JP2016004966A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 150
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 121
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 90
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 89
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 14
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 27
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 9
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 8
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 5
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910021334 nickel silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N nickel silicide Chemical compound [Ni]=[Si]=[Ni] RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005360 phosphosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
Description
図1は、実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置の構成を示す断面図である。図2Aは、実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置の構成を示す平面図である。図2Aは図1の活性領域101におけるゲート絶縁膜10から上の構成を除いた基板平面図である。図2Bは、実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置のpベース層の構成を示す平面図である。図2Cは、実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置の構成を示す平面図である。図1のA−A’は図2AのA−A’の断面である。なお、図1には図2Aに記載された複数のうち一つの活性領域101のみ記載してある。また、図2には図1の耐圧構造部102は図示されていない。実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置については、縦型プレーナーゲート構造のMOSFETを例に説明する。実施の形態においては、n+型炭化珪素基板1、n型炭化珪素エピタキシャル層2および後述するpベース層4を併せて炭化珪素半導体基体とする。
次に、上述した実施の形態で説明したJFET領域を平面図でみて直線に配置した構造と六角形に周期的に配置した構造とジグザグ構造(方形のp+型領域3を角部3aで連結してなるジグザグ構造)に配置した構造の耐圧とオン抵抗特性について検証した。
2 n型炭化珪素エピタキシャル層
3 p+型領域
4 pベース層
5 n+ソース領域
6 チャネルストッパー
7 p+コンタクト領域
8 JTE構造
9 nウェル領域
10 ゲート絶縁膜
11 ゲート電極
12 層間絶縁膜
13 ソース電極
14 裏面電極
15 電極パッド
16 保護膜
101 活性領域
102 耐圧構造部
103 JFET領域
200 六角形セル構造のJFET分岐部分
Claims (7)
- シリコンよりもバンドギャップが広いワイドバンドギャップ半導体からなる第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された、シリコンよりもバンドギャップが広いワイドバンドギャップ半導体からなり、かつ前記半導体基板よりも不純物濃度の低い第1導電型の半導体堆積膜と、
前記半導体堆積膜の表面層に選択的に形成された第2導電型の半導体層と、
前記半導体堆積膜と前記半導体層の上に形成された、前記半導体層よりも不純物濃度の低い第2導電型のベース層と、
前記ベース層の表面層に選択的に形成された第1導電型のソース領域と、
前記ベース層に形成された、前記ベース層よりも不純物濃度の高い第2導電型のコンタクト領域と、
表面から前記ベース層を貫通して前記半導体堆積膜に達するように形成された第1導電型のウェル領域と、
前記ソース領域と前記ウェル領域とに挟まれた前記ベース層の表面露出部の少なくとも一部にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極層と、
前記ソース領域と前記コンタクト領域との表面に共通に接触するソース電極と、
前記半導体基板の裏面に設けられたドレイン電極と、
を備え、
前記半導体層の平面形状が方形で隣り合う前記半導体層との辺は平行となるように周期的に配置され、対向する2箇所の角部で隣接する前記半導体層と連結し、
前記ソース領域と前記コンタクト領域が複数のセルに分かれていることを特徴とする半導体装置。 - 前記半導体層の方形の辺の間隔は3μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記ベース層が複数のセルに分かれていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記ワイドバンドギャップ半導体が炭化珪素であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 前記半導体基板の結晶学的面指数は(000−1)に対して平行な面もしくは10度以内に傾いた面であることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- シリコンよりもバンドギャップが広いワイドバンドギャップ半導体からなる第1導電型の半導体基板と、前記半導体基板上に形成された、シリコンよりもバンドギャップが広いワイドバンドギャップ半導体からなり、かつ前記半導体基板よりも不純物濃度の低い第1導電型の半導体堆積膜と、前記半導体堆積膜の表面層に選択的に形成された第2導電型の半導体層と、前記半導体堆積膜と前記半導体層の上に形成された、前記半導体層よりも不純物濃度の低い第2導電型のベース層と、前記ベース層の表面層に選択的に形成された第1導電型のソース領域と、前記ベース層に形成された、前記ベース層よりも不純物濃度の高い第2導電型のコンタクト領域と、表面から前記ベース層を貫通して前記半導体堆積膜に達するように形成された第1導電型のウェル領域と、前記ソース領域と前記ウェル領域とに挟まれた前記ベース層の表面露出部の少なくとも一部にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極層と、前記ソース領域と前記コンタクト領域との表面に共通に接触するソース電極と、前記半導体基板の裏面に設けられたドレイン電極と、を備える半導体装置の製造方法において、
前記半導体層の平面形状を方形とし、隣り合う前記半導体層との辺は平行となるように周期的に配置し、対向する2箇所の角部で隣接する前記半導体層と連結し、前記ソース領域と前記コンタクト領域を複数のセルに分けて形成したことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記ベース層をエピタキシャル成長で形成することを特徴とする請求項6に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014126260A JP6523621B2 (ja) | 2014-06-19 | 2014-06-19 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014126260A JP6523621B2 (ja) | 2014-06-19 | 2014-06-19 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016004966A true JP2016004966A (ja) | 2016-01-12 |
JP6523621B2 JP6523621B2 (ja) | 2019-06-05 |
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ID=55224015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6523621B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011135995A1 (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-03 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2013080641A1 (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-06 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JP2013247252A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2011135995A1 (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-03 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
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JP2013247252A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 |
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