JP2016021355A - 接点接続方法および当該接点接続方法を用いて接続された接点接続構造 - Google Patents
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Abstract
【課題】端子を大型化したり、構造を極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減することのできる接点接続方法および接点接続構造を得る。
【解決手段】接点接続構造は、弾性撓み部31aを有し、表面にメッキ層Cが形成された第1接点部31と、表面にメッキ層Cが形成された第2接点部51と、を備え、第1接点部31の弾性撓み部31aが第2接点部51の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、弾性撓み部31aの少なくとも一部である接触部31bが第2接点部51を押圧して接触するようになっている。そして、端子挿入前に、第1接点部31の接触部31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置で接触部31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dのうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施すようにした。
【選択図】図10
【解決手段】接点接続構造は、弾性撓み部31aを有し、表面にメッキ層Cが形成された第1接点部31と、表面にメッキ層Cが形成された第2接点部51と、を備え、第1接点部31の弾性撓み部31aが第2接点部51の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、弾性撓み部31aの少なくとも一部である接触部31bが第2接点部51を押圧して接触するようになっている。そして、端子挿入前に、第1接点部31の接触部31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置で接触部31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dのうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施すようにした。
【選択図】図10
Description
本発明は、接点接続方法および当該接点接続方法を用いて接続された接点接続構造に関する。
従来から種々提案されている端子は、特許文献1や、図12〜15に示すようなメス端子300とオス端子500が提案されている。
図12,13に示すように、メス端子300は、四角形状の箱部301と、この箱部301に設けられ、箱部301内に配置された弾性撓み部301aとを有している。
弾性撓み部301aには、底面側に向かって突出するインデント部301bが設けられている。
インデント部301bは、外周面がほぼ球面形状であり、中心の頂点が最下方に位置している。
また、メス端子300には、高温環境下での接続信頼性の向上、腐食環境下での耐食性の向上等の観点から錫メッキが施されている。
オス端子500は、平板状のタブ部501を有している。オス端子500には、高温環境下での接続信頼性の向上、腐食環境下での耐食性の向上等の観点から錫メッキが施されている。
このような端子では、図13に示すように、オス端子500のタブ部501をメス端子300の箱部301に挿入すると、弾性撓み部301aが撓み変形してタブ部501の挿入が許容される。
タブ部501の挿入過程では、タブ部501が弾性撓み部301aのインデント部301b上を摺動し、端子挿入完了位置では、図13,14に示すように、弾性撓み部301aのインデント部301bとタブ部501の面が接触する。
この従来例では、弾性撓み部301aの撓み復帰力を接触荷重として、メス端子300のインデント部301bとオス端子500のタブ部501の接触面とが電気的に接触する。そして、この接触面を電流が流れることによってメス端子300とオス端子500間が通電する。
ところで、弾性撓み部301aとタブ部501の外面には、全域に亘って錫メッキ処理が施されている。両端子を錫メッキし、さらにリフロー処理を行うことで、図15に示すように、銅合金材の母材層Aの外面側に銅/錫合金層B、錫メッキ層Cが形成されるとともに、錫メッキ層Cの外面に酸化膜Dが生成されている。
酸化膜Dは、錫や銅に比べて電気比抵抗が非常に高いため、酸化膜Dを破壊して錫メッキ層C同士の接触面(オーミック点)を多く作り、接触抵抗の低減を図る必要がある。
そして、従来の接点接続構造では、インデント部とタブ部の接触面間の接触荷重によって酸化膜を破壊し、酸化膜の破壊された箇所において、インデント部とタブ部のメッキ金属同士の接触が得られるようにしている。
しかしながら、従来例において説明した端子では、酸化膜の破壊を促進させるために接点部間の接点圧力を大きくすることが考えられるが、両端子が大型化したり構造が複雑になってしまうという課題があった。
そこで、本発明は、上述した課題を解決するために、端子を大型化したり、構造を極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減することのできる接点接続方法および接点接続構造を得ることを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明では、弾性撓み部を有し、表面にメッキ層が形成された第1接点部と、表面にメッキ層が形成された第2接点部と、を備え、前記第1接点部の前記弾性撓み部が前記第2接点部の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、前記弾性撓み部の少なくとも一部である接触部が前記第2接点部を押圧して接触する接点接続方法であって、端子挿入前に、前記第1接点部の前記接触部の表面に形成される酸化膜、および、前記第2接点部における端子挿入完了位置で前記接触部が接触する領域表面に形成される酸化膜のうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜にショットピーニング加工を施す工程を有することを特徴としている。
また、本発明の接点接続構造は、上記接点接続方法を用いて接続されていることを特徴としている。
本発明によれば、端子を大型化したり、構造を極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減することのできる接点接続方法および接点接続構造を得ることができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本実施形態にかかるコネクタ10は、図7および図8に示すように、オスコネクタ部20とメスコネクタ部40とで構成されている。
オスコネクタ部20は、図1〜図3に示すように、第1コネクタハウジングであるオスコネクタハウジング21を備えている。このオスコネクタハウジング21内には、複数の端子収容室22が設けられている。そして、各端子収容室22の前方側には、相手端子挿入口22aが設けられている。一方、各端子収容室22の後方側には、電線引出口22bが設けられている。
また、各端子収容室22には、第1端子であるメス端子30が収容されている。メス端子30は、電線引出口22bから端子収容室22に挿入されるものである。そして、このメス端子30は、端子収容室22の所定位置で固定されている。
また、メス端子30は、表面に錫メッキが施されており、箱部(第1接点部)31と電線圧着部32とを備えている。
箱部31は、前方が開口された方形状に形成されおり、上面が内方へ折り曲げられて形成される弾性撓み部31aと、下面から上面へ向けて突設する底面部31cとを備えている。
弾性撓み部31aは、弾性を有しており、箱部31の上面から下面へ向けて傾斜して形成されている。また、弾性撓み部31aの表面には、底面側へ向けて突出するインデント部31bが形成されている。
インデント部31bは、弾性撓み部31aから球面状に突出しており、中心位置が球面状の最下方に位置している。インデント部31bは、弾性撓み部31aに形成されているため、上下方向へ変位可能である。
底面部31cは、インデント部31bと略対向する位置に所定の間隔を空けて形成されており、底面部31cと、インデント部31bとの間にオス端子50が挿入されるようになっている。
また、電線圧着部32には、電線Wの端部が圧着によって接続されている。具体的には、電線Wは、芯材部W1と被覆部W2とを備えており、電線Wの端部の芯材部W1を露出させた状態で電線圧着部32を圧着させることで、箱部31が電線Wに電気的に接続されるようにしている。
オスコネクタハウジング21の上面には、係止部である係止突部23が突設されている。係止突部23は、オスコネクタ嵌合方向Mの先端側がテーパ面23aに、オスコネクタ嵌合方向Mの後端側が垂直面23bにそれぞれ形成されている。テーパ面23aは、コネクタ10の嵌合開始からコネクタ嵌合位置までの嵌合過程で、係止突部23のスムーズな移動を行うためのガイド面として機能するものである。一方、垂直面5bは、コネクタ嵌合位置では係止面として機能するものである。
メスコネクタ部40は、図4〜図6に示すように、第2コネクタハウジングであるメスコネクタハウジング41を備えている。メスコネクタハウジング41は、ハウジング本体部42と、このハウジング本体部42の前方側に一体に設けられたフード部43と、を備えている。
ハウジング本体部42内には、複数の端子収容室44が設けられている。そして、各端子収容室44の前方側には、端子突出口44aが設けられている。一方、各端子収容室44の後方側には、電線引出口44bが設けられている。
また、各端子収容室44には、第2端子であるオス端子50が収容されている。このオス端子50は、電線引出口44bから端子収容室44に挿入されるものである。そして、このオス端子50は、端子収容室44の所定位置で固定されている。
また、オス端子50は、表面に錫メッキが施されており、タブ部(第2接点部)51と電線圧着部52とを備えている。
タブ部51は箱体51aより前方に突出しており、端子突出口44aよりフード部43内に突出されている。そして、このタブ部51は、先端がメス端子30の底面部31cとインデント部31bとの間に挿入されるものである。
また、電線圧着部52には、電線Wの端部が圧着によって接続されている。具体的には、電線Wは、芯材部W1と被覆部W2とを備えており、電線Wの端部の芯材部W1を露出させた状態で電線圧着部52を圧着させることで、タブ部51が電線Wに電気的に接続されるようにしている。
フード部43の内部には、前方面側が開口されたコネクタ嵌合室45が形成されている。そして、コネクタ嵌合室45には、前方の開口よりオスコネクタハウジング21が嵌合されるようになっている。
フード部43の上面部には、フード部43の開口端に達する一対のスリット46によって撓みアーム部47が一体に設けられている。この撓みアーム部47は、一対のスリット46によってフード部43に対して撓み変形可能となるように形成されている。また、撓みアーム部47には、被係止部である係止穴48が形成されている。そして、コネクタ10の嵌合位置では、係止穴48に係止突部23が係止されることによって双方のコネクタハウジング21,41間がロックされるようになっている。つまり、係止穴48と係止突部23とでコネクタロック手段が構成されている。
なお、撓みアーム部47にはテーパ面47aが形成されており、このテーパ面47aを設けることで形成された隙間に図示せぬ解除用治具を挿入することで、嵌合したコネクタ10の解除作業が行われる。
係止穴48は、オスコネクタ嵌合方向Mの後端側が垂直面48bに形成されており、この垂直面48bは、コネクタ嵌合位置では係止面として機能するものである。
次に、コネクタ10の嵌合動作を説明する。
まず、オスコネクタハウジング21をメスコネクタハウジング41のコネクタ嵌合室45に挿入する。すると、オスコネクタハウジング21の係止突部23がメスコネクタハウジング41の撓みアーム部47の前端面に突き当たる。
この状態より更にオスコネクタハウジング21を挿入すると、係止突部23のテーパ面23aによって撓みアーム部47の前端側が上方に徐々に撓み変形し、上方に撓み変形した撓みアーム部47の下方を係止突部23が移動して、オスコネクタハウジング21がコネクタ嵌合室45に徐々に挿入される。
そして、オスコネクタハウジング21がコネクタ嵌合室45のコネクタ嵌合位置まで挿入されると、各メス端子30と各オス端子50が適正な接触状態となり、且つ、係止突部23と係止穴48の位置が一致する。これにより、撓みアーム部47が撓み復帰変形して係止突部23が係止穴48に係止される。
こうして、図7および図8に示すように、コネクタ10が嵌合状態となり、完了する。このようなコネクタ10の嵌合状態にあっては、オスコネクタハウジング21側の係止突部23の垂直面23bとメスコネクタハウジング41側の係止穴48の垂直面48bが対向配置される。そして、この係止力がコネクタ10の嵌合力となり、コネクタ10間がロックされる。
このとき、図9に示すように、弾性撓み部31aが撓み変形した状態で、オス端子50のタブ部51がメス端子30の箱部31に挿入される。
このタブ部51の挿入過程では、タブ部51が弾性撓み部31aのインデント部31b上を摺動し、端子挿入完了位置では、図9に示すように、弾性撓み部31aのインデント部31bとタブ部51の面が接触する。
そして、かかる状態で、弾性撓み部31aの撓み復帰力を接触荷重として、メス端子30のインデント部31bとオス端子50のタブ部51の接触面とが電気的に接触する。そして、この接触面を電流が流れることによってメス端子30とオス端子50間が通電する。
このように、本実施形態にかかる接点接続構造は、箱部(第1接点部)31の弾性撓み部31)aがタブ部(第2接点部)51の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、弾性撓み部31aの少なくとも一部であるインデント部(接触部)31bが第2接点部51を押圧して接触するようにしたものである。
ところで、弾性撓み部31aとタブ部51の外面には、全域に亘って錫メッキ処理が施されており、銅合金材の母材層Aの外面側に銅/錫合金層B、錫メッキ層Cが形成されるとともに、錫メッキ層Cの外面に酸化膜Dが生成されている(図15参照)。
この酸化膜Dは、錫や銅に比べて電気比抵抗が非常に高いため、酸化膜D同士を接触させたとしても良好な電気的接続を得ることができない。
したがって、インデント部31bとタブ部51の接触面間の接触荷重によってこの酸化膜Dを破壊して、酸化膜Dの破壊された箇所において、インデント部31bとタブ部51のメッキ金属同士を接触させて、より良好な電気的接続を得られるようにするのが一般的である。
このとき、酸化膜Dの破壊をより促進させることができるようにするのが好ましい。
そこで、本実施形態では、酸化膜Dの破壊をより促進させることができるようにした。
具体的には、端子挿入前に、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dのうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施すようにした。
ショットピーニング加工としては、公知の方法を用いることができる。例えば、図10に示すように、投射ノズル60からショット粒(所定の粒径を有する鋼球)61を、第1接点部31および第2接点部51の上述の箇所に噴射させるようにすることができる。なお、図10では、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施したものを例示している。
こうすることで、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dのうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜Dに、機械的ダメージが与えられることとなる。
なお、端子挿入前に、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dの両方にショットピーニング加工を施すようにするのが好ましい。こうすれば、酸化膜Dの破壊をより促進させることができるようになる。
また、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施す場合、少なくとも、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面にショットピーニング加工が施されていればよく、この範囲に限定されるものではない。すなわち、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施す場合、インデント部(接触部)31bを含む広範囲にわたってショットピーニング加工を施すことも可能である。
同様に、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施す場合、少なくとも、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面にショットピーニング加工が施されていればよく、この範囲に限定されるものではない。すなわち、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施す場合、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面を含む広範囲にわたってショットピーニング加工を施すことも可能である。
次に、メス端子30とオス端子50とが電気的に接続される状態の一例を説明する。
まず、オス端子50のタブ部51をメス端子30の箱部31の開口側から挿入する。このとき、箱部31の開口から挿入されたタブ部51は、インデント部31bと底面部31cとの間に挿入されることとなる。また、タブ部51がインデント部31bと底面部31cに摺動し、弾性撓み部31aを上方へ押し上げてインデント部31bと底面部31cとが離間する方向へ弾性変形することとなる。
さらに、タブ部51をメス端子30に挿入すると、タブ部51が図9に示す端子挿入完了位置に達する。
このように、端子挿入完了位置までタブ部51が挿入された状態では、弾性撓み部31aに撓み復帰力が発生しており、この撓み復帰力によってインデント部31bとタブ部51の接触面間に接触荷重が働くこととなる。
そして、インデント部31bとタブ部51の接触面間の接触荷重によって酸化膜Dが破壊され、酸化膜Dの破壊された箇所において、インデント部31bとタブ部51のメッキ金属同士の接触が得られ、メス端子30とオス端子50とが電気的に接続される。
このとき、本実施形態では、端子挿入前に、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dに、機械的ダメージを与えている。したがって、酸化膜Dにひび割れが生じやすくなって、メッキ層Cが酸化膜Dの隙間から表面に侵入しやすくなる(図11参照)。
このように、メッキ層Cが酸化膜Dの隙間から表面に侵入しやすくなることで、図11に示すように、メッキ層C同士(インデント部31bとタブ部51のメッキ金属同士)の接触面積をより増大させることができ、より良好な電気的接続を得ることができるようになる。
以上説明したように、本実施形態の接点接続方法は、端子挿入前に、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dのうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜Dにショットピーニング加工を施す工程を有している。
こうすることで、第1接点部31のインデント部(接触部)31bの表面に形成される酸化膜D、および、第2接点部51における端子挿入完了位置でインデント部(接触部)31bが接触する領域表面に形成される酸化膜Dのうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜Dに機械的ダメージが与えられる。
そして、かかる状態で、タブ部51をメス端子30に挿入する(オス端子50とメス端子30とを嵌合させる)ようにすることで、酸化膜Dにひび割れが生じやすくなって、メッキ層Cが酸化膜Dの隙間から表面に侵入しやすくなる。
その結果、メッキ層C同士(インデント部31bとタブ部51のメッキ金属同士)の接触面積をより増大させることができ、より良好な電気的接続を得ることができるようになる。
また、このような接点接続方法を用いることで、端子を大型化したり、極力複雑化することなく、接触抵抗を低減することのできる接点接続構造を得ることができる。特に、本実施形態によれば、接点部間の接点圧力が小さくなってしまったとしても、酸化膜Dを破壊することができるようになるため、端子の小型化を図り易くなるという利点がある。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。
例えば、上記実施形態では、弾性撓み部31aとタブ部51の表面に錫メッキ層が形成されたものを例示しているが、錫以外の酸化膜が形成されるメッキ層が形成されるようにしてもよい。この場合でも上記実施形態と同様の作用、効果を得ることができる。
また、上述した領域以外の領域に形成された酸化膜Dにもショットピーニング加工を施すようにしてもよい。
また、インデント部31bが設けられていない第1接点部31とすることも可能である。
31 箱部(第1接点部)
31a 弾性撓み部
31b インデント部(接触部)
51 タブ部(第2接点部)
C メッキ層
D 酸化膜
31a 弾性撓み部
31b インデント部(接触部)
51 タブ部(第2接点部)
C メッキ層
D 酸化膜
Claims (2)
- 弾性撓み部を有し、表面にメッキ層が形成された第1接点部と、表面にメッキ層が形成された第2接点部と、を備え、前記第1接点部の前記弾性撓み部が前記第2接点部の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、前記弾性撓み部の少なくとも一部である接触部が前記第2接点部を押圧して接触する接点接続方法であって、
端子挿入前に、前記第1接点部の前記接触部の表面に形成される酸化膜、および、前記第2接点部における端子挿入完了位置で前記接触部が接触する領域表面に形成される酸化膜のうち少なくともいずれか一方の領域に形成される酸化膜にショットピーニング加工を施す工程を有することを特徴とする接点接続方法。 - 請求項1に記載の接点接続方法を用いて接続されたことを特徴とする接点接続構造。
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Legal Events
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