JP2016025145A5 - データ解析方法及びプラズマエッチング方法並びにプラズマ処理装置 - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明では、データ解析方法において、プラズマを用いて試料をエッチングし、プラズマの発光における波長帯域の中から波長の組合せを作成し、この作成された波長の組合せについてエッチングの時間におけるプラズマの発光強度を求めるための時間区間を設定し、この設定された時間区間の発光強度を用いてエッチングの結果を予測するための第一の予測誤差を作成された波長の組合せの各々について求め、この求められた第一の予測誤差に基づいて波長と時間区間の組合せを選択するようにした。

また、上記課題を解決するために、本発明では、プラズマエッチング方法において、プラズマを用いて試料をエッチングし、プラズマの発光における波長帯域の中から波長の組合せを作成し、この作成された波長の組合せについてエッチングの時間におけるプラズマの発光強度を求めるための時間区間を設定し、この設定された時間区間の発光強度を用いてエッチングの結果を予測するための第一の予測誤差を作成された波長の組合せの各々について求め、この求められた第一の予測誤差に基づいて波長と時間区間の組合せを選択し、この選択された波長と時間区間の組合せにおけるエッチング処理結果の予測値を用いてエッチング処理条件を調整するようにした。

更に、上記課題を解決するために、本発明では、プラズマ処理装置を、プラズマを用いて試料がエッチングにより処理される処理室と、プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、試料が載置される試料台と、プラズマの発光がモニタされるプラズマ発光モニタ部とを備えて構成し、プラズマ発光モニタ部によりモニタされたプラズマの発光における波長帯域の中から波長の組合せが作成され、この作成された波長の組合せについてエッチングの時間におけるプラズマの発光強度を求めるための時間区間が設定され、設定された時間区間の発光強度を用いてエッチングの結果を予測するための第一の予測誤差が作成された波長の組合せの各々について求められ、
この求められた第一の予測誤差に基づいて波長と時間区間の組合せが選択される解析部をさらに備えて構成した。

演算部２１は、図６のＯＥＳデータテーブル２４ａに格納された時間欄２４ｄの時間
区間（図６の例では１から１００）のうち、一様乱数を用いて２点を選択する（Ｓ２０７
−１−２）。選択した時間のうち値の小さいものをＴＳ１、大きいものをＴＥ１とおく（
Ｓ２０７−１−３）。演算部２１は、第３の発光強度平均値として、図６のＯＥＳデー
タテーブル２４ａの発光強度欄２４ｅにて、図７の波長１欄２５ｃの当該行に格納された
波長にて特定される列で、かつ、ＴＳ１からＴＥ１までの時間の行に格納された値の平均
値を算出する（Ｓ２０７−１−４）。

また同様に演算部２１は、ＯＥＳデータテーブル２４ａに格納された時間のうち、一
様乱数を用いて２点を選択する（Ｓ２０７−１−５）。選択した時間のうち値の小さいも
のをＴＳ２、大きいものをＴＥ２とおく（Ｓ２０７−１−６）。演算部２１は、第４の
発光強度平均値として、図６のＯＥＳデータテーブル２４ａの発光強度欄２４ｃにおいて
、図７の波長２欄２５ｄの当該行に格納された波長にて特定される列で、かつ、ＴＳ２か
らＴＥ２までの時間の行に格納された値の平均値を算出する（Ｓ２０７−１−７）。

演算部２１は、Ｒ回算出した予測誤差のうち最も小さいものを、Ｓ２０７−３で図８
の乱数探索結果データテーブル２６ａの予測誤差欄２６ｇの当該行に格納し、Ｓ２０７−
４でその最小値を算出した時間区間を波長１時間区間欄２６ｅ、波長２時間区間欄２６ｆ
に格納する。また、Ｓ２０７−５で探索の対象となった波長の組合せとそのＩＤを、ＩＤ
欄２６ｂ、波長１欄２６ｃ、波長２欄２６ｄに格納する。

（Ｓ２１０）演算部２１は最終探索結果として、図９の最終探索結果データテーブル
２７ａに格納された値と、散布図に関するデータを画面上に出力して処理を終了する。演
算部２１が操作者に提示する出力画面の一例を図１６に示す。

Claims (9)

1. プラズマを用いて試料をエッチングし、
   前記プラズマの発光における波長帯域の中から波長の組合せを作成し、
   前記作成された波長の組合せについて前記エッチングの時間における前記プラズマの発光強度を求めるための時間区間を設定し、
   前記設定された時間区間の発光強度を用いて前記エッチングの結果を予測するための第一の予測誤差を前記作成された波長の組合せの各々について求め、
   前記求められた第一の予測誤差に基づいて波長と時間区間の組合せを選択することを特徴とするデータ解析方法。
2. 請求項１に記載のデータ解析方法において、
   前記選択された波長の組合せに対応する時間区間をさらに探索し、
   前記探索された時間区間の発光強度を用いて前記エッチングの結果を予測するための第二の予測誤差を前記選択された波長の組合せの各々について求め、
   前記求められた第二の予測誤差が最小となる波長と時間区間の組合せを選択することを特徴とするデータ解析方法。
3. 請求項２に記載のデータ解析方法において、
   前記選択された波長と時間区間の組合せおよび前記第二の予測誤差を出力部の画面上に表示することを特徴とするデータ解析方法。
4. プラズマを用いて試料をエッチングし、
   前記プラズマの発光における波長帯域の中から波長の組合せを作成し、
   前記作成された波長の組合せについて前記エッチングの時間における前記プラズマの発光強度を求めるための時間区間を設定し、
   前記設定された時間区間の発光強度を用いて前記エッチングの結果を予測するための第一の予測誤差を前記作成された波長の組合せの各々について求め、
   前記求められた第一の予測誤差に基づいて波長と時間区間の組合せを選択し、
   前記選択された波長と時間区間の組合せにおけるエッチング処理結果の予測値を用いてエッチング処理条件を調整することを特徴とするプラズマエッチング方法。
5. 請求項４に記載のプラズマエッチング方法において、
   前記選択された波長の組合せに対応する時間区間をさらに探索し、
   前記探索された時間区間の発光強度を用いて前記エッチングの結果を予測するための第二の予測誤差を前記選択された波長の組合せの各々について求め、
   前記求められた第二の予測誤差が最小となる波長と時間区間の組合せを選択することを特徴とするプラズマエッチング方法。
6. 請求項５に記載のプラズマエッチング方法において、
   前記選択された波長と時間区間の組合せおよび前記第二の予測誤差を出力部の画面上に表示することを特徴とするプラズマエッチング方法。
7. プラズマを用いて試料がエッチングにより処理される処理室と、前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記プラズマの発光がモニタされるプラズマ発光モニタ部とを備えるプラズマ処理装置において、
   前記プラズマ発光モニタ部によりモニタされた前記プラズマの発光における波長帯域の中から波長の組合せが作成され、
   前記作成された波長の組合せについて前記エッチングの時間における前記プラズマの発光強度を求めるための時間区間が設定され、
   前記設定された時間区間の発光強度を用いて前記エッチングの結果を予測するための第一の予測誤差が前記作成された波長の組合せの各々について求められ、
   前記求められた第一の予測誤差に基づいて波長と時間区間の組合せが選択される解析部をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
8. 請求項７に記載のプラズマ処理装置において、
   前記解析部により、前記選択された波長の組合せに対応する時間区間がさらに探索され、
   前記探索された時間区間の発光強度を用いて前記エッチングの結果を予測するための第二の予測誤差が前記選択された波長の組合せの各々について求められ、
   前記求められた第二の予測誤差が最小となる波長と時間区間の組合せが選択されることを特徴とするプラズマ処理装置。
9. 請求項８に記載のプラズマ処理装置において、
   前記選択された波長と時間区間の組合せおよび前記第二の予測誤差が出力される出力部をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。