JP2018064047A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明にかかる半導体装置は、シリコンよりバンドギャップが広いワイドバンドギャップ半導体を用いて構成される。実施の形態においては、ワイドバンドギャップ半導体として例えば炭化珪素(SiC)を用いて作製された炭化珪素半導体装置について、IEMOSFETを例に説明する。図1は、実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置の構成を示す断面図である。
次に、実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置の製造方法について、例えば1200Vの耐圧クラスのIEMOSFETを作成する場合を例に説明する。図3〜6は、実施の形態にかかる炭化珪素半導体装置の製造途中の状態を示す断面図である。まず、例えば2×1019/cm3程度の不純物濃度で窒素がドーピングされたn+型炭化珪素基板1を用意する。n+型炭化珪素基板1のおもて面の結晶学的面指数は、(000−1)に対して平行な面または4度以内に傾いた面である。次に、n+型炭化珪素基板1の(000−1)面上に、1.0×1018/cm3の不純物濃度で窒素がドーピングされた厚さ10μm程度のn型炭化珪素エピタキシャル層2を成長させる。ここで、図3に示される構造となる。
2 n型炭化珪素エピタキシャル層
3 p+型ベース層
4 p型ベース層
5 n+型ソース領域
6 p+型コンタクト領域
7 n型打ち返し層
8 ゲート絶縁膜
9 ゲート電極
10 層間絶縁膜
11 ソース電極
12 電極バッド
13 裏面電極
20 凸状に突き出た形状
Claims (4)
- 第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板のおもて面に設けられた、前記半導体基板より低不純物濃度の第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の、前記半導体基板側に対して反対側の表面層に選択的に設けられた第2導電型の第2半導体層と、
前記第1半導体層および前記第2半導体層の、前記半導体基板側に対して反対側の表面層に設けられた、前記第2半導体層より低不純物濃度の第2導電型の第3半導体層と、
前記第3半導体層の、前記半導体基板側に対して反対側の表面層に選択的に設けられた第1導電型の第1半導体領域と、
前記第3半導体層を貫通して前記第1半導体層に達する第1導電型の第2半導体領域と、
前記第1半導体領域と前記第2半導体領域とに挟まれた前記第3半導体層の表面上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
前記ゲート電極上に設けられた層間絶縁膜と、
前記第1半導体領域と前記第3半導体層の表面に設けられたソース電極と、
前記半導体基板の裏面に設けられたドレイン電極と、
を備え、
前記第2半導体層は、角の一部分が凸状に突き出た形状であることを特徴とする半導体装置。 - 前記第2半導体層の平面形状は、六角形であり、前記六角形のうちの対向する2つの角のみが凸状に突き出た形状であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板の半導体材料は、炭化珪素であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 第1導電型の半導体基板のおもて面に、前記半導体基板より低不純物濃度の第1導電型の第1半導体層を形成する第1工程と、
前記第1半導体層の、前記半導体基板側に対して反対側の表面層に選択的に第2導電型の第2半導体層を形成する第2工程と、
前記第1半導体層および前記第2半導体層の、前記半導体基板側に対して反対側の表面層に、前記第2半導体層より低不純物濃度の第2導電型の第3半導体層を形成する第3工程と、
前記第3半導体層の、前記半導体基板側に対して反対側の表面層に選択的に第1導電型の第1半導体領域を形成する第4工程と、
前記第3半導体層を貫通して前記第1半導体層に達する第1導電型の第2半導体領域を形成する第5工程と、
前記第1半導体領域と前記第2半導体領域とに挟まれた前記第3半導体層の表面上の少なくとも一部にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する第6工程と、
前記ゲート電極上に層間絶縁膜を形成する第7工程と、
前記第1半導体領域と前記第3半導体層の表面にソース電極を形成する第8工程と、
前記半導体基板の裏面にドレイン電極を形成する第9工程と、
を備え、
前記第2工程は、前記第2半導体層を、角の一部分が凸状に突き出た形状に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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