direction, and then cuts the intermediate layer and the lowermost layer along the second direction.
上述した課題を解決するために、本発明に係る電子部品製造用の切断方法は、複数の領域を有する基板と該複数の領域にそれぞれ装着された複数のチップ状部品と封止樹脂とを有する樹脂封止体を複数の領域の境界線に沿って切断して複数の電子部品を製造する電子部品製造用の切断方法であって、基板と封止樹脂とのうち一方からなる最下層をステージに固定する工程と、基板と封止樹脂とのうち他方からなる最上層を回転刃が境界線に重なって切削することができる第1の位置に回転刃がつくまで、ステージとスピンドルとを相対的に移動させる工程と、回転刃が第1の位置についた状態において、回転刃の外周部が最上層の表面から内側に向かって切り進むことができる一方向に回転刃を回転させる工程と、回転刃において最上層に接触することができる第1の接触部に向かって切削水を吐出する工程と、ステージとスピンドルとを第1の方向に相対的に移動させて回転刃が最上層を切削する工程と、最上層を切削した後に、最下層を回転刃が境界線に重なって切削することができ、かつ、回転刃の外周部が最下層の表面から内側に向かって切り進むことができる第2の位置に回転刃がつくまで、ステージとスピンドルとを相対的に移動させる工程と、回転刃において最下層に接触することができる第2の接触部に向かって切削水を吐出する工程と、ステージとスピンドルとを第1の方向とは逆の第2の方向に相対的に移動させて回転刃が最下層を切削することによって、樹脂封止体を切断する工程とを備えることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, a cutting method for manufacturing an electronic component according to the present invention includes a substrate having a plurality of regions, a plurality of chip-like components mounted on the plurality of regions, and a sealing resin. A cutting method for manufacturing an electronic component in which a resin sealing body is cut along a boundary line of a plurality of regions to manufacture a plurality of electronic components, wherein a lowermost layer made of one of a substrate and a sealing resin is staged The stage and the spindle until the rotary blade comes to the first position where the rotary blade overlaps the boundary line and cuts the uppermost layer made of the other of the substrate and the sealing resin. And rotating the rotary blade in one direction in which the outer peripheral portion of the rotary blade can be cut inward from the surface of the uppermost layer in a state where the rotary blade is in the first position, In contact with the top layer of the rotary blade A step of discharging cutting water toward the first contact portion that can be performed, a step of moving the stage and the spindle relative to each other in the first direction and the rotary blade cutting the uppermost layer, and the uppermost layer After cutting, the rotary blade is moved to the second position where the rotary blade can be cut with the rotary blade overlapping the boundary line, and the outer periphery of the rotary blade can be cut inward from the surface of the lowest layer The stage and the spindle are moved relative to each other, the cutting water is discharged toward the second contact portion that can contact the lowermost layer of the rotary blade, and the stage and the spindle are And a step of cutting the resin sealing body by moving the lower blade relative to the second direction opposite to the first direction and cutting the lowermost layer by the rotary blade.
また、本発明に係る電子部品製造用の切断方法は、上述の切断方法において、切削水を吐出する工程では、回転刃が有する1つの面の側において固定して設けられた単数個のノズルから切削水を吐出することを特徴とする。 Moreover, the cutting method for manufacturing an electronic component according to the present invention is the above-described cutting method, in the step of discharging cutting water, from a single nozzle fixedly provided on one surface side of the rotary blade. It is characterized by discharging cutting water.
また、本発明に係る電子部品製造用の切断方法は、上述の切断方法において、切削水を吐出する工程では、回転刃が有する1つの面の側において移動可能に設けられた単数個のノズルから切削水を吐出するとともに、単数個のノズルを移動させる工程を備えることを特徴とする。 Moreover, the cutting method for manufacturing an electronic component according to the present invention is the above-described cutting method, in the step of discharging cutting water, from a single nozzle provided movably on one surface side of the rotary blade. A step of discharging cutting water and moving a single nozzle is provided.
また、本発明に係る電子部品製造用の切断方法は、上述の切断方法において、第1の接触部に向かって切削水を吐出する工程では、回転刃が有する1つの面の側において設けられた複数個のノズルのうち一部分のノズルが切削水を吐出し、第2の接触部に向かって切削水を吐出する工程では、複数個のノズルのうち他のノズルが切削水を吐出することを特徴とする。 Moreover, the cutting method for manufacturing an electronic component according to the present invention is provided on the one surface side of the rotary blade in the above-described cutting method, in the step of discharging cutting water toward the first contact portion. Among the plurality of nozzles, a part of the nozzles discharges cutting water, and in the step of discharging cutting water toward the second contact portion, the other nozzles of the plurality of nozzles discharge cutting water. And
また、本発明に係る電子部品製造用の切断方法は、上述の切断方法において、樹脂封止体は中間層を有し、最上層を切削する工程において中間層を切削すること、又は、樹脂封止体を切断する工程において中間層を切削することのうち少なくともいずれか1つを実行することを特徴とする。 Further, in the cutting method for manufacturing an electronic component according to the present invention, in the cutting method described above, the resin sealing body has an intermediate layer, and the intermediate layer is cut in the step of cutting the uppermost layer, or the resin sealing is performed. In the step of cutting the stationary body, at least one of cutting the intermediate layer is performed.
本発明によれば、回転刃の外周部が最上層の表面から内側に向かって切り進むことができる一方向に回転刃を回転させる状態において、ステージとスピンドルとを第1の方向に相対的に移動させて回転刃が最上層を切削する。続いて、回転刃の外周部が最下層の表面から内側に向かって切り進む状態において、ステージとスピンドルとを第1の方向とは逆の第2の方向に相対的に移動させて回転刃が最下層を切削することによって、樹脂封止体を切断する。したがって、回転刃が最下層の内側から最下層の表面を突き抜けてその表面の外側に向かって回転することに起因するチッピングの発生を抑制することができる。 According to the present invention, when the rotary blade is rotated in one direction in which the outer peripheral portion of the rotary blade can be cut inward from the surface of the uppermost layer, the stage and the spindle are relatively moved in the first direction. Move the rotary blade to cut the top layer. Subsequently, in a state in which the outer peripheral portion of the rotary blade advances inward from the surface of the lowermost layer, the rotary blade is moved by relatively moving the stage and the spindle in the second direction opposite to the first direction. The resin sealing body is cut by cutting the bottom layer. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of chipping due to the rotating blade penetrating from the inner side of the lowermost layer through the surface of the lowermost layer and rotating toward the outer side of the surface.
本発明によれば、従来技術に比べて回転刃と基板とが接触する距離を長くすることができる。したがって、回転刃と基板とが短い距離において接触することに起因するばりの発生を抑制することができる。 According to the present invention, the distance between the rotary blade and the substrate can be increased as compared with the prior art. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of flash caused by the contact between the rotary blade and the substrate at a short distance.
回転刃の外周部が最上層の表面から内側に向かって切り進むことができる一方向に回転刃を回転させる状態において、ステージとスピンドルとを第1の方向に相対的に移動させて回転刃が最上層を切削する。続いて、回転刃の外周部が最下層の表面から内側に向かって切り進む状態において、ステージとスピンドルとを第1の方向とは逆の第2の方向に相対的に移動させて回転刃が最下層を切削する。これらによって樹脂封止体を切断する。 When the rotary blade is rotated in one direction in which the outer peripheral portion of the rotary blade can be cut inward from the surface of the uppermost layer, the rotary blade is moved relative to the first direction by moving the stage and the spindle relative to each other. Cut the top layer. Subsequently, in a state in which the outer peripheral portion of the rotary blade advances inward from the surface of the lowermost layer, the rotary blade is moved by relatively moving the stage and the spindle in the second direction opposite to the first direction. Cut the bottom layer. The resin sealing body is cut by these.
[実施例1]
図2を参照して、本発明の実施例1に係る電子部品製造用の切断方法を説明する。本実施例によれば、切断対象物であって2層構造を有する樹脂封止体1を2段階に分けて切断する。制御部CTLは、少なくとも、回転刃9の回転方向及び回転数と、ステージとスピンドルとの相対的な移動方向及び移動速度とを制御する、制御手段である。
[Example 1]
With reference to FIG. 2, the cutting method for electronic component manufacture which concerns on Example 1 of this invention is demonstrated. According to the present embodiment, the
図2(1)に示すように、本実施例では、第1の段階として樹脂封止体1のうち基板2(本実施例では最上層)を切削する。「切削する」という文言は、「厚さ方向の一部分を切削する」こと、及び、「全ての厚さを切削する」ことの双方を意味する(以下同じ。)。「基板2の全ての厚さを切削する」場合は次の2つの態様を含む。第1の態様は、既に切削された部分において、基板2が厚さ方向に完全には切削されずに残った薄い部分が封止樹脂4の上に存在するという態様である。第2の態様は、既に切削された部分において、封止樹脂4が切削されて形成された浅い溝が封止樹脂4の上部に存在するという態様である。これらの態様は、回転軸10のZ方向における位置のばらつき等に起因して発生する。
As shown in FIG. 2A, in the present embodiment, the substrate 2 (the uppermost layer in the present embodiment) of the
まず、樹脂封止体1のうち封止樹脂4が下側になるようにして、粘着テープ7によってステージ8の上面に樹脂封止体1を固定する。これにより、樹脂封止体1は、封止樹脂4が下側で基板2が上側になるようにしてステージ8の上面に固定される。
First, the
次に、樹脂封止体1から離れた右側にスピンドルが位置するように、X方向に沿ってステージ8を移動させて停止させる。回転刃9を、所定の回転方向(図においては反時計回りの方向)に所定の回転数(例えば、15000〜30000rpm)で回転させる。ここでは、回転数を20000rpmにする。
Next, the
次に、ステージ8を+Z方向に移動させて、回転刃9の外周の下端を所定の位置(Z方向)に到達させた時点で+Z方向の移動を停止させる。所定の位置としては、樹脂封止体1における基板2と封止樹脂4との境界の位置を目標にする。
Next, the
次に、ノズル11から、回転刃9において樹脂封止体1に接触することになる部分に向かって切削水12を吐出する。この状態で+X方向に移動速度(送り速度)vでステージ8を移動させて、回転刃9と基板2とを接触させる。引き続いてステージ8を移動させることによって、回転刃9が基板2を切削する。この切削が、切断する工程における第1の段階に相当する。以下、第1の段階において回転刃9と樹脂封止体1とが接触する部分を第1の接触部と呼ぶことにする。なお、ノズル11としては、図2に示されている回転刃9の手前側のノズル11の他に、回転刃9の向こう側にも設けられている。
Next, the cutting water 12 is discharged from the nozzle 11 toward the portion of the
図2(1)に示すように、基板2を切削する過程において、回転刃9の外周部は、基板2の表面( surface:図では上面)から基板2の内側に向かって切り進み、基板2を切削して溝を形成する。基板2を切削した回転刃9の外周部は、基板2に形成された溝の部分を通過して、基板2の表面に相当するZ方向の位置から上方へと引き続いて回転して進行する。
As shown in FIG. 2A, in the process of cutting the
図2(1)に示された状態から、引き続いてステージ8を+X方向に移動させる。このことによって、樹脂封止体1から離れた左側の位置まで回転刃9を相対的に移動させる。ここまでの工程によって、基板2において図のX方向に沿った1本の境界線(図示なし)に重なる溝を、基板2の右端から左端まで形成する。
From the state shown in FIG. 2A, the
次に、封止樹脂4の厚さにわずかな寸法を加えた距離だけ、ステージ8を+Z方向に移動させる。このことによって、Z方向の位置関係を、回転刃9の下端の位置と粘着テープ7の上面からわずかな寸法だけ下がった位置とが同じになるように設定する(図2(2)参照)。回転刃9の回転数を20000rpmに維持する。
Next, the
次に、本実施例の第2の段階として、樹脂封止体1に含まれる封止樹脂4(本実施例では最下層)を切削する。図2(2)に示すように、−X方向に移動速度(送り速度)vでステージ8を移動させることによって、回転刃9を粘着テープ7と封止樹脂4とに接触させる。引き続いてステージ8を移動させることによって、回転刃9が粘着テープ7と封止樹脂4とを切削する。以下、第2の段階において回転刃9と樹脂封止体1とが接触する部分を第2の接触部と呼ぶことにする。本発明が樹脂封止体1を切削する技術に関するものであることから、以下の記載では粘着テープ7を切削することに関する記載を適宜省略する。
Next, as a second stage of this embodiment, the sealing resin 4 (the lowermost layer in this embodiment) included in the
図2(2)に示すように、封止樹脂4を切削する過程において、回転刃9が有する外周部は、封止樹脂4が有する表面( surface:図では下面)から封止樹脂4の内側に向かって切り進み、封止樹脂4を切削して溝を形成する。封止樹脂4を切削した回転刃9の外周部は、封止樹脂4に形成された溝の部分と基板2に形成された溝の部分とを順次通過して進み、基板2の表面に相当する位置から上方へと引き続いて回転して進む。
As shown in FIG. 2 (2), in the process of cutting the sealing
図2(2)に示された状態から、引き続いてステージ8を−X方向に移動させる。このことによって、樹脂封止体1から離れた右側の位置まで回転刃9を相対的に移動させる。ここまでの工程により、樹脂封止体1において図のX方向に沿った1本の境界線(図示なし)に重なる開口を、樹脂封止体1の左端から右端まで形成する。したがって、樹脂封止体1を切断することができる。
From the state shown in FIG. 2B, the
本実施例によれば次の2つの効果が得られる。第1の効果は、チッピングの発生が抑制されることである。この効果は次のようにして得られる。図2(2)に示すように、回転刃9と封止樹脂4との接点において、接線方向の分力F1と接線に対する垂直方向の分力F2とが合成された力F3が、その接点に作用する力に相当する。従来の技術によれば、接点に作用する力f3は封止樹脂4の表面に対して斜め下向きに作用する(図1参照)。一方、本実施例によれば、接点に作用する力F3は封止樹脂4の表面に対してほぼ平行に作用する(図2(2)参照)。したがって、この接点の封止樹脂4においてチッピングの発生が抑制される。
According to the present embodiment, the following two effects can be obtained. The first effect is that the occurrence of chipping is suppressed. This effect is obtained as follows. As shown in FIG. 2 (2), at the contact point between the
第2の効果は、銅からなる基板2が有する電極部6におけるばりの発生が抑制されることである。この効果は次のようにして得られると推測される。本実施例によれば、回転刃9と電極部6とが長い距離において接触する。言い換えれば、図2(1)において回転刃9の外周と基板2とが重なって示される部分(左側)の距離が、図1において回転刃9の外周と基板2とが重なって示される部分(左側)の距離よりも、明らかに長くなる。このことにより、回転刃9の表面温度が上昇しにくくなるので、電極部6の銅と回転刃9の表面のダイヤモンド粒子との溶着が抑制される。したがって、ダイヤモンド粒子が切断対象物を切削する機能が保たれるので、電極部6におけるばりの発生が抑制される。
The second effect is that the occurrence of flash in the
[実施例2]
図3を参照して、本発明の実施例1に係る電子部品製造用の切断方法を説明する。本実施例によれば、切断対象物であって2層構造を有する樹脂封止体1を2段階に分けて切断する。本実施例と実施例1との相違は、樹脂封止体1がステージ8の上面に固定される態様がZ方向において逆であるという点である。
[Example 2]
With reference to FIG. 3, the cutting method for electronic component manufacture which concerns on Example 1 of this invention is demonstrated. According to the present embodiment, the
図3(1)に示すように、本実施例では、第1の段階として樹脂封止体1のうち封止樹脂4(本実施例では最上層)の全ての厚さを切削する。「封止樹脂4の全ての厚さを切削する」という文言は、次の2つの場合を含む。第1の場合は、既に切削された部分において、封止樹脂4が厚さ方向に完全には切削されずに残った薄い部分が基板2の上に存在する場合である。第2の場合は、既に切削された部分において、基板2がわずかに切削されて形成された浅い溝が基板2の上部に存在する場合である。これらの場合は、回転軸10のZ方向における位置のばらつき等に起因して発生する。
As shown in FIG. 3 (1), in this embodiment, as the first stage, the entire thickness of the sealing resin 4 (the uppermost layer in this embodiment) in the
本実施例では、まず、樹脂封止体1のうち基板2が下側になるようにして、粘着テープ7によってステージ8の上面に樹脂封止体1を固定する。これにより、樹脂封止体1は、基板2が下側で封止樹脂4が上側になるようにしてステージ8の上面に固定される。
In the present embodiment, first, the
次に、樹脂封止体1から離れた右側にスピンドルが位置するように、X方向に沿ってステージ8を移動させて停止させる。回転刃9を、所定の回転方向(図においては反時計回りの方向)に所定の回転数(例えば、15000〜30000rpm)で回転させる。ここでは、回転数を20000rpmにする。
Next, the
次に、ステージ8を+Z方向に移動させて、回転刃9の外周の下端を所定の位置(Z方向)に到達させた時点で+Z方向の移動を停止させる。所定の位置としては、樹脂封止体1における封止樹脂4と基板2との境界の位置を目標にする。
Next, the
次に、+X方向に移動速度(送り速度)vでステージ8を移動させて、回転刃9と封止樹脂4とを接触させる。引き続いてステージ8を移動させることによって、回転刃9が封止樹脂4を切削する。
Next, the
図3(1)に示すように、封止樹脂4を切削する過程において、回転刃9が有する外周部は、封止樹脂4の表面( surface:図では上面)から封止樹脂4の内側に向かって切り進み、封止樹脂4を切削して溝を形成する。封止樹脂4を切削した回転刃9の外周部は、封止樹脂4に形成された溝の部分を通過して、封止樹脂4の表面に相当するZ方向の位置から上方へと引き続いて回転して進行する。
As shown in FIG. 3 (1), in the process of cutting the sealing
図3(1)に示された状態から、引き続いてステージ8を+X方向に移動させる。このことによって、樹脂封止体1から離れた左側の位置まで回転刃9を相対的に移動させる。ここまでの工程によって、封止樹脂4において図のX方向に沿った1本の境界線(図示なし)に重なる溝を、封止樹脂4の右端から左端まで形成する。
Subsequently, the
次に、基板2の厚さにわずかな寸法を加えた距離だけ、ステージ8を+Z方向に移動させる。このことによって、Z方向の位置関係を、回転刃9の下端の位置と粘着テープ7の上面からわずかな寸法だけ下がった位置とが同じになるように設定する。回転刃9の回転数を20000rpmに維持する。
Next, the
次に、本実施例の第2の段階として、樹脂封止体1に含まれる基板2(本実施例では最下層)を切削する。図3(2)に示すように、−X方向に移動速度(送り速度)vでステージ8を移動させることによって、回転刃9を粘着テープ7と基板2とに接触させる。引き続いてステージ8を移動させることによって、回転刃9が粘着テープ7と基板2とを切削する。
Next, as a second stage of the present embodiment, the substrate 2 (the lowermost layer in the present embodiment) included in the
図3(2)に示すように、基板2を切削する過程において、回転刃9の外周部は、基板2が有する表面( surface:図では下面)から基板2の内側に向かって切り進み、基板2を切削して溝を形成する。基板2を切削した回転刃9の外周部は、基板2に形成された溝の部分と封止樹脂4に形成された溝の部分とを順次通過して進み、封止樹脂4の表面に相当する位置から上方へと引き続いて回転して進む。
As shown in FIG. 3B, in the process of cutting the
図3(2)に示された状態から、引き続いてステージ8を−X方向に移動させる。このことによって、樹脂封止体1から離れた右側の位置まで回転刃9を相対的に移動させる。ここまでの工程により、樹脂封止体1において図のX方向に沿った1本の境界線(図示なし)に重なる開口を、樹脂封止体1の左端から右端まで形成する。したがって、樹脂封止体1を切断することができる。
Subsequently, the
本実施例によれば、次の2つの効果が得られる。第1の効果は、チッピングの発生が抑制されることである。第1の効果として、封止樹脂4の表面におけるチッピングの発生が抑制される。この効果は、封止樹脂4の表面において、図1に示された斜め下向きに作用する力f3が発生しないことによって得られる。
According to the present embodiment, the following two effects can be obtained. The first effect is that the occurrence of chipping is suppressed. As a first effect, occurrence of chipping on the surface of the sealing
加えて、第1の効果の別の態様として、基板2が硬くて脆い物性を有する材料(例を挙げればセラミックス基板等)からなる場合に、基板2の表面におけるチッピングの発生が抑制される。この効果は次のようにして得られる。図3(2)に示すように、回転刃9と基板2との接点において、接線方向の分力F1と接線に対する垂直方向の分力F2とが合成された力F3が、その接点に作用する力に相当する。従来の技術によれば、接点に作用する力(図1のf3参照)は基板2の表面に対して斜め下向きに作用する(このことは、図1に示された樹脂封止体1を上下逆にした状態について考えてみれば自明である)。一方、本実施例によれば、接点に作用する力F3は基板2の表面に対してほぼ平行に作用する(図3(2)参照)。したがって、この接点の基板2においてチッピングの発生が抑制される。
In addition, as another aspect of the first effect, when the
第2の効果は、銅からなる基板2が有する電極部6におけるばりの発生が抑制されることである。この効果は次のようにして得られると推測される。本実施例によれば、回転刃9と電極部6とが長い距離において接触する。言い換えれば、図3(2)において回転刃9の外周と基板2とが重なって示される部分(右側)の距離が、図1において回転刃9の外周と基板2とが重なって示される部分(左側)の距離よりも、明らかに長くなる。このことにより、回転刃9の表面温度が上昇しにくくなるので、電極部6の銅と回転刃9の表面のダイヤモンド粒子との溶着が抑制される。したがって、ダイヤモンド粒子が切断対象物を切削する機能が保たれるので、電極部6におけるばりの発生が抑制される。
The second effect is that the occurrence of flash in the
[実施例3]
図4を参照して、本発明の実施例3に係る電子部品製造用の切断方法を説明する。本実施例によれば、切断対象物である樹脂封止体13を3段階に分けて切断する。本実施例と実施例1との相違は、樹脂封止体13が3層構造を有することである。図4に示されるように、樹脂封止体13は、基板2(本実施例では最下層)と、反射用部材14(本実施例では中間層)と、封止樹脂4(本実施例では最上層)とからなる3層構造を有する。
[Example 3]
With reference to FIG. 4, the cutting method for electronic component manufacture which concerns on Example 3 of this invention is demonstrated. According to the present embodiment, the resin sealing body 13 that is the object to be cut is cut in three stages. The difference between the present embodiment and the first embodiment is that the resin sealing body 13 has a three-layer structure. As shown in FIG. 4, the resin sealing body 13 includes a substrate 2 (the lowermost layer in this embodiment), a reflection member 14 (an intermediate layer in this embodiment), and a sealing resin 4 (in this embodiment). A top layer).
図4に示されるように、反射用部材14には各領域5を単位として凹部15が形成されている。各凹部15においては基板2の上面が露出する。その露出した上面に、ダイボンディング用パッド16とワイヤボンディング用パッド17とが形成されている。ダイボンディング用パッド16は、貫通配線18によって、基板2の下面に形成された外部端子19に接続されている。ワイヤボンディング用パッド17は、貫通配線20によって、基板2の下面に形成された外部端子21に接続されている。ダイボンディング用パッド16には、例えば、LEDチップやレーザダイオードチップからなる発光素子22が装着されている。発光素子22の上面に形成されたパッド(図示なし)とワイヤボンディング用パッド17とは、金線等からなるワイヤ23によって接続されている。封止樹脂4は、各領域において形成され凸レンズとして機能するレンズ部24と、各レンズ部23同士を連通する板状の連通部25とによって構成される。
As shown in FIG. 4, the reflecting member 14 is formed with a recess 15 for each
本実施例では次のようにして樹脂封止体13を切削する。まず、第1の段階として樹脂封止体13のうち封止樹脂4における連通部25の全ての厚さを切削する。第1の段階においては、図3(1)に示された回転刃9の外周の下端の位置(Z方向)が図4に示された位置Aになることを目標にする。封止樹脂4を切削する過程において、回転刃9の外周部は、封止樹脂4の表面( surface:図では上面)から封止樹脂4の内側に向かって切り進み、封止樹脂4を切削して溝を形成する。封止樹脂4を切削した回転刃9の外周部は、封止樹脂4に形成された溝の部分を通過して、封止樹脂4の表面に相当するZ方向の位置から上方へと引き続いて回転して進行する(図3(1)を参照)。この段階においては、+X方向に移動速度(送り速度)vでステージ(図示なし)を移動させる。したがって、樹脂封止体13は+X方向に移動速度vで移動する。
In this embodiment, the resin sealing body 13 is cut as follows. First, as a first step, the entire thickness of the communication portion 25 in the sealing
次に、第2の段階として樹脂封止体13のうち基板2と反射用部材14とを切削する。第2の段階においては、図3(1)に示された回転刃9の外周の下端の位置(Z方向)が図4に示された位置Cよりもわずかに下側になることを目標にする。この段階においては−X方向に移動速度vでステージ(図示なし)を移動させる。したがって、樹脂封止体13は−X方向に移動速度vで移動する。
Next, as a second stage, the
基板2と反射用部材14とを切削する過程において、回転刃9の外周部は、基板2が有する表面( surface:図では下面)から基板2の内側に向かって切り進み、基板2と反射用部材14とを切削する。基板2と反射用部材14とを切削した回転刃9の外周部は、封止樹脂4に形成された溝の部分を通過して進む。最終的に、基板2を切削した回転刃9の外周部は、封止樹脂4の表面に相当する位置から上方へと引き続いて回転して進む。
In the process of cutting the
本実施例によれば、実施例1及び実施例2と同様に、第1に、基板2においてチッピングの発生が抑制される。第2に、図1に示された電極部6に相当する、ダイボンディング用パッド16とワイヤボンディング用パッド17と貫通配線18、20と外部端子19、21とにおけるばりの発生が抑制される。
According to the present embodiment, as in the first and second embodiments, first, occurrence of chipping in the
本実施例では、発光素子22の上面に形成されたパッド(図示なし)とワイヤボンディング用パッド17とを、ワイヤ23を使用したワイヤボンディングによって接続した。ワイヤボンディングに代えてフリップチップボンディングを使用してもよい。 In this example, the pad (not shown) formed on the upper surface of the light emitting element 22 and the wire bonding pad 17 were connected by wire bonding using the wire 23. Instead of wire bonding, flip chip bonding may be used.
なお、本実施例の変形例として、第1の段階として樹脂封止体13のうち封止樹脂4と反射用部材14とを切削し、第2の段階として樹脂封止体13のうち基板2を切削してもよい。第1の段階においては、図3(1)に示された回転刃9の外周の下端の位置(Z方向)が図4に示された位置Bになることを目標にする。
As a modification of the present embodiment, the sealing
また、別の変形例として、第1の段階として封止樹脂4と反射用部材14の一部分とを切削し、第2の段階として反射用部材14の残りの部分と基板2とを切削してもよい。この場合には、第2の段階において、回転刃9が、反射用部材14の表面( surface:反射用部材14の残りの部分の上面)から内側に向かって切り進み、基板2を完全に切削した後に、反射用部材14の内側から反射用部材14の表面を突き抜けてその表面の外側の空間に向かって回転する。この変形例は、封止樹脂4よりも反射用部材14の方が良好な被削性を有する場合に(言い換えれば封止樹脂4よりも反射用部材14においてチッピングやばり等が発生しにくい場合に)有効である。
As another modification, the sealing
また、別の変形例として、第1の段階として封止樹脂4の一部分を切削し、第2の段階として封止樹脂4の残りの部分と反射用部材14と基板2とを切削してもよい。この変形例は、反射用部材14よりも封止樹脂4の方が良好な被削性を有する場合に有効である。
As another modification, a part of the sealing
また、更に別の変形例として、第1の段階として封止樹脂4と反射用部材14と基板2の一部分とを切削し、第2の段階として基板2の残りの部分を切削してもよい。この変形例は、反射用部材14よりも基板2の方が良好な被削性を有する場合に有効である。
As yet another modification, the sealing
ここまで説明した各変形例に関連して、第1の段階として基板2の一部分を切削すること、及び、第1の段階として基板2と封止樹脂4の一部分とを切削することについては、図2に示された実施例に適用することができる。
In relation to each modification described so far, cutting a part of the
また、ここまで説明した各変形例に関連して、第1の段階として封止樹脂4の一部分を切削すること、及び、第1の段階として封止樹脂4と基板2の一部分とを切削することについては、図3に示された実施例に適用することができる。
Further, in relation to the respective modifications described so far, a part of the sealing
なお、ここまで説明した各実施例においては、切断対象物である樹脂封止体1が2層構造又は3層構造を有する場合について説明した。これに限らず、樹脂封止体1が4層以上の構造を有する場合において本発明を適用することができる。これらの場合においては、制御部CTLが、回転刃9の回転数及び回転方向と、ステージとスピンドルとの相対的な移動方向とを、次のように制御する。第1に、最上層又は最上層を含む複数の層を切削する段階において、回転刃の外周部が最上層の表面から内側に向かって切り進む。第2に、最下層又は最下層を含む複数の層を切削する段階において、回転刃の外周部が最下層の表面から内側に向かって切り進む。
In addition, in each Example demonstrated so far, the case where the
また、図のX方向、Y方向、及び、Z方向に沿ってステージ8を移動させた。これに代えて、回転刃9が取り付けられているスピンドル(図示なし)を図のX方向、Y方向、及び、Z方向に沿って移動させてもよい。更に、ステージ8とスピンドルとの双方を図のX方向、Y方向、及び、Z方向に沿って移動させてもよい。これらの態様によって、ステージ8とスピンドルとを、X方向、Y方向、及び、Z方向に沿って相対的に移動させればよい。
Further, the
また、基板2を切断する場合と封止樹脂4を切断する場合とにおいて、回転刃9の回転数を同じであることとした。これに代えて、樹脂封止体1、13を構成する材料の組合せに応じて、最上層を切断する場合と、最下層を切断する場合と(加えて、中間層がある場合にはその中間層を切断する場合と)において異なる回転数を採用してもよい。
In addition, the rotational speed of the
例として、図2に示された樹脂封止体1を切断する場合について説明する。基板2としてガラスエポキシ積層板を基材とするプリント基板が使用され、封止樹脂4としてエポキシ樹脂が使用された樹脂封止体1の場合には、第1の段階と第2の段階とで同じ回転数を採用することができる。
As an example, the case where the
別の例として、図4に示された樹脂封止体13の一例を切断する場合を説明する。樹脂封止体13においては、基板2として、硬くて脆い物性を有するセラミックス基板が使用される。反射用部材14としてポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂等が使用される。封止樹脂4として、反射用部材14よりも柔らかくて粘り気を有するシリコーン系樹脂が使用される。この場合には、回転刃の回転数を大きくして封止樹脂4を切削すると、封止樹脂4の変形やはがれ等が発生するおそれがある。また、回転刃の回転数を大きくして基板2を切削すると、基板2のチッピングが発生するおそれがある。したがって、この場合には、例えば、封止樹脂4を切断する場合、基板2を切断する場合、反射用部材14を切断する場合の順に、回転刃の回転数を大きくすることが好ましい。
As another example, a case where one example of the resin sealing body 13 shown in FIG. 4 is cut will be described. In the resin sealing body 13, a ceramic substrate having hard and brittle physical properties is used as the
また、樹脂封止体1、13を構成する材料の組合せに応じて、ステージ8とスピンドルとをX方向、Y方向、及び、Z方向に沿って相対的に移動させる速度を変えることもできる。
Moreover, the speed at which the
また、樹脂封止体1の全体形状としては、IC、表面実装型トランジスタ、表面実装型コンデンサ等を製造する場合における板状(平板状)が代表的である(図2、3参照)。これに限らず、樹脂封止体1の全体形状が、光半導体素子を製造する場合における、凸レンズとして機能する複数の突起を有する形状等であってもよい(図4参照)。
The overall shape of the
また、ノズル11の態様としては、第1の接触部と第2の接触部とのそれぞれに対応する2個の管状のノズルを設けるという構成を採用してもよい。また、1個の管状のノズルを設けて、第1の接触部と第2の接触部とのそれぞれに対応する位置にそのノズルを移動可能にするという構成を採用してもよい。これらの構成によれば、大きな厚さを有する樹脂封止体1を切断する場合において、最適な箇所に切削水を供給することによって切削水の消費量を削減するという効果が得られる。なぜなら、大きな厚さを有する樹脂封止体1を切断する場合には第1の接触部と第2の接触部とが離れているので、図2及び図3の構成を採用した場合には不要な箇所にまで切削水を供給することになるからである。なお、大きな厚さを有する樹脂封止体1としては、電力制御用の半導体素子(IC、トランジスタ等)や、輸送機器を対象とした内燃機関制御用、電動機制御用、制動システム制御用のIC等が挙げられる。
Moreover, as an aspect of the nozzle 11, a configuration in which two tubular nozzles corresponding to the first contact portion and the second contact portion are provided may be employed. Further, a configuration in which one tubular nozzle is provided and the nozzle can be moved to positions corresponding to the first contact portion and the second contact portion may be employed. According to these configurations, when cutting the
また、樹脂封止体1をステージ8に固定する方式として、粘着テープを使用せずに樹脂封止体1を吸着してもよい(特許文献1の段落[0015]参照)。この場合には、切断される部分である各境界線5に平面視して重なるようにして、ステージ8の上面に、回転刃9の外周部が収容される溝を形成する。
Further, as a method of fixing the
また、本発明は、上述した実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて、任意にかつ適宜に組み合わせ、変更し、又は選択して採用できるものである。 Further, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be arbitrarily combined, modified, or selected and adopted as necessary within the scope not departing from the gist of the present invention. Is.
1、13 樹脂封止体
2 基板(最上層、最下層)
3 領域
4 封止樹脂(最下層、最上層)
5 境界線
6 電極部
7 粘着テープ
8 ステージ
9 回転刃
10 回転軸
11 ノズル
12 切削水
14 反射用部材(中間層)
15 凹部
16 ダイボンディング用パッド
17 ワイヤボンディング用パッド
18、20 貫通配線
19、21 外部端子
22 発光素子
23 ワイヤ
24 レンズ部
25 連通部
A、B、C 位置
CTL 制御部
v 送り速度
1, 13
3
DESCRIPTION OF
DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Recess 16 Die bonding pad 17
Claims (10)
前記回転刃と前記樹脂封止体とが接触する部分に切削水を吐出するノズルを備え、
前記制御部は次の動作が実行されるように制御することを特徴とする電子部品製造用の切断装置。
(1)前記基板と前記封止樹脂とのうち一方からなる最下層が前記ステージに固定された状態において、前記基板と前記封止樹脂とのうち他方からなる最上層を前記回転刃が前記境界線に重なって切削することができる第1の位置に前記回転刃がつくまで、前記ステージと前記スピンドルとを相対的に移動させる。
(2)前記回転刃が前記第1の位置についた状態において、前記回転刃の外周部が前記最上層の表面から内側に向かって切り進むことができる一方向に前記回転刃を回転させる。
(3)前記回転刃において前記最上層に接触することができる第1の接触部に向かって前記ノズルから前記切削水を吐出する。
(4)前記動作 (2)及び (3)の後に、前記ステージと前記スピンドルとを第1の方向に相対的に移動させて前記回転刃が少なくとも前記最上層を切削する。
(5)少なくとも前記最上層が切削された後に、前記最下層を前記回転刃が前記境界線に重なって切削することができ、かつ、前記回転刃の外周部が前記最下層の表面から内側に向かって切り進むことができる第2の位置に前記回転刃がつくまで、前記ステージと前記スピンドルとを相対的に移動させる。
(6)前記回転刃において前記最下層に接触することができる第2の接触部に向かって前記ノズルから前記切削水を吐出する。
(7)前記動作 (5)及び (6)の後に、前記ステージと前記スピンドルとを前記第1の方向とは逆の第2の方向に相対的に移動させて前記回転刃が少なくとも前記最下層を切削することによって、前記樹脂封止体を切断する。 A plurality of electronic components obtained by cutting a resin sealing body having a substrate having a plurality of regions, a plurality of chip-like components respectively mounted on the plurality of regions, and a sealing resin along a boundary line of the plurality of regions Used to manufacture the resin sealing body, a spindle having a rotation shaft, a rotary blade fixed to the rotation shaft, and the stage and the spindle are relatively moved. A cutting device for manufacturing an electronic component comprising: a drive mechanism; and a control unit that controls at least the movement of the drive mechanism and the rotation of the rotating shaft,
A nozzle that discharges cutting water at a portion where the rotary blade and the resin sealing body are in contact with each other;
A cutting apparatus for manufacturing an electronic component, wherein the control unit performs control so that the following operation is performed.
(1) In the state where the lowermost layer consisting of one of the substrate and the sealing resin is fixed to the stage, the rotary blade has the uppermost layer consisting of the other of the substrate and the sealing resin as the boundary. The stage and the spindle are moved relative to each other until the rotary blade comes to a first position where it can be cut by overlapping the line.
(2) In a state where the rotary blade is in the first position, the rotary blade is rotated in one direction in which the outer peripheral portion of the rotary blade can cut inward from the surface of the uppermost layer.
(3) The cutting water is discharged from the nozzle toward the first contact portion that can contact the uppermost layer in the rotary blade.
(4) After the operations (2) and (3), the stage and the spindle are relatively moved in the first direction so that the rotary blade cuts at least the uppermost layer.
(5) After at least the uppermost layer is cut, the lowermost layer can be cut with the rotary blade overlapping the boundary line, and the outer peripheral portion of the rotary blade is inward from the surface of the lowermost layer. The stage and the spindle are moved relative to each other until the rotary blade comes to a second position where it can be cut forward.
(6) The cutting water is discharged from the nozzle toward the second contact portion that can contact the lowermost layer in the rotary blade.
(7) After the operations (5) and (6), the stage and the spindle are relatively moved in a second direction opposite to the first direction so that the rotary blade is at least the lowermost layer. The resin sealing body is cut by cutting.
前記回転刃が有する1つの面の側において前記ノズルが単数個設けられ、
前記第1の接触部と前記第2の接触部とに向かって前記ノズルが同時に前記切削水を吐出することを特徴とする電子部品製造用の切断装置。 In the cutting device for electronic component manufacture described in Claim 1,
A single nozzle is provided on one side of the rotary blade,
The cutting device for manufacturing an electronic component, wherein the nozzle simultaneously discharges the cutting water toward the first contact portion and the second contact portion.
前記回転刃が有する1つの面の側において前記ノズルが単数個設けられ、
前記第1の接触部の近傍と前記第2の接触部の近傍とに前記ノズルが移動することを特徴とする電子部品製造用の切断装置。 In the cutting device for electronic component manufacture described in Claim 1,
A single nozzle is provided on one side of the rotary blade,
A cutting apparatus for manufacturing an electronic component, wherein the nozzle moves between the vicinity of the first contact portion and the vicinity of the second contact portion.
前記回転刃が有する1つの面の側において前記ノズルが複数個設けられ、
前記複数個のノズルのうち一部分のノズルが前記第1の接触部に向かって前記切削水を吐出し、
前記複数個のノズルのうち他のノズルが前記第2の接触部に向かって前記切削水を吐出することを特徴とする電子部品製造用の切断装置。 In the cutting device for electronic component manufacture described in Claim 1,
A plurality of the nozzles are provided on one surface side of the rotary blade,
A part of the plurality of nozzles discharges the cutting water toward the first contact portion,
The other nozzle among the plurality of nozzles discharges the cutting water toward the second contact portion.
前記樹脂封止体は中間層を有し、
前記制御部は次の3つの動作のうちいずれか1つの動作が実行されるように制御することを特徴とする電子部品製造用の切断装置。
(1)前記回転刃が、前記最上層と前記中間層とを前記第1の方向に沿って切削した後に、前記最下層を前記第2の方向に沿って切削する。
(2)前記回転刃が、前記最上層を前記第1の方向に沿って切削した後に、前記中間層と前記最下層とを前記第2の方向に沿って切削する。
(3)前記回転刃が、前記最上層と前記中間層とを前記第1の方向に沿って切削した後に、前記中間層と前記最下層とを前記第2の方向に沿って切削する。 In the cutting device for electronic component manufacture described in any one of Claims 1-4,
The resin sealing body has an intermediate layer,
The said control part is controlled so that any one operation | movement is performed among the following three operation | movement, The cutting device for electronic component manufacture characterized by the above-mentioned.
(1) The rotary blade cuts the lowermost layer along the second direction after cutting the uppermost layer and the intermediate layer along the first direction.
(2) The rotary blade cuts the intermediate layer and the lowermost layer along the second direction after cutting the uppermost layer along the first direction.
(3) The rotary blade cuts the intermediate layer and the lowermost layer along the second direction after cutting the uppermost layer and the intermediate layer along the first direction.
前記基板と前記封止樹脂とのうち一方からなる最下層を前記ステージに固定する工程と、
前記基板と前記封止樹脂とのうち他方からなる最上層を前記回転刃が前記境界線に重なって切削することができる第1の位置に前記回転刃がつくまで、前記ステージと前記スピンドルとを相対的に移動させる工程と、
前記回転刃が前記第1の位置についた状態において、前記回転刃の外周部が前記最上層の表面から内側に向かって切り進むことができる一方向に前記回転刃を回転させる工程と、
前記回転刃において前記最上層に接触することができる第1の接触部に向かって切削水を吐出する工程と、
前記ステージと前記スピンドルとを第1の方向に相対的に移動させて前記回転刃が少なくとも前記最上層を切削する工程と、
少なくとも前記最上層を切削した後に、前記最下層を前記回転刃が前記境界線に重なって切削することができ、かつ、前記回転刃の外周部が前記最下層の表面から内側に向かって切り進むことができる第2の位置に前記回転刃がつくまで、前記ステージと前記スピンドルとを相対的に移動させる工程と、
前記回転刃において前記最下層に接触することができる第2の接触部に向かって前記切削水を吐出する工程と、
前記ステージと前記スピンドルとを前記第1の方向とは逆の第2の方向に相対的に移動させて前記回転刃が少なくとも前記最下層を切削することによって、前記樹脂封止体を切断する工程とを備えることを特徴とする電子部品製造用の切断方法。 A plurality of electronic components obtained by cutting a resin sealing body having a substrate having a plurality of regions, a plurality of chip-like components respectively mounted on the plurality of regions, and a sealing resin along a boundary line of the plurality of regions A cutting method for manufacturing electronic parts,
Fixing the lowermost layer consisting of one of the substrate and the sealing resin to the stage;
The stage and the spindle are placed until the rotary blade comes to a first position where the rotary blade can be cut by overlapping the boundary line between the substrate and the sealing resin. A relatively moving step;
In a state in which the rotary blade is in the first position, rotating the rotary blade in one direction in which the outer peripheral portion of the rotary blade can be cut inward from the surface of the uppermost layer;
Discharging the cutting water toward the first contact portion that can contact the uppermost layer in the rotary blade;
Moving the stage and the spindle relative to each other in a first direction so that the rotary blade cuts at least the uppermost layer;
After cutting at least the uppermost layer, the lowermost layer can be cut with the rotary blade overlapping the boundary line, and the outer peripheral portion of the rotary blade advances inward from the surface of the lowermost layer Relatively moving the stage and the spindle until the rotary blade is in a second position capable of:
Discharging the cutting water toward a second contact portion capable of contacting the lowermost layer in the rotary blade;
A step of cutting the resin sealing body by relatively moving the stage and the spindle in a second direction opposite to the first direction so that the rotary blade cuts at least the lowermost layer; A cutting method for manufacturing an electronic component.
前記切削水を吐出する工程では、前記回転刃が有する1つの面の側において固定して設けられた単数個のノズルから切削水を吐出することを特徴とする電子部品製造用の切断方法。 In the cutting method for electronic component manufacture described in Claim 6,
In the step of discharging the cutting water, a cutting method for manufacturing an electronic component is characterized in that the cutting water is discharged from a single nozzle fixedly provided on one surface side of the rotary blade.
前記切削水を吐出する工程では、前記回転刃が有する1つの面の側において移動可能に設けられた単数個のノズルから切削水を吐出するとともに、
前記単数個のノズルを移動させる工程を備えることを特徴とする電子部品製造用の切断方法。 In the cutting method for electronic component manufacture described in Claim 6,
In the step of discharging the cutting water, the cutting water is discharged from a single nozzle movably provided on one surface side of the rotary blade,
A cutting method for manufacturing an electronic component, comprising the step of moving the single nozzle.
前記第1の接触部に向かって前記切削水を吐出する工程では、前記回転刃が有する1つの面の側において設けられた複数個のノズルのうち一部分のノズルが前記切削水を吐出し、
前記第2の接触部に向かって前記切削水を吐出する工程では、前記複数個のノズルのうち他のノズルが前記切削水を吐出することを特徴とする電子部品製造用の切断方法。 In the cutting method for electronic component manufacture described in Claim 6,
In the step of discharging the cutting water toward the first contact portion, a part of the plurality of nozzles provided on one surface side of the rotary blade discharges the cutting water,
In the step of discharging the cutting water toward the second contact portion, another nozzle out of the plurality of nozzles discharges the cutting water.
前記樹脂封止体は中間層を有し、
前記最上層を切削する工程において前記中間層を切削すること、又は、前記樹脂封止体を切断する工程において前記中間層を切削することのうち少なくともいずれか1つを実行することを特徴とする電子部品製造用の切断方法。 In the cutting method for electronic component manufacture described in any one of Claims 6-9,
The resin sealing body has an intermediate layer,
At least one of cutting the intermediate layer in the step of cutting the uppermost layer or cutting the intermediate layer in the step of cutting the resin sealing body is performed. Cutting method for manufacturing electronic components.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012264409A JP5897454B2 (en) | 2012-12-03 | 2012-12-03 | Cutting apparatus and method for manufacturing electronic parts |
TW102130559A TWI551414B (en) | 2012-12-03 | 2013-08-27 | Electronic component manufacturing apparatus and manufacturing method thereof |
KR1020130114383A KR101569965B1 (en) | 2012-12-03 | 2013-09-26 | Apparatus and method for manufacturing electronic component |
CN201310475751.4A CN103855058B (en) | 2012-12-03 | 2013-10-12 | Electronic components fabrication device and manufacture method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012264409A JP5897454B2 (en) | 2012-12-03 | 2012-12-03 | Cutting apparatus and method for manufacturing electronic parts |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014108491A true JP2014108491A (en) | 2014-06-12 |
JP5897454B2 JP5897454B2 (en) | 2016-03-30 |
Family
ID=50862545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012264409A Active JP5897454B2 (en) | 2012-12-03 | 2012-12-03 | Cutting apparatus and method for manufacturing electronic parts |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5897454B2 (en) |
KR (1) | KR101569965B1 (en) |
CN (1) | CN103855058B (en) |
TW (1) | TWI551414B (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016004831A (en) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 株式会社ディスコ | Package substrate cutting method |
KR20160010309A (en) * | 2014-07-18 | 2016-01-27 | 토와 가부시기가이샤 | Cutting device and cutting method |
CN105938808A (en) * | 2015-03-04 | 2016-09-14 | 东和株式会社 | Manufacturing apparatus and manufacturing method |
JP2019011208A (en) * | 2017-06-29 | 2019-01-24 | 日本電気硝子株式会社 | Method for producing glass resin laminate |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106469779B (en) * | 2015-08-18 | 2018-03-02 | 江苏诚睿达光电有限公司 | A kind of intelligence control system and control method of the thermoplastic resin light conversion body fitting encapsulation LED based on rolling-type |
CN106469777B (en) * | 2015-08-18 | 2018-10-09 | 江苏诚睿达光电有限公司 | A kind of intelligence control system and control method of the organic siliconresin light conversion body fitting encapsulation LED based on rolling-type |
CN114864391B (en) * | 2022-07-07 | 2022-09-09 | 苏州和研精密科技有限公司 | Chip processing method and chip cutting machine |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0430558A (en) * | 1990-05-28 | 1992-02-03 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
JP2000183218A (en) * | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Mitsumi Electric Co Ltd | Manufacture of ic package |
JP2002231658A (en) * | 2001-01-30 | 2002-08-16 | Takemoto Denki Seisakusho:Kk | Method for cutting semiconductor wafer |
JP2003059864A (en) * | 2001-08-20 | 2003-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | Dicing device |
JP2009196029A (en) * | 2008-02-21 | 2009-09-03 | Disco Abrasive Syst Ltd | Spindle unit |
JP2011249375A (en) * | 2010-05-24 | 2011-12-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting device |
US20120313231A1 (en) * | 2011-06-09 | 2012-12-13 | National Semiconductor Corporation | Method and apparatus for dicing die attach film on a semiconductor wafer |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004214588A (en) | 2002-11-15 | 2004-07-29 | Sanyo Electric Co Ltd | Method for manufacturing semiconductor device |
JP4086202B2 (en) | 2005-10-25 | 2008-05-14 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | Manufacturing method of semiconductor device |
JP2007125667A (en) | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting device of substrate |
-
2012
- 2012-12-03 JP JP2012264409A patent/JP5897454B2/en active Active
-
2013
- 2013-08-27 TW TW102130559A patent/TWI551414B/en active
- 2013-09-26 KR KR1020130114383A patent/KR101569965B1/en active IP Right Grant
- 2013-10-12 CN CN201310475751.4A patent/CN103855058B/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0430558A (en) * | 1990-05-28 | 1992-02-03 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
JP2000183218A (en) * | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Mitsumi Electric Co Ltd | Manufacture of ic package |
JP2002231658A (en) * | 2001-01-30 | 2002-08-16 | Takemoto Denki Seisakusho:Kk | Method for cutting semiconductor wafer |
JP2003059864A (en) * | 2001-08-20 | 2003-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | Dicing device |
JP2009196029A (en) * | 2008-02-21 | 2009-09-03 | Disco Abrasive Syst Ltd | Spindle unit |
JP2011249375A (en) * | 2010-05-24 | 2011-12-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting device |
US20120313231A1 (en) * | 2011-06-09 | 2012-12-13 | National Semiconductor Corporation | Method and apparatus for dicing die attach film on a semiconductor wafer |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016004831A (en) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 株式会社ディスコ | Package substrate cutting method |
KR20160010309A (en) * | 2014-07-18 | 2016-01-27 | 토와 가부시기가이샤 | Cutting device and cutting method |
JP2016025166A (en) * | 2014-07-18 | 2016-02-08 | Towa株式会社 | Cutting device and cutting method |
KR101643502B1 (en) | 2014-07-18 | 2016-07-27 | 토와 가부시기가이샤 | Cutting device and cutting method |
CN105938808A (en) * | 2015-03-04 | 2016-09-14 | 东和株式会社 | Manufacturing apparatus and manufacturing method |
KR101779701B1 (en) * | 2015-03-04 | 2017-10-10 | 토와 가부시기가이샤 | Manufacturing apparatus and manufacturing method |
JP2019011208A (en) * | 2017-06-29 | 2019-01-24 | 日本電気硝子株式会社 | Method for producing glass resin laminate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101569965B1 (en) | 2015-11-17 |
TW201422396A (en) | 2014-06-16 |
CN103855058B (en) | 2016-09-07 |
JP5897454B2 (en) | 2016-03-30 |
CN103855058A (en) | 2014-06-11 |
TWI551414B (en) | 2016-10-01 |
KR20140071223A (en) | 2014-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5897454B2 (en) | Cutting apparatus and method for manufacturing electronic parts | |
CN1246899C (en) | Semiconductor device | |
US20190237378A1 (en) | Electronic device and method for manufacturing same | |
JP2008288285A (en) | Cutting method of multilayer substrate, manufacturing method of semiconductor device, semiconductor device, light-emitting device, and backlight device | |
US11791448B2 (en) | Light-emitting device and element mounting wiring board | |
SG172318A1 (en) | Cutting device and cutting method for producing electronic parts | |
TWI820221B (en) | Manufacturing method of semiconductor package | |
JP6039512B2 (en) | Cutting apparatus and method for manufacturing electronic parts | |
CN112908985B (en) | Array substrate and display panel | |
CN1532930A (en) | Semiconductor, electronic device and their producing method and electronic instrument | |
JP7060835B2 (en) | Circuit boards, electronic devices, and methods for manufacturing circuit boards | |
JP7325911B2 (en) | Workpiece processing method | |
KR101779701B1 (en) | Manufacturing apparatus and manufacturing method | |
TW201310591A (en) | Semiconductor package and method for fabricating | |
JP7391465B2 (en) | Manufacturing method of packaged chips | |
JP2006245459A (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
TWI750439B (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP2017069489A (en) | Processing method for wafer | |
JP4994148B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JP7179411B2 (en) | Package device manufacturing method | |
JP7190295B2 (en) | Cutting device and package substrate processing method | |
JP7463035B2 (en) | Stacked wafer processing method | |
JP6897659B2 (en) | Light emitting device and manufacturing method of light emitting device | |
TWI462239B (en) | Semiconductor package | |
JP5950561B2 (en) | Processing method of light emitting device package substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160302 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5897454 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |