JP2016004921A5 - - Google Patents

Description

図３（Ａ）に、図２のＡ―Ａから矢印方向に光源部を見た矢視図を示す。水銀ランプ５１から発光する光は、楕円ミラー５０で反射された後、レンズ１１Ａ、１１Ｂ又は１１Ｃに向かうが、その途中で一部の光が冷却ノズル５４Ａ（遮光部材）とケーブル５３Ａ（遮光部材）で遮られる。そのため、有効光源分布において、冷却ノズル５４Ａとケーブル５３Ａの影が生じる。図３（Ｂ）に、図２のＡ―Ａ断面における光束の光強度分布を示す。円形の光強度分布内において、所定の光強度の領域６０の他に、ケーブル５３Ａの影６３と冷却ノズル５４Ａの影６４がある。そのため、有効光源分布において、ケーブル５３Ａの影と冷却ノズル５４Ａの影が存在し、領域６０における光強度よりも光強度が低い部分が生じてしまう。説明を簡易的に行うため、領域６０の光強度を１００％とし、影６３、６４の部分の光強度を０％としている。なお、水銀ランプ５１の発光点からの光が水銀ランプ５１の陽極５２Ａで遮光されて、有効光源分布の中心に陽極５２Ａの影６２ができる。ただし、陽極５２Ａは水銀ランプ５１の一部であって、水銀ランプ５１の陽極５２Ａの影と、水銀ランプ５１からの光であって楕円ミラー５０で反射されてマスクに向かう光を遮る遮光部材の影とは区別している。

（実施形態２）
図１１に、第２の実施形態の露光装置の概略図を示す。本実施形態の露光装置は、実施形態１の露光装置とは、計測部５００と調整部（制御部６００と調整機構７００Ａ、７００Ｂ、７００Ｃ）とを有する点で異なる。実施形態１と同様の構成については説明を省略する。

この調整方法は、露光装置上で定期的に行ってもよいし、装置の出荷前の校正として行ってもよい。本実施形態によれば、有効光源分布を計測して高精度に調整が行えることから、有効光源分布において光強度の偏りが解消し、その結果、複数の光源部の遮光部材の影によってマスクのパターンの解像性能が低下するのを、より確実に抑えることができる。

まず、Ｓ２０２で、露光装置の制御部６００は、マスク８のパターンの情報を取得する。マスク８のパターンの情報は、ユーザーによって入力装置から入力されてもよいし、外部の装置から自動で入力されてもよい。次に、Ｓ２０４で、制御部６００は、マスク８のパターンの情報から、マスク８に含まれる少なくとも１つのパターンの方向を特定する。図１４（Ａ）、（Ｂ）に、マスク８のパターンの例を示す。図１４（Ａ）のマスクは、ｘ方向に周期的に並んだｙ方向に長いラインパターンＰ１１、Ｐ１３と、ｙ方向に周期的に並んだｘ方向に長いラインを有するラインパターンＰ１２、Ｐ１４と、を含む。図１４（Ｂ）のマスクは、ｘ方向、ｙ方向から斜め４５°傾いた方向に周期的に並んだパターンＰ２１〜Ｐ２４を含む。これらのマスクのパターンの方向として、周期方向またはパターンの長手方向を特定する。

（実施形態４）
次に、前述の露光装置を利用した物品（半導体ＩＣ素子、液晶表示デバイス、カラーパネル等）の製造方法を説明する。物品は、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板（ウェハ、ガラス基板等）を露光する工程と、その基板（感光剤）を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等の加工が含まれる。本物品製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。

Claims (21)

1. 被照明面を照明する照明装置であって、
   光源と、前記光源からの光を反射する反射鏡と、前記反射鏡で反射されて前記被照明面に向かう光を遮る遮光部材と、を含む光源部を複数有し、
   前記複数の光源部からの光を重畳した光強度分布を瞳面に形成し、重畳した光で前記被照明面を照明する照明光学系を更に有し、
   前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部のうち１つの光源部の遮光部材の全ての影の位置が、前記複数の光源部のうちその他の少なくとも１つの光源部の遮光部材の全ての影の位置に対してずれていることを特徴とする照明装置。
2. 前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部の全ての光源部の遮光部材の全ての影の位置が互いにずれていることを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
3. 前記照明光学系の瞳面における光強度分布における前記複数の光源部の遮光部材の影の数をｎとすると、前記照明光学系の瞳面を３６０°／ｎの中心角で分割したｎ個の部分領域のそれぞれに前記遮光部材の影が存在することを特徴とする請求項１又は２に記載の照明装置。
4. 前記照明光学系の瞳面における光強度分布における前記複数の光源部の遮光部材の影の数をｎとすると、前記複数の光源部の遮光部材の各々の影の位置は１８０°／ｎの中心角以上の間隔でずれていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の照明装置。
5. 前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部の遮光部材の各々の影の位置は等しい中心角間隔でずれていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の照明装置。
6. 前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部の遮光部材の各々の影の位置がずれるように前記遮光部材の配置を調整する調整部を含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の照明装置。
7. 前記遮光部材は、前記光源の電極に接続されたケーブルを含むことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の照明装置。
8. 前記遮光部材は、前記光源の電極を冷却するための冷却ノズルを含むことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の照明装置。
9. 前記遮光部材は、前記光源の電極に接続されたケーブルと前記光源の電極を冷却するための冷却ノズルとが一体となった部材を含むことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の照明装置。
10. 前記遮光部材は、前記光源の電極に接続されたケーブルと前記光源の電極を冷却するための冷却ノズルとを別体として含み、
    前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、一の前記光源部の前記ケーブルの影と、前記一の光源部の前記冷却ノズルの影とが重なっていることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の照明装置。
11. 前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記一の光源部の前記ケーブルの影の幅と、前記一の光源部の前記冷却ノズルの影の幅とが同じであることを特徴とする請求項１０に記載の照明装置。
12. 被照明面を照明する照明装置であって、
    光源と、前記光源からの光を反射する反射鏡と、前記反射鏡で反射されて前記被照明面に向かう光を遮る遮光部材と、を有する光源部を複数有し、
    前記複数の光源部からの光を重畳した光強度分布を瞳面に形成し、重畳した光で前記被照明面を照明する照明光学系と、
    前記照明光学系の瞳面における光強度分布を計測する計測部と、
    前記計測部によって計測された光強度分布に基づいて、前記照明光学系の瞳面における光強度分布における前記遮光部材の影の位置を調整する調整部と、
    を更に有することを特徴とする照明装置。
13. 前記調整部は、前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部のうち１つの光源部の遮光部材の全ての影の位置が、前記複数の光源部のうちその他の少なくとも１つの光源部の遮光部材の全ての影の位置に対してずれるように前記遮光部材の配置を調整することを特徴とする請求項１２に記載の照明装置。
14. 前記調整部は、前記計測部によって計測された光強度分布のうち前記遮光部材の影の位置に基づいて、前記遮光部材の配置を調整することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の照明装置。
15. 前記調整部は、前記照明光学系の瞳面における光強度分布において互いに垂直な２方向における強度差が小さくなるように、前記遮光部材の配置を調整することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の照明装置。
16. 光源と、前記光源からの光を反射する反射鏡と、前記反射鏡で反射され被照明面に向かう光を遮る遮光部材と、を有する光源部を複数有し、前記複数の光源部からの光を重畳した光強度分布を瞳面に形成し、重畳した光で被照明面を照明する照明光学系と、を更に有する照明装置の調整方法であって、
    前記照明光学系の瞳面における光強度分布を計測する工程と、
    該計測された光強度分布に基づいて、前記照明光学系の瞳面における光強度分布における前記遮光部材の影の位置を調整する工程と、
    を有することを特徴とする調整方法。
17. 光源と、前記光源からの光を反射する反射鏡と、前記反射鏡で反射されマスクに向かう光を遮る遮光部材と、を有する光源部を複数有し、前記複数の光源部からの光を重畳した光強度分布を瞳面に形成し、重畳した光で前記マスクを照明する照明光学系を更に有する、前記マスクのパターンを基板上に露光する露光装置の調整方法であって、
    前記マスクのパターンの情報に基づいて、前記照明光学系の瞳面における光強度分布における前記遮光部材の影の位置を調整する調整工程と、
    を有することを特徴とする調整方法。
18. 前記マスクのパターンの方向の情報を取得する工程と、
    前記調整工程において、該取得した前記マスクのパターンの方向の情報に基づいて前記遮光部材の配置を調整することを特徴とする請求項１７に記載の調整方法。
19. 前記マスクのパターンは周期方向が異なる複数の周期パターンを含むことを特徴とする請求項１７又は１８に記載の調整方法。
20. マスクのパターンを基板上に露光する露光装置であって、
    前記マスクを照明する、請求項１乃至１５の何れか１項に記載の照明装置と、
    前記照明装置により照明された前記マスクのパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、を有することを特徴とする露光装置。
21. 請求項２０に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    露光された基板を現像する工程と、
    現像された基板を加工して物品を製造する工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。