JP2017017067A5 - - Google Patents

Claims (25)

1. 試料がプラズマ処理される処理室と、
   プラズマの発光データを取得するプロセスモニタと、
   前記発光データを解析するデータ解析装置とを備えるプラズマ処理装置において、
   前記データ解析装置は、解析対象の前記プラズマのエレメントに対応する発光の波長毎に前記プラズマ処理の時間を分割して区切られた時間区間の各々に対して前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関データを求め、前記求められた相関データを指標として前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせを特定することを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
   前記データ解析装置は、
   前記試料の所定枚数のプラズマ処理を一単位とするロット毎に前記相関データを求めることを特徴とするプラズマ処理装置。
3. 請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
   前記相関データは、前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関の方向に対応するデータを含み、
   前記データ解析装置は、前記エレメントの中から前記相関の方向が一致するエレメントを特定することを特徴とするプラズマ処理装置。
4. 請求項３に記載のプラズマ処理装置において、
   前記データ解析装置は、外乱により前記発光強度が変化する時間区間を前記解析対象の時間区間から除外して前記相関データを求めることを特徴とするプラズマ処理装置。
5. 請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
   前記発光強度は、前記時間区間における前記発光強度の平均値であることを特徴とするプラズマ処理装置。
6. 請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
   前記解析対象の時間区間は、前記プラズマの発光強度が安定した状態の安定区間を分割して区切られた時間区間であることを特徴とするプラズマ処理装置。
7. 請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
   前記特定された、前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせに基づいたRun−to−Run制御を行う制御部をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
8. 請求項７に記載のプラズマ処理装置において、
   前記制御部は、前記発光強度の平均値が閾値を超えた場合、アラームを発することを特徴とするプラズマ処理装置。
9. 請求項７に記載のプラズマ処理装置において、
   前記制御部は、前記特定された、前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせにおける波長の発光強度の平均値と、予め定められた発光強度の目標値と、の差分が所定の差分以下となるようにプラズマ処理条件を構成するパラメータを制御するアクチュエータを駆動させることを特徴とするプラズマ処理装置。
10. 試料がプラズマ処理されるプラズマ処理装置から得られたプラズマの発光データが解析される演算部とデータが入出力される入出力部とを備えるデータ解析装置において、
    前記演算部は、解析対象の前記プラズマのエレメントに対応する発光の波長毎に前記プラズマ処理の時間を分割して区切られた時間区間の各々に対して前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関データを求め、前記求められた相関データを指標として前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせを特定し、
    前記入出力部は、前記特定された、前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせを出力することを特徴とするデータ解析装置。
11. 請求項１０に記載のデータ解析装置において、
    前記演算部は、前記試料の所定枚数のプラズマ処理を一単位とするロット毎に前記相関データを求めることを特徴とするデータ解析装置。
12. 請求項１０に記載のデータ解析装置において、
    前記相関データは、前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関の方向に対応するデータを含み、
    前記演算部は、前記エレメントの中から前記相関の方向が一致するエレメントを特定することを特徴とするデータ解析装置。
13. 請求項１１に記載のデータ解析装置において、
    前記発光強度は、前記時間区間における前記発光強度の平均値であることを特徴とするデータ解析装置。
14. プラズマを用いて試料を処理するプラズマ処理方法において、
    前記プラズマのエレメントに対応する発光の波長毎に前記処理の時間を分割して区切られた時間区間の各々に対して前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関データを求める工程と、
    前記求められた相関データを指標として前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせを特定する工程と、
    前記特定された、前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせに基づいたRun−to−Run制御を行う工程とを有することを特徴とするプラズマ処理方法。
15. 請求項１４に記載のプラズマ処理方法において、
    前記試料の所定枚数の処理を一単位とするロット毎に前記相関データを求めることを特徴とするプラズマ処理方法。
16. 請求項１４に記載のプラズマ処理方法において、
    前記相関データは、前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関の方向に対応するデータを含み、
    前記エレメントの中から前記相関の方向が一致するエレメントが特定されることを特徴とするプラズマ処理方法。
17. 請求項１６に記載のプラズマ処理方法において、
    外乱により前記発光強度が変化する時間区間を前記時間区間から除外して前記相関データを求めることを特徴とするプラズマ処理方法。
18. 請求項１５に記載のプラズマ処理方法において、
    前記発光強度は、前記時間区間における前記発光強度の平均値であることを特徴とするプラズマ処理方法。
19. 請求項１５に記載のプラズマ処理方法において、
    前記時間区間は、前記プラズマの発光強度が安定した状態の安定区間を分割して区切られた時間区間であることを特徴とするプラズマ処理方法。
20. 請求項１４に記載のプラズマ処理方法において、
    前記発光強度の平均値が閾値を超えた場合、アラームを発することを特徴とするプラズマ処理方法。
21. 請求項１４に記載のプラズマ処理方法において、
    前記特定された、前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせにおける波長の発光強度の平均値と、予め定められた発光強度の目標値と、の差分が所定の差分以下となるようにプラズマ処理条件を構成するパラメータを制御するアクチュエータを駆動させる工程をさらに有することを特徴とするプラズマ処理方法。
22. 試料がプラズマ処理されるプラズマ処理装置から得られたプラズマの発光データを解析するデータ解析方法において、
    解析対象の前記プラズマのエレメントに対応する発光の波長毎に前記プラズマ処理の時間を分割して区切られた時間区間の各々に対して前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関データを求める工程と、
    前記求められた相関データを指標として前記エレメントに対応する発光の波長と前記時間区間との組み合わせを特定する工程とを有することを特徴とするデータ解析方法。
23. 請求項２２に記載のデータ解析方法において、
    前記相関データは、前記試料の所定枚数のプラズマ処理を一単位とするロット毎に求められることを特徴とするデータ解析方法。
24. 請求項２２に記載のデータ解析方法において、
    前記相関データは、前記エレメントに対応する発光の波長の発光強度と前記試料の処理枚数との相関の方向に対応するデータを含み、
    前記エレメントの中から前記相関の方向が一致するエレメントが特定されることを特徴とするデータ解析方法。
25. 請求項２３に記載のデータ解析方法において、
    前記発光強度は、前記時間区間における前記発光強度の平均値であることを特徴とするデータ解析方法。