JP2000098099A

JP2000098099A - Ｘ線照明装置及びｘ線投影露光装置

Info

Publication number: JP2000098099A
Application number: JP10265888A
Authority: JP
Inventors: Noriaki Kamitaka; 典明神高; Hiroyuki Kondo; 洋行近藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-09-21
Filing date: 1998-09-21
Publication date: 2000-04-07

Abstract

(57)【要約】【課題】一方向に長い影がＸ線発生装置からの略平行
なＸ線に含まれる場合であっても、被照射面を均一に照
明できるＸ線照明装置を提供する。【解決手段】単位反射体ａは、リングを切断して、そ
の弧の一部を取り出したような形状をしており、表面に
は多層反射膜が形成されている。この単位反射体ａを、
その中心軸をそろえて縦方向に隙間無く多数配列し、そ
れをさらに横方向に隙間無く多数配列して、フライアイ
ミラーＡを形成している。フライアイミラーＡに平行光
束が入射すると、均一な反射光となって反射される。影
部Ｂは、図に示されるように一方向に長い形状をしてい
る。(a)においては、影部Ｂの長さ方向が、フライアイ
ミラーＡの横方向に一致している。よって、影部Ｂが当
たっている単位反射体ａの数は少ないので、全体として
照明の均一性が失われる割合が少ない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線発生装置から
のＸ線を受けて、被照射物を照明する照明光に変えるＸ
線照明装置及びそれを使用したＸ線投影露光装置に関す
るものであり、更に詳しくは、Ｘ線発生装置からのＸ線
が影を有する場合でも、その影響を低減し、均一な照明
光で被照射物を照明できるＸ線照明装置及びそれを使用
したＸ線投影露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】現在、半導体集積回路の製造において
は、マスク上に形成された非常に微細なパターンを、可
視光あるいは紫外光によって、レジストを塗布したシリ
コンウェハ上に縮小投影して転写する方法が広くおこな
われている。しかし、パターンサイズの微細化に伴い紫
外光でも回折限界に近づいており、紫外光よりさらに波
長の短い、波長13nmあるいは11nmの軟Ｘ線を用いた縮小
投影露光が提案されている。

【０００３】波長13nmあるいは11nmの軟Ｘ線を用いる場
合、その光源（軟Ｘ線源）の１つの候補として考えられ
ているのが、レーザープラズマＸ線源（以下ＬＰＸと記
す）である。レーザー装置からのパルス出射光を物質に
集光・照射すると、その照射強度が10¹⁰Ｗ／cm²を超え
るような場合、物質の原子はその強力な電場によって電
子をはぎ取られてプラズマ化し、そのプラズマからは軟
Ｘ線が輻射される。このプラズマから輻射される軟Ｘ線
の輝度は非常に高く、しかも、ＬＰＸはシンクロトロン
放射光発生施設などと較べると装置としては非常にコン
パクトである。そのためＬＰＸは軟Ｘ線縮小投影露光だ
けでなく、Ｘ線顕微鏡や分析装置などの線源として非常
に有望である。

【０００４】このＬＰＸを軟Ｘ線縮小投影露光に用いる
際、大きな問題となるのは飛散粒子の発生である。金属
などの固体を標的材として励起レーザー光を照射した場
合、プラズマを形成していたイオンや、プラズマの急激
な膨張により吹き飛ばされ、プラズマ近傍の標的材が周
囲に飛び散る。発生した軟Ｘ線を利用するために、プラ
ズマの周囲には多層膜鏡や薄膜フィルタなどの軟Ｘ線光
学素子が配置されるが、飛散粒子はこの表面に堆積し、
その光学的性能（反射率、透過率など）を低下させる。
軟Ｘ線縮小投影露光においては、高い繰り返し周波数
（例えば１ＫＨｚ以上）で長期間（数カ月）に亘ってプ
ラズマが発生され続けるので、飛散粒子の発生量も膨大
なものとなる。よって、この飛散粒子の発生をどのよう
に抑制するかが大きな課題となっていた。

【０００５】Kublakらは、この飛散粒子の問題を解決す
るためにガスを標的材としたＬＰＸを提案した（USP5,5
77,092）。この方法は、真空容器内にノズルから超音速
で気体を噴出させることで断熱膨張により気体分子のク
ラスターを形成させ、そのクラスターにレーザー光を照
射することでプラズマを発生させるものである。標的材
が常温では気体の物質であるために、プラズマ形成後に
周囲に拡散しても軟Ｘ線光学素子表面に堆積することは
なく、その光学的性能は低下することがない。これによ
って軟Ｘ線光学系のミラーの寿命は10⁹ショットにも達
すると報告されている。

【０００６】軟Ｘ線縮小投影露光においては、回折限界
に近い非常に微細なパターンを形成するために、マスク
を照明する照明光学系にも様々な要求がなされる。この
ような要求を満たすものとして、特願平１０−０４７４
００号公報に提案されているＸ線照明光学系の例を図５
に示す。

【０００７】軟Ｘ線発生装置（不図示）からの軟Ｘ線平
行光束２１は、多光源形成光学素子２２、２３で反射さ
れ、集光ミラー２４、平面鏡２５を介してマスク２６の
表面を照射する。マスク２６で反射された軟Ｘ線は、縮
小投影光学系２７により、マスク２６面に形成されたパ
ターンの像をシリコンウェハ２８上に縮小転写する。

【０００８】この照明光学系を用いる軟Ｘ線縮小投影に
おいては、投影される領域が輪帯円弧状をなしている。
よって、照明されるべきマスク２６上の領域も輪帯円弧
状であり、その領域を照明するために、多光源形成光学
素子２２、２３として図６に示されるようなフライアイ
ミラー２９を用いている。フライアイミラー２９は、リ
ングの一部（リングの弧の一部）の形状をした反射体か
らなる単位反射体２９ａを、その中心軸をそろえて縦方
向に隙間無く多数配列したものを、さらに横方向に隙間
無く多数配列してなり、図６に示されるような形状をし
ている。

【０００９】このフライアイミラーに軸対称な平行光束
が入射することにより、照明領域を無駄なく均一に照明
し、しかもマスク上のどの方向を持つパターンについて
も等しい解像度を得られる照明が実現できる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ガスを標的としたＬＰ
Ｘを実際に軟Ｘ線縮小投影に利用しようとした場合に
は、飛散粒子の発生以外にもいくつかの問題がある。そ
の一つが、Ｘ線発生源からのＸ線の平行光束に含まれる
影の問題である。図５に示した照明光学系に入射させる
軟Ｘ線の平行光束を形成するＸ線発生源として、図７、
図８に示したようなものが考えられる。図７はＸ線発生
源の概略縦断面図であり、図８は図７のＡ方向から見た
装置の概略図である。図７、図８において、真空容器中
（不図示）に標的ガス供給ノズル３１が配置されてお
り、ガス供給管３７から供給される高圧のガス（たとえ
ばクリプトン）が標的ガス供給ノズルから噴出される。
標的ガスが噴出された位置にパルスレーザー光３２を集
光・照射できるようになっている。噴出されたガスは、
断熱膨張して温度が下がり、クラスターとなる。それに
パルスレーザー光３２を照射することによりプラズマ３
３が発生し、プラズマ３３から軟Ｘ線が放出される。プ
ラズマ３３の発生位置は、多層膜回転放物面鏡３４の焦
点に位置しているので、この軟Ｘ線は、多層膜回転放物
面鏡４によって反射されてＸ線平行光束３５となり外部
に放射される。

【００１１】しかしながら、この光学系には、ノズル３
１の支持材３６や、ノズル３１にガスを供給するガス供
給管３７が必要である。これらの部材が、Ｘ線平行光束
３５を遮らないように配置することは困難であり、従っ
て、Ｘ線平行光束３５には、これらの影が、一方向に長
い形状となって含まれることになる。それらの影が多光
源形成光学系の各要素光学系に映り込むことにより照射
対象面上での照明強度の均一性が低下するおそれがあ
る。よって、ガスを標的材としたＬＰＸを用いた軟Ｘ線
照明装置において、ノズル及びその支持材の影による照
射対象面上での照明強度の均一性の低下を軽減すること
が望まれていた。

【００１２】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、ガスを標的材としたＬＰＸにおけるノズル及
びその支持材の影のような、一方向に長い影がＸ線発生
装置からの略平行なＸ線に含まれる場合であっても、被
照射面を均一に照明できるＸ線照明装置及びそれを使用
したＸ線投影露光装置を提供することを課題とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の第１の手段は、一方向に長い影部を有する略平行なＸ
線を受けて、均一な照明光束に変換し、被照明物に照射
するＸ線照明装置であって、入射するＸ線を反射する多
光源形成光学系を有し、当該多光源形成光学系は、リン
グの一部からなる形状の単位反射体を、その中心軸をそ
ろえて縦方向に隙間無く多数配列したものを、さらに横
方向に隙間無く多数配列してなり、入射するＸ線の影部
の長さ方向が、当該多光源形成光学系の横方向に一致し
ていることを特徴とするＸ線照明装置（請求項１）であ
る。

【００１４】本手段においては、入射するＸ線の影部の
長さ方向が、多光源形成光学系の横方向に一致してい
る。後に説明するように、多光源形成光学系における単
位反射体の数は、その縦方向の数が横方向の数よりも圧
倒的に大きい。よって、多光源形成光学系の横方向に長
い影ができて、その部分からの光の反射が遮られても、
縦方向には数多くのＸ線を受ける単位反射体が存在し、
多光源形成光学系からの光はこれらの光の重ね合わせと
なるので、反射光の均一性が乱れる割合が少ない。な
お、本手段において「略平行」とは、完全に平行な場合
をも含むことはいうまでもなく、本明細書において
「略」というときは、すべてこのような意味である。

【００１５】前記課題を解決するための第２の手段は、
前記第１の手段であって、前記影部の大部分が、前記単
位反射体の形状と略同一となるような形状とされている
ことを特徴とするもの（請求項２）である。

【００１６】本手段においては、影部の大部分が、単位
反射体の形状と略同一となるような形状とされているの
で、影部の大部分は単位反射体に沿って形成される。よ
って、影部が当たる単位反射体の数をさらに少なくする
ことができ、反射光の均一性が乱れる割合をさらに少な
くすることができる。

【００１７】前記課題を解決するための第３の手段は、
前記第１の手段又は第２の手段であって、前記多光源形
成光学系のうち、入射するＸ線の影部が当たる部分の少
なくとも一部に、前記単位反射体が設けられていないこ
とを特徴とするＸ線照明装置（請求項３）である。

【００１８】本手段においては、入射するＸ線の影部が
当たる部分の少なくとも一部に、前記単位反射体が設け
られていないので、もともとその部分からの反射がな
い。よって、単位反射体にかかる影のかかり具合によっ
て反射光が不安定になることが無く、安定して均一な照
明が得られる。また、この部分に単位反射体を製作する
必要がないのでその分コストが低減される。

【００１９】前記課題を解決するための第４の手段は、
前記第１の手段又は第２の手段であって、前記多光源形
成光学系のうち、入射するＸ線の影部が当たる部分の少
なくとも一部の前記単位反射体は、他の単位反射体と同
一の形状を有するのみで反射機能を有しないものである
ことを特徴とするもの（請求項４）である。

【００２０】本手段においては、入射するＸ線の影部が
当たる部分の少なくとも一部の前記単位反射体は、他の
単位反射体と同一の形状を有するのみで反射機能を有し
ないものとされている。すなわち、この部分の単位反射
体は、リングの一部の形状を有しているが、その表面に
は反射膜が形成されていなかったり、形成された反射膜
の上に、Ｘ線を反射しない部材を置く等により、Ｘ線を
反射しないようにされている。これにより、前記第３の
手段と同じ作用効果を奏する。

【００２１】前記課題を解決するための第５の手段は、
前記第１の手段から第４の手段のうちのいずれかであっ
て、排気装置によって減圧可能な容器中に、気体を噴出
するノズルが配置され、当該ノズルから間欠的又は連続
的に噴出されたガス分子又はそのクラスターに励起エネ
ルギービームを集光してプラズマ化することにより軟Ｘ
線を発生させるＸ線源と、発生した軟Ｘ線の一部を取り
出して略平行な光束の軟Ｘ線に変換するＸ線光学系とを
有してなり、前記ノズルを支える支持材、当該ノズルへ
のガス供給管が、前記略平行なＸ線中で、一方向に長い
影部を形成するような位置に配置されていることを特徴
とするもの（請求項５）である。

【００２２】前述のように、気体を標的物質としたＬＰ
ＸのようなＸ線発生源においては、ノズル、ノズル支持
材、ノズルへのガス供給管が略平行なＸ線中で影を形成
することは避けられない。本手段においては、これらの
部材により形成される影部が、一方向に長いものとなる
ようにこれらの部材を配置し、このようにしたＸ線源
に、前記第１の手段から第４の手段を適用している。よ
って、これらの部材による影ができても、反射光の均一
性が大きく損なわれることがない。

【００２３】前記課題を解決するための第６の手段は、
Ｘ線によりマスクを照明し、マスクからの反射光を投影
光学系によりウェハ等の感応基板に投影し、マスク上の
パターンを感応基板に露光転写するＸ線投影露光装置で
あって、マスクへのＸ線照明光学系に、前記第１の手段
から第５の手段のいずれかを有することを特徴とするＸ
線投影露光装置（請求項６）である。

【００２４】本手段においては、たとえばガスを標的物
質とするＬＰＸをＸ線発生源として使用した場合でも、
そのノズルの支持材やガス供給管によってできる影の影
響を少なくし、マスクを均一なＸ線で照明することがで
きるので、強度むらのない露光転写を行うことができ
る。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の例
を、図を用いて説明する。図１は、本発明の基本的思想
を説明するための、多光源形成光学系と、Ｘ線の影部の
関係の例を示す図である。図１において、Ａは多光源形
成光学系であるフライアイミラー、ａは、フライアイミ
ラーＡを構成する単位反射体、ＢはＸ線の影部である。
図１(a)が本発明の実施の形態を示し、図１(b)は比較例
を示すものである。

【００２６】単位反射体ａは、リングを切断して、その
弧の一部を取り出したような形状をしており、その表面
には多層反射膜が形成されている。この単位反射体ａ
を、その中心軸をそろえて縦方向に隙間無く多数配列
し、それをさらに横方向に隙間無く多数（図では５列）
配列して、フライアイミラーＡを形成している。図から
もわかるように、縦方向に配列されている単位反射体ａ
の数は、横方向に配列されている単位反射体ａの数（図
１の場合は５個）よりも圧倒的に多い。

【００２７】影部Ｂは、図に示されるように一方向に長
い形状をしている。図に示されるものは、気体を標的部
材としたＬＰＸからの軟Ｘ線中の影であり、中心部の円
形の影はノズルの影、それから両側にのびる細長い影は
ノズルの支持材の影に相当する。

【００２８】(a)においては、影部Ｂの長さ方向が、フ
ライアイミラーＡの横方向に一致している。よって、影
部Ｂが当たっている単位反射体ａの数は少ない。従っ
て、影部２の影響を受けている単位反射体ａの数は、全
体の単位反射体ａの数に対して少ないので、全体として
照明の均一性が失われる割合が少ない。

【００２９】これに対し、(b)においては、影部Ｂの長
さ方向がフライアイミラー１の縦方向に一致しているの
で、影部Ｂが当たっている単位反射体ａの数が(a)の場
合に比べて多くなる。よって、全体として照明の均一性
が失われる割合が多くなり、好ましくない。

【００３０】図２、図３に、本発明の実施の形態の１例
である軟Ｘ線照明装置の一部の概略図を示す。図３は装
置の縦断面図であり、図３は図２のＢ方向から見た装置
の概要を示す図である。図２、図３において、１は真空
容器、２は標的ガス供給ノズル、３はパルスレーザー
光、４はレーザー光導入窓、５はプラズマ、６は多層膜
回転放物面鏡、７は軟Ｘ線の平行光束、８はノズル支持
材、９はガス供給管、１０，１１はフライアイミラーで
ある。

【００３１】真空容器１内部に標的ガス供給ノズル２が
配置されており、このノズルには高圧のクリプトン（Ｋ
ｒ）ガスがガス供給管９を通じて供給されている。ノズ
ルから噴出したガスは急速に拡散し、図２中下側にある
排気口から排気されるが、真空容器内及び引き口の先に
は液体窒素トラップ（不図示）が配置されており、クリ
プトンを固化して回収できるようになっている。これに
より、クリプトンガスを繰り返し使用することができ、
ランニングコストを低く抑えることができる。

【００３２】真空ポンプによる排気によって、真空容器
１内は少なくとも0.1Torr以下の圧力に保たれている。
ノズルの噴出口から１ｍｍ程度の位置には、Ｎｄ：ＹＡ
Ｇレーザーからのパルスレーザー光３が、レーザー光導
入窓４を通じて２方向から集光・照射されている。これ
らのパルスレーザー光３は１つのレーザー光発生装置か
ら出射したパルス光をビームスプリッタで等しく２つに
分けたものである。

【００３３】パルスレーザー光３の照射により、標的ガ
スがプラズマ化され、プラズマ５から輻射された軟Ｘ線
は、プラズマ５の位置に焦点を持つ回転放物面を有する
多層膜鏡（多層膜回転放物面鏡）６によって反射され、
平行光束７となる。この平行光束７は、図５に示した軟
Ｘ線縮小投影露光用照明光学系に入射する。図２では、
軟Ｘ線縮小投影露光用照明光学系のうち、多光源形成光
学素子であるフライアイミラー１０，１１のみを図示し
ている。標的ガス供給ノズル２は、ノズル支持材８によ
って固定されており、標的ガス供給ノズル２、ノズル支
持材８、及びガス供給管９は平行光束７を遮る位置に配
置されている。ノズル支持材８及びガス供給管９は、そ
れらの影がフライアイミラー１０面で、図１(a)のよう
な影を形成する方向に配置されている。これによって、
前述したように、軟Ｘ線縮小投影露光用マスクを照明し
た際に均一な照明がなされている。

【００３４】図１に示した実施の形態は、入射する光束
に生じる影の影響を受ける多光源形成光学素子の単位反
射体のうち、入射する光束に生じる影の影響を受けるも
のの数を減らして、結果として照明位置でより均一な照
度を得ようというものである。しかし、それでも目的に
十分な照度均一性が得られない場合は、多光源形成光学
素子を図４に示すようなものにすればよい。

【００３５】図４において、Ａはフライアイミラー、ａ
は単位反射体、Ｂは影部であり、これらの構成は図１
(a)に示したものと同じである。１２は、単位反射体ａ
のない単位反射体欠損部である。

【００３６】図４(a)においては、影部Ｂのかかる領域
には、単位反射体欠損部１２が形成されている。このよ
うにすると、フライアイミラーＡに入射した光束のうち
照明に使用される割合がやや低下するが、照明に使用さ
れる単位反射体ａのいずれにも影はかからないので、照
度の均一性に影の影響は現れない。この場合にも、影部
Ｂの長さ方向を、フライアイミラーＡの横方向に一致さ
せることで、単位反射体欠損部１２のために欠損した単
位反射体の数を少なく抑えることができる。

【００３７】また、ノズル支柱材及びガス供給管の形状
を、それらの影の大部分が図４(b)に示されるように、
単位反射体ａの形状と略同一となるような形状にすれ
ば、照明に寄与する円弧状の領域の数をより多くでき、
照明の光量が増加する。なお、この例では影がかかる領
域には単位反射体ａを形成しないことにより照明に寄与
しないようにしているが、この領域に単位反射体ａと同
じ形状の部材を形成していても、その上に、軟Ｘ線反射
用の多層膜を形成しないようにしたり、形成した多層膜
を除去したり、多層膜形成後に軟Ｘ線を反射しない膜や
部材で覆う、といった方法により照明に寄与しないよう
にしてもよい。

【００３８】本実施の形態においては、ノズル、ノズル
支持材及びガス供給管が軟Ｘ線の平行光束を遮っている
が、これら以外のもの、例えば、軟Ｘ線光束のうち不要
な部分を遮る遮蔽材の支持部材が平行光束を遮る場合に
も、それにより生ずる影を一方向に長いものとし、多光
源形成光学系に対しては、この影の方向を、前述のよう
な方向とすることにより、照明の均一性を保つことがで
きる。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のうち、請
求項１に係る発明においては、入射するＸ線の影部の長
さ方向が、多光源形成光学系の横方向に一致しているの
で、影の影響を受ける単位反射体の数が少なくなり、反
射光の均一性が乱れる割合を少なくすることができる。

【００４０】請求項２に係る発明においては、影部の大
部分は単位反射体に沿って形成されるので、影部が当た
る単位反射体の数をさらに少なくすることができ、反射
光の均一性が乱れる割合をさらに少なくすることができ
る。

【００４１】請求項３に係る発明においては、入射する
Ｘ線の影部が当たる部分の少なくとも一部に、前記単位
反射体が設けられていないので、影の影響によって反射
光が不安定になることがなく、安定して均一な照明が得
られる。

【００４２】請求項４に係る発明においては、入射する
Ｘ線の影部が当たる部分の少なくとも一部の前記単位反
射体は、他の単位反射体と同一の形状を有するのみで反
射機能を有しないものとされているので、請求項３に係
る発明と同じ効果が得られる。

【００４３】請求項５に係る発明においては、ノズル、
ノズル支持材、ノズルへのガス供給管の影に対して、請
求項１から請求項４の構成を適用しているので、ガスを
標的部材とするＬＰＸ等においても、これらの影の影響
を少なくし、照明光の均一性を保つことができる。

【００４４】請求項６に係る発明においては、請求項１
から請求項５のうち、いずれかのＸ線照明装置を用いて
いるので、マスクを均一なＸ線で照明することができ、
強度むらのない露光転写を行うことができる。

【００４５】

【図面の簡単な説明】

【図１】多光源形成光学系と、Ｘ線の影部の関係の例を
示す図である。

【００４６】

【図２】本発明の実施の形態の１例である軟Ｘ線照明装
置の一部の概略図（縦断面図）である。

【００４７】

【図３】図２に示す軟Ｘ線照明装置を図２のＢ方向から
見た概略図である。

【００４８】

【図４】多光源形成光学系と、Ｘ線の影部の関係の例を
示す図である。

【００４９】

【図５】従来のＸ線照明光学系の例の概要図である。

【００５０】

【図６】フライアイミラーの構造の例を示す図である。

【００５１】

【図７】ＬＰＸにおけるＸ線発生源の概略縦断面図であ
る。

【００５２】

【図８】図７に示すＸ線発生源を図７のＡ方向から見た
概略図である。

【００５３】

【符号の説明】

Ａ…フライアイミラーａ…単位反射体Ｂ…影部１…真空容器２…標的ガス供給ノズル３…パルスレーザー光４…レーザー光導入窓５…プラズマ６…多層膜回転放物面鏡７…軟Ｘ線の平行光束８…ノズル支持材９…ガス供給管１０，１１…フライアイミラー１２…単位反射体欠損部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一方向に長い影部を有する略平行なＸ線
を受けて、均一な照明光束に変換し、被照明物に照射す
るＸ線照明装置であって、入射するＸ線を反射する多光
源形成光学系を有し、当該多光源形成光学系は、リング
の一部からなる形状の単位反射体を、その中心軸をそろ
えて縦方向に隙間無く多数配列したものを、さらに横方
向に隙間無く多数配列してなり、入射するＸ線の影部の
長さ方向が、当該多光源形成光学系の横方向に一致して
いることを特徴とするＸ線照明装置。
【請求項２】請求項１に記載のＸ線照明装置であっ
て、前記影部の大部分が、前記単位反射体の形状と略同
一となるような形状とされていることを特徴とするＸ線
照射装置。
【請求項３】請求項１又は請求項２に記載のＸ線照明
装置であって、前記多光源形成光学系のうち、入射する
Ｘ線の影部が当たる部分の少なくとも一部に、前記単位
反射体が設けられていないことを特徴とするＸ線照明装
置。
【請求項４】請求項１又は請求項２に記載のＸ線照明
装置であって、前記多光源形成光学系のうち、入射する
Ｘ線の影部が当たる部分の少なくとも一部の前記単位反
射体は、他の単位反射体と同一の形状を有するのみで反
射機能を有しないものであることを特徴とするＸ線照明
装置。
【請求項５】請求項１から請求項４のうちいずれか１
項に記載のＸ線照明装置であって、排気装置によって減
圧可能な容器中に、気体を噴出するノズルが配置され、
当該ノズルから間欠的又は連続的に噴出されたガス分子
又はそのクラスターに励起エネルギービームを集光して
プラズマ化することにより軟Ｘ線を発生させるＸ線源
と、発生した軟Ｘ線の一部を取り出して略平行な光束の
軟Ｘ線に変換するＸ線光学系とを有してなり、前記ノズ
ル、当該ノズルを支える支持材、当該ノズルへのガス供
給管が、前記略平行なＸ線中で、一方向に長い影部を形
成するような位置に配置されていることを特徴とするＸ
線照明装置。
【請求項６】Ｘ線によりマスクを照明し、マスクから
の反射光を投影光学系によりウェハ等の感応基板に投影
し、マスク上のパターンを感応基板に露光転写するＸ線
投影露光装置であって、マスクへのＸ線照明光学系に、
請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載のＸ線
照明装置を有することを特徴とするＸ線投影露光装置。