JP2016009844A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体装置のインピーダンスコントロールを実現できるようにする。【解決手段】入出力配線23および接地配線22は、ブラスト加工、または放電加工により、ストリップライン構造を形成するように貫通孔を設け、その後、表裏から金属膜を形成する。入出力配線23の導体径、並びに、入出力配線23および接地配線22間の絶縁層厚を調整することで、インピーダンスコントロールした半導体装置を構成することが可能となる。本技術は、半導体装置に適用することができる。【選択図】図1
Description
本技術は、半導体装置および半導体装置の製造方法に関し、特に、インピーダンスコントロールを実現できるようにした半導体装置および半導体装置の製造方法に関する。
半導体装置を構成する上で必要となる基板(インタポーザ)としては、これまでシリコン(Si)を採用するものが多かった。
しかしながら、シリコン(Si)は、材質としては高価であるため、安価なガラス基板で代用する技術が提案されている。
ところが、ガラス基板を利用する場合、0.3乃至0.5mm程度のガラス基板を数枚積層するため、伝送ロスが懸念される。
この伝送ロスの対策としては、有機基板を用いる場合、ドリルを使って同軸構造やマイクロストリップライン構造を形成する技術が提案されている(特許文献1,2参照)。
また、同様の対策として、シリコン基板を用いる場合、Deep RIEによりマイクロストリップライン構造を一括に形成する技術が提案されている(特許文献3参照)。
ところで、上述した特許文献1,2の技術においては、同軸構造およびマイクロストリップライン構造を形成するにあたって、いずれも1穴ごとの加工が必要となるため、工数付加が高く、そもそもCTE(熱膨張係数)ミスマッチなどの観点から有機基板自体を使うことが困難である。このため、この技術を、ガラス基板を使うデバイスに適応すること自体にかなりの困難が伴う恐れがある。
また、特許文献3の技術であるDeep RIEでマイクロストリップライン構造を形成する工法をガラス基板に適応することは、ガラス基板のエッチングレートが非常に低いため困難である。また、ガラス基板の積層に縦方向のマイクロストリップライン構造が必要となる層のみにシリコン基板を使うことで課題を回避することは可能であるが、ガラス基板とシリコン基板とを混在させること自体が容易ではなく、また、シリコン基板自体を使うことで結果としてコストアップしてしまう恐れがある。
本技術は、このような状況に鑑みてなされたものであり、特に、簡易な方法で、ガラス基板を用いた半導体装置におけるインピーダンスコントロールを実現できるようにするものである。
本技術の一側面の半導体装置は、ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線とを含む。
1本の前記電極配線を挟んで、略並行に2本の前記接地配線が配設されるようにすることができる。
前記電極配線および前記接地配線は、ストリップライン構造を形成するようにさせることができる。
1本の前記電極配線と、前記電極配線より所定の距離だけ離れた直線状に1本の前記接地配線とが配設されるようにすることができる。
前記電極配線および前記接地配線は、マイクロストリップライン構造を形成するようにさせることができる。
前記貫通孔は、放電加工、またはブラスト加工により形成されるようにすることができる。
前記電極配線を構成する貫通孔の断面は円形とすることができる。
前記接地配線を構成する貫通孔の断面のうち、前記電極配線と対向する端部は前記電極配線の貫通孔の断面の円形に対応する、曲面状の凹部とすることができる。
前記電極配線を構成する貫通孔の断面は方形とすることができる。
前記ガラス基板上に半導体チップが積層されて構成されるようにすることができる。
前記ガラス基板上にプロセッサチップが積層されて構成されるようにすることができる。
同一の前記ガラス基板上に、プロセッサチップとメモリチップとが隣接した状態で積層されて構成されるようにすることができる。
前記ガラス基板が複数枚数積層されて構成されるようにすることができる。
本技術の一側面の半導体装置の製造方法は、ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線とを含む半導体装置の製造方法であって、前記ガラス基板に前記電極配線、および前記接地配線のそれぞれの前記貫通孔を形成し、前記ガラス基板の表面および裏面に、前記貫通孔に金属を充填するように金属製の薄膜を形成し、前記貫通孔近傍以外の薄膜を除去するステップを含む。
本技術の一側面によれば、ガラス基板を用いた半導体装置におけるインピーダンスコントロールを実現することが可能となる。
<本技術を適用した半導体装置の構成>
図1は、本技術を適用した半導体装置の構成を示す図であり、図1の上部は、半導体装置のガラス基板(インタポーザ)の側面断面図(深さ方向の断面図)であり、図1の下部は、図1の上部の直線Lで示される平面を図中の上部からみた断面図(平面方向断面図)である。
図1は、本技術を適用した半導体装置の構成を示す図であり、図1の上部は、半導体装置のガラス基板(インタポーザ)の側面断面図(深さ方向の断面図)であり、図1の下部は、図1の上部の直線Lで示される平面を図中の上部からみた断面図(平面方向断面図)である。
図1の上部で示されるように、図中の上面には、配線21が設けられており、図中の下面には配線24−1乃至24−3が設けられている。尚、配線24−1乃至24−3は、3本の例について示されているが、配線24−1乃至24−3以外の数であってもよい。また、以降において、配線24−1乃至24−3について、特に区別する必要がない場合、単に、配線24と称するものとし、その他の構成についても同様に称するものとする。さらに、ガラス基板11の板厚に対する方向を深さ方向と称するものとし、深さ方向に対して垂直をなす、ガラス基板11の面に対する方向を平面方向と称するものとする。
図1の半導体装置には、配線24−2に対して電気的に接続された入出力配線(IO)23−1乃至23−3および接地配線(GND)22−1,22−2が設けられている。入出力配線23および接地配線22は、いずれもガラス基板11の深さ方向の貫通孔(TGV:Through Glass Via)として形成されている。また、図1で示されるように、接地配線(GND)22−1,22−2は、ガラス基板11の平面方向に対して、図1の下部で示されるように、所定の間隔で所定の方向に長い(図中では水平方向に所定の間隔で、垂直方向に長い)貫通孔(TGV)として形成されている。これに対して、入出力配線(IO)24−1乃至24−3は、接地配線22−1,22−2間であって、所定の方向に対して所定の間隔で(図中では垂直方向に対して所定の間隔で)、平面方向の断面が円形の貫通孔(TGV)として形成されている。
このように入出力配線23は、平面方向に、所定の方向に長く形成された2本の接地配線22の間に、所定の間隔で形成されることにより、板状誘電体基板の内部の線状の導体箔により形成され、電磁波を伝達する伝送路であるストリップライン構造が形成されている。尚、図1の下部においては、点線で囲まれた構造SLをストリップライン構造SLと称する。
このストリップライン構造SLにより、図1の下部で示されるように、入出力配線23と接地配線22とを調整することによりインピーダンスを設定することが可能となる。より詳細には、インピーダンスは、図1の下部で示されるように、入出力配線23を形成する導体径と、入出力配線23および接地配線22間の絶縁層厚に応じたものとなる。図1の下部においては、入出力配線23と接地配線22との最短絶縁層厚a1と最長絶縁層厚a2とが示されている。
また、接地配線22および入出力配線23は、所望とするインピーダンスに応じた入出力配線23の導体径と接地配線22および入出力配線23間の絶縁層厚とにより設定される配置で、例えば、放電加工、またはブラスト加工により形成された貫通孔(TGV)内に金属が充填されることにより形成される。
<製造処理>
次に、図2のフローチャートを参照して、図1の半導体装置の製造処理について説明する。
次に、図2のフローチャートを参照して、図1の半導体装置の製造処理について説明する。
ステップS11において、今現在想定されている入出力配線23の導体径と、入出力配線23および接地配線22との距離で配置される、半導体装置のインピーダンスコントロールにおける許容幅を計算する。
入出力配線23の導体径と、入出力配線23および接地配線22との距離である絶縁層厚との関係は、インピーダンスごとに、図3の下部で示されるような関係となる。すなわち、同一のインピーダンスを設定する場合、絶縁層厚aは、導体径bに比例して大きくなり、さらに、インピーダンスが高いほど、絶縁層厚aが大きくなる。尚、図3の上部においては、ストリップライン構造における、入出力配線23の導体径をbとして、入出力配線23および接地配線22との距離である絶縁層厚をaとして定義している。また、図3の下部は、入出力配線23の導体径(um)bを横軸とし、絶縁層厚(um)aを縦軸としたときの40,50,60オームのそれぞれのインピーダンスごとの関係を示している。
このような関係からインピーダンスコントロールの許容幅が算出される。
ステップS12において、インピーダンスコントロールの許容幅が公差内であるか否かが判定される。
ステップS12において、公差内ではないとみなされた場合、処理は、ステップS13に進む。
ステップS13において、入出力配線23および接地配線22との距離、および位置関係等の調整量を設定する。
ステップS14において、調整量が調整可能なものであるか否かが判定される。すなわち、物理的に調整不能であるか否かが判定される。
ステップS14において、調整量が許容幅を超えてしまっていて、調整が不能であると判定された場合、ステップS15において、許容幅が公差内ではないので、設計不能であるものとみなし、製造処理は、半導体装置を製造することなく処理が終了される。
ステップS14において、調整可能であるとみなされた場合、処理は、ステップS11に戻り、ステップS13により設定された調整量で、入出力配線23の導体径と、入出力配線23および接地配線22との距離で配置とが変更されて、それ以降の処理が繰り返される。すなわち、公差内であり、設計に問題がないとみなされるまで、ステップS11乃至S14の処理が繰り返されて、入出力配線23の導体径と、入出力配線23および接地配線22との距離で配置が変更されながら、インピーダンスコントロールの許容幅が交差内であるか否かが判定され続ける。
そして、ステップS14において、インピーダンスコントロールの許容幅が公差内であり、設計に問題がないとみなされた場合、処理は、ステップS16に進む。
ステップS16において、インタポーザであるガラス基板11に対して、上述したインピーダンスコントロールの公差内であるとみなされた、入出力配線23の導体径と、入出力配線23および接地配線22との距離で配置とで、入出力配線23および接地配線22に対応する貫通孔(TGV)を形成する。
例えば、安価で低コストなブラスト加工の場合、図4の最上段で示されるように、ガラス基板11の図中の上面より、ブラスト加工によりガラス基板11の厚さの略半分まで穴51が開けられる。
次に、図4の2段目で示されるように、ガラス基板11の図中の下面より、ブラスト加工によりガラス基板11の残りの半分の厚さの穴52が開けられる。
このような処理により、図4の2段目で示されるような、穴51,52により、貫通孔(TGV)が形成される。
ステップS17において、上述したように開けられた貫通孔(TGV)に金属が充填されて電極が形成される。
すなわち、図4の上から3段目で示されるように、穴51に金属を充填するように、ガラス基板11の図中の上面に金属膜53が形成される。
次に、図4の上から4段目で示されるように、穴52に金属を充填するように、ガラス基板11の図中の下面に金属膜54が形成される。
そして、図4の最下段で示されるように、貫通孔が設けられた領域の金属膜53,54のみが、残されるようにドライエッチング等により処理がなされる。
このような処理により、図4の最下段で示されるような、貫通電極が形成される。すなわち、このような貫通電極が形成されることにより、入出力配線23および接地配線22が形成される。
結果として、インピーダンスコントロールが可能な半導体装置を製造することが可能となる。尚、貫通孔を形成するには、このほかに放電加工などにより形成するようにしてもよく、これにより従来のメカニカルドリルやレーザ加工などにより形成されるよりも安価で低コストなものとすることが可能となる。もちろん、メカニカルドリルやレーザ加工により貫通孔を形成するようにしてもよい。
<ブラスト加工におけるインピーダンスコントロールについて>
以上においては、インピーダンスコントロールにおける許容幅を算出するにあたっては、ブラスト加工により、TGVに発生する形状の影響が考慮されていないため、これを考慮するようにしてもよい。
以上においては、インピーダンスコントロールにおける許容幅を算出するにあたっては、ブラスト加工により、TGVに発生する形状の影響が考慮されていないため、これを考慮するようにしてもよい。
すなわち、ブラスト加工においては、図5の最上部の上段で示されるように、穴部にテーパが発生する。すなわち、ブラスト加工は、表面に研磨剤を吹き付けて穴を彫り込む加工であるが、これが故に、表面に近い部分については開口径が大きいが、深さ方向に穴を掘り進むにあたって、徐々に開口径が小さくなる。これにより、図5の左上部で示されるように、厚さ方向に対して所定の角度θからなるテーパが発生する。
図5の最上部の上段における直線A,Bにおける平面方向の断面形状は、それぞれ図5の最上部の点線以下の中段および下段で示されるようなものとなる。すなわち、図5の最上部の点線以下の中段および下段で示されるように、表面に近いほど入出力配線23の導体径がより太く、また、接地配線22の平面方向の厚さがより厚くなるので、絶縁層厚がより薄くなる。逆に、表面に深いほど入出力配線23の導体径がより細く、また、接地配線22の平面方向の厚さがより薄くなるので、絶縁層厚がより厚くなる。
従って、深さ毎に、これらの導体径および電極の太さ(厚さ)、並びに絶縁層厚を考慮することで、より高い精度でインピーダンスコントロールを実現することができる。
例えば、図5の中部は、インピーダンスと共に、導体径および絶縁層厚を表面からの深さに応じて考慮したときの関係を示している。
尚、図5の中部においては、図3における40,50,60オームそれぞれのインピーダンスにおける導体径と絶縁層厚との関係が示されたものである。さらに、図5の下部は、図5の上部の最上段で示されるテーパθが30°であって、かつ、ガラス基板11のガラスの比誘電率εrが4.6である場合の、入出力配線23と接地配線22との中心間距離L、ガラス基板11の厚さd、および表面の導体径rを、図5の右下部で示される条件1乃至7の7種類の条件に変化させたときの深さ方向への変化が示されている。
例えば、条件7の場合、導体径rは200(um)であり、ガラス基板11の厚さdが130(um)であり、電極の中心間距離Lが500(um)であり、テーパθが30°であるので、深さが進むにつれて導体径が徐々に小さくなると共に、絶縁層厚が大きくなるので、ガラス基板11における深さに応じて、ひし形で示される直線状に導体径と絶縁層厚との関係が変化することが示されている。尚、条件1乃至6についても同様である。
従って、このような考慮をすることで、より高い精度でインピーダンスコントロールすることが可能となる。
<入出力配線および接地配線の電極形状について>
以上においては、入出力配線23がガラス基板11の厚さ方向が変化しても、平面方向の形状が円形である場合について説明してきたが、入出力配線23および接地配線22の電極形状はこれ以外の形状であってもよいものである。
以上においては、入出力配線23がガラス基板11の厚さ方向が変化しても、平面方向の形状が円形である場合について説明してきたが、入出力配線23および接地配線22の電極形状はこれ以外の形状であってもよいものである。
入出力配線23の平面方向の形状が、円形の電極ではなく、例えば、図6の上部で示されるように、方形状の入出力配線23’−1乃至23’−3とするようにしてもよい。このようにすることで、入出力配線23’と接地配線22との間の絶縁層厚が均一なものとなるので、より高精度にインピーダンスを算出することが可能となり、さらに高精度なインピーダンスコントロールを実現することが可能となる。
また、TGVの工程において、断面形状を方形状にするよりも、円形にする方が容易であるので、入出力配線23の平面方向の断面形状を円形のまま使用して、接地配線22の平面方向の断面形状を変化させて、入出力配線23と接地配線22との間の絶縁層厚が均一なものとするようにしてもよい。
例えば、図6の下部で示されるように、入出力配線23を円形とし、入出力配線23と対向する面を、対応する円形の凹状の接地配線22’−1,22’−2とするようにしてもよい。このような構成とすることにより、入出力配線23と接地配線22’との電極間の絶縁層厚が一定となるので、インピーダンスを高精度で算出することが可能となる。さらに、この場合、入出力配線23の貫通孔は円形でよいので、高度な加工が不要であるので、さらに、安価で、高精度なインピーダンスコントロールを実現することが可能となる。
さらに、上述したステップS11乃至S14の処理における、インピーダンスコントロールの許容幅の算出にあたっては、入出力配線23の導体径と、接地配線22および入出力配線23間の絶縁層厚とを変化させるだけでなく、電極形状を変化させるようにして、公差内とできるか否かを判定するようにしてもよい。
<第1の変形例>
以上においては、入出力配線23と接地配線22とをストリップライン構造とする例について説明してきたが、インピーダンスを適切に算出できればよいので、例えば、図7で示されるようなマイクロストリップライン構造MSLとするようにしてもよい。すなわち、マイクロストリップライン構造MSLは、ストリップライン構造に対して、接地配線22が1本となる点が異なる。
以上においては、入出力配線23と接地配線22とをストリップライン構造とする例について説明してきたが、インピーダンスを適切に算出できればよいので、例えば、図7で示されるようなマイクロストリップライン構造MSLとするようにしてもよい。すなわち、マイクロストリップライン構造MSLは、ストリップライン構造に対して、接地配線22が1本となる点が異なる。
尚、インピーダンスコントロールにおけるインピーダンスの算出に係る入出力配線23の導体径と、入出力配線23および接地配線22との絶縁層厚との関係については、図3を参照したものと同様である。
すなわち、マイクロストリップライン構造MSLとしても、インピーダンスコントロールを実現することが可能となる。
<第2の変形例>
以上においては、図8の最上段で示されるように、ガラス基板11が1枚で構成される半導体装置についてであったが、それ以外の構成であってもよい。
以上においては、図8の最上段で示されるように、ガラス基板11が1枚で構成される半導体装置についてであったが、それ以外の構成であってもよい。
例えば、図8の上から2段目で示されるように、ガラス基板11上に、何らかの半導体チップ101−1,101−2が設けられるような場合でも、同様の効果を奏する。
また、図8の上から3段目で示されるように、ガラス基板11上に、プロセッサチップ111−1,111−2が設けられるような場合でも同様の効果を奏する。尚、図8の上から3段目においては、同一のガラス基板11上に2のプロセッサチップ111−1,111−2が設けられる例について説明してきたが、いずれか一方をメモリチップとするようにしてもよい。この場合、同一のガラス基板11上にプロセッサチップとメモリチップとが隣接して設けられることになる。これにより、プロセッサチップとメモリチップとの配置距離を極近いものとすることができるので、配線距離を短縮することが可能となる。結果として、低インピーダンスを実現できるので、動作に係る発熱量を低減し、動作速度を向上させることが可能となる。
さらに、図8の最下段で示されるように、ガラス基板11−1乃至11−4で示されるように、ガラス基板11が複数枚数積層される構成においても同様の効果を奏する。
以上の如く、本技術によれば、ガラス基板を用いた半導体装置におけるインピーダンスコントロールを実現することが可能となる。
また、上述のフローチャートで説明した各ステップは、1つの装置で実行する他、複数の装置で分担して実行することができる。
さらに、1つのステップに複数の処理が含まれる場合には、その1つのステップに含まれる複数の処理は、1つの装置で実行する他、複数の装置で分担して実行することができる。
尚、本技術は、以下のような構成も取ることができる。
(1) ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、
前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線と
を含む半導体装置。
(2) 1本の前記電極配線を挟んで、略並行に2本の前記接地配線が配設される
(1)に記載の半導体装置。
(3) 前記電極配線および前記接地配線は、ストリップライン構造を形成する
(1)または(2)に記載の半導体装置。
(4) 1本の前記電極配線と、前記電極配線より所定の距離だけ離れた直線状に1本の前記接地配線とが配設される
(1)に記載の半導体装置。
(5) 前記電極配線および前記接地配線は、マイクロストリップライン構造を形成する
(1)または(4)に記載の半導体装置。
(6) 前記貫通孔は、放電加工、またはブラスト加工により形成される
(1)乃至(5)のいずれかに記載の半導体装置。
(7) 前記電極配線を構成する貫通孔の断面は円形である
(1)乃至(6)のいずれかに記載の半導体装置。
(8) 前記接地配線を構成する貫通孔の断面のうち、前記電極配線と対向する端部は前記電極配線の貫通孔の断面の円形に対応する、曲面状の凹部である
(7)に記載の半導体装置。
(9) 前記電極配線を構成する貫通孔の断面は方形である
(1)乃至(6)のいずれかに記載の半導体装置。
(10) 前記ガラス基板上に半導体チップが積層されて構成される
(1)乃至(9)のいずれかに記載の半導体装置。
(11) 前記ガラス基板上にプロセッサチップが積層されて構成される
(1)乃至(10)のいずれかに記載の半導体装置。
(12) 同一の前記ガラス基板上に、プロセッサチップとメモリチップとが隣接した状態で積層されて構成される
(1)乃至(11)のいずれかに記載の半導体装置。
(13) 前記ガラス基板が複数枚数積層されて構成される
(1)乃至(12)のいずれかに記載の半導体装置。
(14) ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、
前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線と
を含む半導体装置の製造方法は、
前記ガラス基板に前記電極配線、および前記接地配線のそれぞれの前記貫通孔を形成し、
前記ガラス基板の表面および裏面に、前記貫通孔に金属を充填するように金属製の薄膜を形成し、
前記貫通孔近傍以外の薄膜を除去する
ステップを含む半導体装置の製造方法。
(1) ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、
前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線と
を含む半導体装置。
(2) 1本の前記電極配線を挟んで、略並行に2本の前記接地配線が配設される
(1)に記載の半導体装置。
(3) 前記電極配線および前記接地配線は、ストリップライン構造を形成する
(1)または(2)に記載の半導体装置。
(4) 1本の前記電極配線と、前記電極配線より所定の距離だけ離れた直線状に1本の前記接地配線とが配設される
(1)に記載の半導体装置。
(5) 前記電極配線および前記接地配線は、マイクロストリップライン構造を形成する
(1)または(4)に記載の半導体装置。
(6) 前記貫通孔は、放電加工、またはブラスト加工により形成される
(1)乃至(5)のいずれかに記載の半導体装置。
(7) 前記電極配線を構成する貫通孔の断面は円形である
(1)乃至(6)のいずれかに記載の半導体装置。
(8) 前記接地配線を構成する貫通孔の断面のうち、前記電極配線と対向する端部は前記電極配線の貫通孔の断面の円形に対応する、曲面状の凹部である
(7)に記載の半導体装置。
(9) 前記電極配線を構成する貫通孔の断面は方形である
(1)乃至(6)のいずれかに記載の半導体装置。
(10) 前記ガラス基板上に半導体チップが積層されて構成される
(1)乃至(9)のいずれかに記載の半導体装置。
(11) 前記ガラス基板上にプロセッサチップが積層されて構成される
(1)乃至(10)のいずれかに記載の半導体装置。
(12) 同一の前記ガラス基板上に、プロセッサチップとメモリチップとが隣接した状態で積層されて構成される
(1)乃至(11)のいずれかに記載の半導体装置。
(13) 前記ガラス基板が複数枚数積層されて構成される
(1)乃至(12)のいずれかに記載の半導体装置。
(14) ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、
前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線と
を含む半導体装置の製造方法は、
前記ガラス基板に前記電極配線、および前記接地配線のそれぞれの前記貫通孔を形成し、
前記ガラス基板の表面および裏面に、前記貫通孔に金属を充填するように金属製の薄膜を形成し、
前記貫通孔近傍以外の薄膜を除去する
ステップを含む半導体装置の製造方法。
11 ガラス基板, 21 配線, 22,22−1乃至22−3 接地配線, 23,23−1乃至26−3 入出力配線, 51,52 穴, 53,54 金属膜
Claims (14)
- ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、
前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線と
を含む半導体装置。 - 1本の前記電極配線を挟んで、略並行に2本の前記接地配線が配設される
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記電極配線および前記接地配線は、ストリップライン構造を形成する
請求項2に記載の半導体装置。 - 1本の前記電極配線と、前記電極配線より所定の距離だけ離れた直線状に1本の前記接地配線とが配設される
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記電極配線および前記接地配線は、マイクロストリップライン構造を形成する
請求項4に記載の半導体装置。 - 前記貫通孔は、放電加工、またはブラスト加工により形成される
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記電極配線を構成する貫通孔の断面は円形である
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記接地配線を構成する貫通孔の断面のうち、前記電極配線と対向する端部は前記電極配線の貫通孔の断面の円形に対応する、曲面状の凹部である
請求項7に記載の半導体装置。 - 前記電極配線を構成する貫通孔の断面は方形である
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記ガラス基板上に半導体チップが積層されて構成される
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記ガラス基板上にプロセッサチップが積層されて構成される
請求項1に記載の半導体装置。 - 同一の前記ガラス基板上に、プロセッサチップとメモリチップとが隣接した状態で積層されて構成される
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記ガラス基板が複数枚数積層されて構成される
請求項1に記載の半導体装置。 - ガラス基板の深さ方向の貫通孔に金属が充填されることにより形成された電極配線と、
前記配線に対して所定の距離だけ離れた位置であって、前記電極配線の貫通孔と同一方向であって、かつ、前記ガラス基板の平面方向に対して略直線状の貫通孔に金属が充填されることにより形成された接地配線と
を含む半導体装置の製造方法は、
前記ガラス基板に前記電極配線、および前記接地配線のそれぞれの前記貫通孔を形成し、
前記ガラス基板の表面および裏面に、前記貫通孔に金属を充填するように金属製の薄膜を形成し、
前記貫通孔近傍以外の薄膜を除去する
ステップを含む半導体装置の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014131748A JP2016009844A (ja) | 2014-06-26 | 2014-06-26 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
PCT/JP2015/067261 WO2015198912A1 (ja) | 2014-06-26 | 2015-06-16 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
US15/316,217 US10008458B2 (en) | 2014-06-26 | 2015-06-16 | Semiconductor device capable of realizing impedance control and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014131748A JP2016009844A (ja) | 2014-06-26 | 2014-06-26 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016009844A true JP2016009844A (ja) | 2016-01-18 |
Family
ID=54938002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014131748A Pending JP2016009844A (ja) | 2014-06-26 | 2014-06-26 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10008458B2 (ja) |
JP (1) | JP2016009844A (ja) |
WO (1) | WO2015198912A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6810001B2 (ja) * | 2017-08-24 | 2021-01-06 | 株式会社Soken | 高周波伝送線路 |
EP3916771A4 (en) | 2019-03-12 | 2023-01-11 | Absolics Inc. | PACKAGING SUBSTRATE AND EQUIPPED SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING SUBSTRATE |
KR102515304B1 (ko) | 2019-03-29 | 2023-03-29 | 앱솔릭스 인코포레이티드 | 반도체용 패키징 유리기판, 반도체용 패키징 기판 및 반도체 장치 |
WO2021040178A1 (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-04 | 에스케이씨 주식회사 | 패키징 기판 및 이를 포함하는 반도체 장치 |
US20220416391A1 (en) * | 2021-06-23 | 2022-12-29 | Intel Corporation | Signal and ground vias in a glass core to control impedance |
TWI812442B (zh) * | 2022-08-31 | 2023-08-11 | 晶呈科技股份有限公司 | 玻璃通孔載板的填孔方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5757252A (en) * | 1995-08-31 | 1998-05-26 | Itt Industries, Inc. | Wide frequency band transition between via RF transmission lines and planar transmission lines |
US5930665A (en) | 1995-09-06 | 1999-07-27 | Itt Industries, Inc. | Wide frequency band transition between via RF transmission lines and planar transmission lines |
US7091598B2 (en) * | 2001-01-19 | 2006-08-15 | Renesas Technology Corporation | Electronic circuit device |
JP4587625B2 (ja) | 2001-09-27 | 2010-11-24 | 京セラ株式会社 | 配線基板とその実装構造 |
JP3998984B2 (ja) | 2002-01-18 | 2007-10-31 | 富士通株式会社 | 回路基板及びその製造方法 |
US7091589B2 (en) * | 2002-12-11 | 2006-08-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Multilayer wiring board and manufacture method thereof |
JP4214068B2 (ja) | 2004-03-09 | 2009-01-28 | パナソニック株式会社 | 多層ガラス基板の製造方法 |
JP2005294433A (ja) | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Nec Electronics Corp | 電子回路,ローカルメモリを有する電子回路及びその実装方法 |
JPWO2008133010A1 (ja) | 2007-04-12 | 2010-07-22 | 日本電気株式会社 | フィルタ回路素子及び電子回路装置 |
US9420707B2 (en) * | 2009-12-17 | 2016-08-16 | Intel Corporation | Substrate for integrated circuit devices including multi-layer glass core and methods of making the same |
US8207453B2 (en) * | 2009-12-17 | 2012-06-26 | Intel Corporation | Glass core substrate for integrated circuit devices and methods of making the same |
JP5732357B2 (ja) | 2011-09-09 | 2015-06-10 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板、及び半導体パッケージ |
JP6176253B2 (ja) | 2012-09-07 | 2017-08-09 | 旭硝子株式会社 | インターポーザ用の中間品を製造する方法およびインターポーザ用の中間品 |
-
2014
- 2014-06-26 JP JP2014131748A patent/JP2016009844A/ja active Pending
-
2015
- 2015-06-16 US US15/316,217 patent/US10008458B2/en active Active
- 2015-06-16 WO PCT/JP2015/067261 patent/WO2015198912A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10008458B2 (en) | 2018-06-26 |
US20170154860A1 (en) | 2017-06-01 |
WO2015198912A1 (ja) | 2015-12-30 |
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