JP2015536352A - 表面を対象とする、紫外光硬化系ベンゾフェノン末端第４級アンモニウム抗菌剤 - Google Patents

表面を対象とする、紫外光硬化系ベンゾフェノン末端第４級アンモニウム抗菌剤 Download PDF

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Abstract

【構成】本発明はベンゾフェノンを末端とする第４級アンモニウム化合物、ベンゾフェノンを末端とする第４級アンモニウム化合物の生成方法、この第４級アンモニウム化合物からなる環境にやさしい抗菌組成物、およびこれらを表面に耐久性のある抗菌表面被膜として使用することに関する。

Description

医療界が直面している主な課題は感染症の制御であり、真菌類、細菌類やウィルスなどの微生物の拡散の抑制である。いくつかの微生物には、例えば多孔性表面などの表面に付着し、増殖してバイオフィルム（ｂｉｏｆｉｌｍ）と呼ばれるコロニーを形成する能力がある。バイオフィルムを原因とする感染症の治療に抗生物質を使用することは、医療の歴史において最も画期的なもののうちの一つである。ところが、これら抗生物質や殺菌を目的として使用される他の化学製剤が普及している間に、いくつかの微生物株（細菌など）がこれらに対して耐性を発現するようになってきている。臨床上重要な多数の微生物（例えば病原体など）に対して有効な治療法が見当たらず、一つか二つの抗生物質があるにはあるが、投与が難しく、高価であり、毒性のある副作用が強い。さらに、微生物の場合、バイオフィルムとして表面上で増殖するさいに、全体としてより耐性が強くなり、多くの感染症にバイオフィルムが関与しているものと現在は認識されている。バイオフィルムは食品加工施設における食品汚染という大きな脅威の原因になるものであり、また微生物の侵襲に弱い他の食品の腐敗の原因にもなる。
バイオフィルムの形成を防止し、従って腐敗または感染につながる危険性を抑制する一つの方法は、ターゲットの微生物が耐性を発現しにくい抗菌被膜を表面に使用する方法である。これら被膜は制菌性または殺菌性を呈するため、ある腐敗や感染が発生した後に見られることが多い反応性になる殺菌消毒と比較した場合予防的な対処法を担保するものである。従来の抗生物質とは対照的に、細菌は、微生物を化学的ではなく機械的に抑制する抗菌被膜に対して耐性を容易には発現しない。この重要な特質が、そして実効的な抗生物質数の不安を感じさせる減少率が、近年におけるこれら抗菌被膜への関心が急速に高まっている一つの大きな理由である。
第４級アンモニウム化合物（ＱＡＣ）については、抗菌活性を呈する表面活性剤として既に認識されている。ＱＡＣは不可逆的に正荷電された第４級窒素原子からなり、少なくとも一つの置換基が脂肪族長鎖であることが多い。これら化合物を合成する場合、Ｍｅｎｓｈｕｔｋｉｎ反応（即ち第３級アミンとアルキルハロゲン化物との反応）後第３級アミンの第４級化を行う。
ある個別の理論によって制限されるものではないが、ＱＡＣの殺菌作用モードは多工程である。最初に、ＱＡＣが細菌の細胞壁に吸着する。次に、ＱＡＣの長い疎水性アルキル鎖が細菌の細胞膜を構成するリン脂質二重層と相互作用し、細胞壁に応力を加えるその流動性および構造を改変する。最後に、細胞壁に付加された応力がリン脂質二重層をひっくり返し、細胞質物質を追い出し、最終的に細胞死に至る。
重合した抗菌被膜の場合、化学的に安定で、毒性を示さず、揮発性を示さないため、基体からの化学物質の浸出に依存する従来の抗菌被膜よりも効率が高く、選択性も高い上に環境的により安全である。過去３５年にわたって熱可塑性ポリマー溶液に抗菌被膜を利用することが常識であった。さらに、抗菌剤を熱可塑性ポリマーに利用するために通常使用されている溶剤は、例示するとテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）である。これら溶剤は、ポリウレタン、ポリイソプレン、ブチルゴム、ポリカーボネートなどの表面を始めする重合体表面を攻撃する能力をもつ。この攻撃によって表面が歪むことが多く、表面における溶剤の一体性が変化する。この変化によって、抗菌成分の濃度が抑制に必要な閾値を下回った時に、抗菌成分に対して耐性がある微生物細胞、そして後工程での他の成分による付着度が強くなる。また、従来の被膜の場合、表面への被覆後、この表面から溶剤を完全に蒸発させるためにほぼ２４時間程度の乾燥時間が必要になる。
抗菌性被膜の開発は、熱可塑性ポリマーに利用することができる好適な抗菌剤の入手性によって制限を受ける。銀は元素形態および塩形態の両形態で使用される一つの代表的な試剤であるが、銀を重合した物質に利用する技術は手間がかかる上に、コストも高く、環境にやさしくない。さらに、銀は性能が弱く、微生物に対して有効なレベルに達するためには８時間もの時間が必要であり、銀で処理した物質には通常退色が見られる。このように、微生物を根絶するともに、バイオフィルムの形成を防止する、コストが低く、耐久性もあり、有効な上に有害な副作用のない組成物が長い間求められている。
抗菌性被膜のポリマー表面上における安定性をレベルアップするさいには、抗菌剤の不可逆的な共有付着が望ましい。通常官能基化した表面および/または抗菌性分子を使用する抗菌剤をポリマー表面にグラフトする方法が開発されている。これら官能基化技術の一部の場合、コストが高い上に、広い範囲から合成方法論を選択する必要がある。近年、光反応基が関与する光活性化系について報告がある。ベンゾフェノンは普及している光反応性基であり、一般に芳香剤や化粧品として利用されている。現在、ベンゾフェノン基をＱＡＣに導入すると、ＱＡＣを重合した面に永続的に結合できる可能性があることが分かっている。
ＵＳＰ３，６９７，４０２には、光硬化性チオールキャップ化ポリアルケンポリマーが開示されている。このポリアルケンポリマーの場合、対象表面に被覆され、紫外（ＵＶ）光に暴露されると、特に密閉剤、被覆剤や接着剤として使用できる固形生成物が得られる。
ＵＳＰ４，９４８，８１９には、ＵＶ硬化ラッカー被膜として使用される、光活性結合分子を有する水溶性の第４級アンモニウムメタクリレート被膜が開示されている。
ＵＳＰ５，７１４，３６０には、化学的架橋剤Ｘ−Ｙ−Ｘ（Ｘは光反応性ラジカル、そしてＹはある化合物を他の化合物または基体に結合するために使用される窒素含有基である）が開示されている。
Ｊ．Ｃ．Ｔｉｌｌｅｒなどは、（Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ａｃａｄｅｍｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ、２００１、９８、５９８１）において、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）−ＱＡＣからなる表面被膜組成物であって、表面が予め官能基化されたガラス表面で、ＰＶＰ−ＱＡＣが官能基に結合した表面被膜組成物を記載している。この表面の場合、塩化アシル化合物を使用して予め官能基化し、被膜がガラス表面に結合できるようにしておく必要がある。
米国特許出願公開第２００６/０１４７４１３号には、蛋白質、遺伝子、ベクトルや細胞などの分子治療剤を効果的に利用するために使用する反応性基バイオマテリアルを介して結合した水溶性の光活性ポリマーが開示されている。
米国特許出願公開第２００７/０２３１２９１号には、表面を細菌攻撃や真菌攻撃から保護するために使用する重合したＱＡＣ−ポリエチレンイミンが開示されている。
国際特許出願公開第ＷＯ２０１０/０６５４２１号には、レオロジー改良剤または抗菌剤を含有し、抗菌剤が被膜ポリマーに共有結合していないＵＶ硬化性被膜が開示されている。
国際特許出願公開第ＷＯ２０１０/０９６４４４号には、予め官能基化された表面に結合し、この表面に抗菌活性を付与できるＵＶ硬化性ポリエチレンイミンポリマーが開示されている。上記表面を７−オクテニルトリクロロシランと反応させることによって官能基化を行う。
Ｖ．Ｐ．Ｄｈｅｎｄｅ等は（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅｓ、２００１、３、２８３０）において、予め官能基化された表面に結合し、この表面に抗菌活性を付与できるＵＶ硬化性ポリエチレンイミン共重合体が開示されている。上記表面をオクチルトリクロロシランと反応させることによって官能基化を行う。
国際特許出願公開第ＷＯ２０１１/１３９８１７号には、予め官能基化された表面に結合し、この表面に抗菌活性を付与できるＵＶ硬化性ビニル置換ポリエチレンイミンが開示されている。上記表面を７−オクテニルトリクロロシランと反応させることによって官能基化を行う。
Ｍｕｓｔａｆａ Ｂａｒｉｓ Ｙａｇｃｉは（“Ｓｅｌｆ−Ｓｔｒａｔｉｆｙｉｎｇ Ａｎｔｉｍｉｃｒｏｂｉａｌ Ｃｏａｔｉｎｇｓ”、Ｐｈ．Ｄ．ｄｉｓｓｅｒｔａｔｉｏｎ、Ｊａｎｕａｒｙ １６、２０１２）において、特にＱＡＣ−結合ポリウレタン表面被膜を記載している。
このように、細菌耐性を最小化するか、あるいは細菌耐性を排除できる耐久性がある上に環境的に安全な抗菌表面被膜が長い間求められてきていることがわかる。
ＵＳＰ３，６９７，４０２ ＵＳＰ４，９４８，８１９ ＵＳＰ５，７１４，３６０ 米国特許出願公開第２００６/０１４７４１３号 米国特許出願公開第２００７/０２３１２９１号 国際特許出願公開第ＷＯ２０１０/０６５４２１号 国際特許出願公開第ＷＯ２０１０/０９６４４４号 国際特許出願公開第ＷＯ２０１１/１３９８１７
Ｊ．Ｃ．Ｔｉｌｌｅｒ ｅｔ ａｌ．、Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ａｃａｄｅｍｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ、２００１、９８、５９８１ Ｖ．Ｐ．Ｄｈｅｎｄｅ ｅｔ ａｌ．、Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅｓ、２００１、３、２８３０ Ｍｕｓｔａｆａ Ｂａｒｉｓ Ｙａｇｃｉ、"Ｓｅｌｆ−Ｓｔｒａｔｉｆｙｉｎｇ Ａｎｔｉｍｉｃｒｏｂｉａｌ Ｃｏａｔｉｎｇｓ"、Ｐｈ．Ｄ．ｄｉｓｓｅｒｔａｔｉｏｎ、Ｊａｎｕａｒｙ １６、２０１２ Ｗａｎｇ、Ｘ＆Ｓｃｈｎｅｉｄｅｒ、Ｈ．Ｂｉｎｄｉｎｇ ｏｆ ｄａｎｓｙｌａｍｉｄｅ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ ｔｏ ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ ａｎｄ ｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．２、１９９８、１３２３−１３２８ Ｈｉｌｌｍａｎ Ｇ．Ｒ．ｅｔ ａｌ．、Ｅｆｆｅｃｔｓ ｏｆ Ｄａｎｓｙｌａｔｅｄ Ａｃｅｔｙｌｃｈｏｌｉｎｅ Ａｎａｌｏｇｓ ｏｎ Ｓｃｈｉｓｔｏｓｏｍａ ａ Ｍａｎｓｏｎｉ、Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｓｃｉ．、１９８０、６９（５）、５１６−５２０ Ｓａｅｔｔｏｎｅ ｅｔ ａｌ．、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｅ、１９８８、１０、９９−１０９ Ａｃｏｓｔａ ｅｔ ａｌ．、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ、１９９６、５２，１１−１７ Ｍａｒｋｉｓｏｎ Ｃ ａｎｄ Ｓｗａｎ Ｊ．、"Ｔｈｅ ｅｆｆｅｃｔ ｏｆ ｈｕｍｉｄｉｔｙ ｏｎ ｔｈｅ Ｓｕｒｖｉｖａｌ ｏｆ ＭＲＳＡ ｏｎ Ｈａｒｄ Ｓｕｒｆａｃｅｓ"、Ｉｎｄｏｏｒ ａｎｄ Ｂｕｉｌｔ Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ、２００６、１５（１）、８５−９１
本発明の一つの態様は、下記の式（Ｉ）で表わされる新規な第４級アンモニウム化合物を提供するものである。
Figure 2015536352

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本発明の別な態様は、式（Ｉ）で示される第４級アンモニウム化合物の製造方法を提供するものである。
Figure 2015536352
この製造方法は、式（ＩＩ）の化合物：
Figure 2015536352
を式（ＩＩＩ）のアルキルハロゲン化物：
Figure 2015536352
（式中、Ｙはクロロまたはブロモから選択されるハロゲンであり、好ましくはブロモである）と炭酸アルカリ金属の存在下で反応させて、式（ＩＶ）：
Figure 2015536352
で表わされる化合物を生成する工程（ａ）、
式（ＩＶ）の化合物を適宜式（Ｖ）：
Figure 2015536352
で表わされる化合物に変換する工程（ｂ）、および
式（ＩＶ）または式（Ｖ）の化合物を式（ＶＩａ）または式（ＶＩｂ）：
Figure 2015536352

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上記製造方法の好適な実施態様では、ＤＭＦ、ＴＨＦまたはアセトニトリルなどの極性かつ非プロトン性の反応溶剤中で、好ましくはアセトニトリル中で上記製造方法を行う。また、この製造方法は反応溶剤の還流温度で実施することが可能である。製造方法時間については、約１８時間〜約３６時間であればよく、好ましくは２４時間である。最終生成物については好ましくはクロマトグラフィーか再結晶化などによって適宜精製することが可能である。
本発明の別な態様は、式（Ｉ）の化合物および環境にやさしいキャリヤーからなる抗菌性表面被膜組成物を提供するものである。
Figure 2015536352
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本発明のさらに別な態様は、対象となる表面を抗菌性被膜で処理する方法に関する。この処理方法は、式（Ｉ）の化合物および環境にやさしいキャリヤーからなる組成物を上記表面に接触させる工程、このようにして被膜された表面を照射する工程および適宜この被膜された表面を洗浄する工程からなる。
Figure 2015536352

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Figure 2015536352
上記以外の他の態様については、当業者ならば読み取ることができるはずである。
ブロモフェニルブルーで染色した抗菌表面処理を示す図である。 紫外光下で蛍光発光する抗菌処理を示す図である。 実施例１の化合物１ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１の化合物１ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例２の化合物１ｂの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例２の化合物１ｂの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例３の化合物２ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例３の化合物２ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例４の化合物３ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例４の化合物３ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例５の化合物３ｂの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例５の化合物３ｂの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例６の化合物１ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例６の化合物１ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例７の化合物２ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例７の化合物２ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例８の化合物３ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例８の化合物３ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例９の化合物４ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例９の化合物４ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１０の化合物４ｂの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１０の化合物４ｂの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１１の化合物４ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１１の化合物４ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１２の化合物５ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１２の化合物５ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１３の化合物５ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１３の化合物５ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１４の化合物６ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１４の化合物６ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１５の化合物６ｂの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１５の化合物６ｂの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１６の化合物６ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１６の化合物６ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１７の化合物７ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１７の化合物７ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１８の化合物７ｂの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１８の化合物７ｂの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例１９の化合物７ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例１９の化合物７ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例２０の化合物８ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例２０の化合物８ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例２１の化合物８ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例２１の化合物８ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例２２の化合物９ａの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例２２の化合物９ａの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例２３の化合物９ｂの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例２３の化合物９ｂの１３ＣＮＭＲを示す図である。 実施例２４の化合物９ｃの１ＨＮＭＲを示す図である。 実施例２４の化合物９ｃの１３ＣＮＭＲを示す図である。
本発明は、紫外光活性部分に結合した新規な第４級アンモニウム化合物、この化合物の製造方法、および対象表面をこの化合物で処理して耐久性を示す抗菌化処理物品を得る処理に関する。
本発明の第４級アンモニウム化合物は、それぞれ独立して同じか異なる、２つのアルキル基に結合した正荷電の窒素中心、紫外光活性部分、長分子アルキル鎖、およびハロゲン対イオンからなる。２つのアルキル基としてそれぞれ独立してメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはｉ−プロピルが好ましく、最も好ましいのはメチルである。アルキル鎖の炭素原子数としては少なくとも１２以上であるのが好ましく、より好ましくは１２〜３６であり、最も好ましくは１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８のいずれかの炭素原子数
である。アルキル鎖は分岐状でもよく、あるいは線状でもよく、好ましいのは線状アルキル鎖である。紫外光活性部分は、好ましくは炭素原子数が３〜６のアルキル鎖を介して正荷電の窒素中心に結合している。アルキル鎖としては線状アルキル鎖が好ましく、紫外光活性部分としてはベンゾフェノンが好ましい。ハロゲン対イオンとしてはクロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択されるものが好ましく、そしてクロロまたはブロモから選択されるものが最も好ましい。ただし、ハロゲンがブロモの場合、紫外光活性部分を窒素中心に結合するアルキル鎖は炭素原子数が３であり、２つのアルキル基はメチルであり、長分子アルキル鎖の炭素原子数は１８であってはならない。
本発明の第４級アンモニウム化合物については、それぞれ独立して同じか異なる、２つのアルキル基に結合した正荷電の窒素部分、紫外光活性部分、および次式（ＶＩｂ）のジ−Ｎ−置換−ジアルキルアミノプロピルナフタレン−１−スルホンアミド基から構成することもできる。
Figure 2015536352
式中、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して水素、炭素原子数が１〜６の線状アルキルまたは分岐アルキルまたは炭素原子数が６〜１０のアリールであり、Ｒ３およびＲ４についてはメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはイソプロピルが好ましく、またＲ５については水素が好ましい。２つのアルキル基としてはそれぞれ独立してメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはｉ−プロピルが好ましく、最も好ましいのはメチルである。紫外光活性部分は、好ましくは炭素原子数が３〜６のアルキル鎖を介して正荷電の窒素中心に結合している。アルキル鎖として線状アルキル鎖が好ましく、紫外光活性部分としてはベンゾフェノンが好ましい。ジ−Ｎ−置換−ジアルキルアミノプロピルナフタレン−１−スルホンアミド基は、紫外光の下で蛍光発光し、第４級アンモニウム化合物の存在を示す指標として作用する。
本発明の第４級アンモニウム化合物は、ＱＡＣ製造において公知な合成方法に改変を加えることによって製造できる。一般的には、第１工程で、還流条件下において極性非プロトン性溶剤中炭酸アルカリ金属の存在下においてベンゾフェノンをジハロアルカンと反応させる。ジハロアルカンは同じか異なるハロゲン基を含有し、好ましくはクロロ、ブロモおよびヨードから選択されるハロゲン基を含有する。ジハロアルカンは炭素原子数が３〜１０であり、好ましい炭素原子数は４〜９であり、最適な炭素原子数は５〜８である。炭酸アルカリ金属は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムから選択されるものであり、最適なのは炭酸カリウムである。極性、非プロトン性溶剤としては任意の溶剤を使用することができ、ＤＭＦ、アセトン、ＴＨＦおよびアセトニトリルからなる群から選択するのが好ましい。最適な溶剤はアセトニトリルである。反応混合物については、反応混合物が実質的に透明になり、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）分析によって出発物質が完全に消費されたことが判明する時間まで加熱する。反応混合物を加熱還流するのが好ましい。最終ハロアルキルベンゾフェノン生成物については、好ましくはＣｅｌｉｔｅＴＭを使用する濾過によって単離して副生成物のハロゲン化アルカリ金属を除去し、これを極性や非プロトン性溶剤で洗浄し、ＣｅｌｉｔｅＴＭに保持されている最終生成物がある場合にはこれを抽出し、濾液が乾燥するまでこれを蒸発処理し、好ましくはクロマトグラフィー法、最適にはカラムクロマトグラフィーを使用して最終生成物を精製処理する。溶離溶剤としては酢酸エチル/ヘキサンからなる溶剤混合物が好ましい。この最終ハロアルキルベンゾフェノン生成物については、適宜再結晶化によってさらに精製処理を行うことができる。
上記工程のハロアルキルベンゾフェノン生成物については、適宜、還流している極性、非プロトン性溶剤、好ましくはアセトン中でこのハロアルキルベンゾフェノンをヨウ化ナトリウムと反応させることによってヨードアルキルベンゾフェノンに転換することが可能である。
上記製造方法の第２工程では、上記ハロとしてクロロ、ブロモまたはヨードから選択した上記工程のハロアルキルベンゾフェノンを還流極性溶剤中でトリアルキルアミンと反応させる。このトリアルキルアミンのアルキル基の一つは炭素原子数が少なくとも１２、好ましくは１２〜３６であり、より好ましくは１２、１３、１４、１５、１６、１７および１８からなる群から選択する。アルキル鎖としては分岐鎖でもよく、線状鎖でもよい。好ましいのは線状アルキル鎖である。残りの２つのアルキル基はそれぞれ独立してＸチル、エチル、ｎ−プロピルまたはｉ−プロピルであり、メチルが最適である。溶剤についてはＤＭＦ、アセトン、ＴＨＦ、エタノール、メタノールまたはアセトニトリルから選択できる。最適な溶剤はアセトニトリルである。反応については、出発物質が実質的に存在しなくなるまで続行する。反応の進行をモニターする一つの方法はＴＬＣである。他の方法も利用可能である。第４級アンモニウム生成物については、クロマトグラフィー法によって精製するのが好ましく、カラムクロマトグラフィーによって精製するのが最適である。溶離溶剤としてはメタノールおよびアセトニトリル中に６％の臭化ナトリウムを含有する溶剤混合物が好ましい。最終第４級アンモニウム生成物については、混合溶剤、好ましくはエタノール/アセトンからの再結晶によって適宜さらに精製することができる。
次式（ＶＩｂ）のジ−Ｎ−置換−ジアルキルアミノプロピルナフタレン−１−スルホンアミド基でキャップした第４級アンモニウム化合物の合成については、
Figure 2015536352
（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して水素、炭素原子数が１〜６の線状アルキルまたは分岐アルキルまたは炭素原子数が６〜１０のアリールであり、Ｒ３およびＲ４についてはメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはイソプロピルが好ましく、またＲ５については水素が好ましい）上記工程からのハロアルキルベンゾフェノンをアルキル基の一つが５−ジメチルアミノナフタレン−１−スルホンアミドプロピルで、残りの２つのアルキル基がそれぞれ独立してメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはｉ−プロピルから選択されるもので、好適にはメチルであるトリアルキルアミンと反応させることによって実施できる。ハロアルキルベンゾフェノンのハロ基はクロロ、ブロモまたはヨードであればよい。この反応はＤＭＦ、アセトン、ＴＨＦ、メタノール、エタノールまたはアセトニトリルから選択する還流極性溶剤中で実施できる。最適な溶剤はアセトニトリルである。反応については、出発物質が実質的に存在しなくなるまで続行する。反応の進行をモニターする一つの方法はＴＬＣである。第４級アンモニウム生成物については、冷たいジエチルエーテル、より好ましくは約−１０℃〜約１０℃の温度か、好ましくは約０℃の温度のジエチルエーテルの添加により反応混合物から沈殿させ、反応溶剤を蒸発させることによって単離する。
別な実施態様における本発明の第４級アンモニウム化合物は、硬質表面の抗菌処理に使用できる。個別の理論に拘るものではないが、第４級アンモニウム化合物の紫外光活性部分は紫外光の存在下でジラジカル種に転換し、Ｃ−Ｈ結合をもつ表面と反応し、共有Ｃ−Ｃ結合を生成する。この結果、第４級アンモニウム化合物の固着した、耐久性のある抗菌被膜が得られる。
硬質表面などの物品の処理については、本発明の第４級アンモニウム化合物の溶液を使用して表面を浸漬処理、塗布処理、噴霧処理または被膜処理することにより実施できる。処理対象表面としては、内面および／または外面でもよい。処理溶液は環境にやさしい溶液で、水または水/アルコール溶剤混合物キャリヤーからなる。好ましいのは水/メタノール、水/エタノールまたは水/イソプロパノールで、最適なのは水または水/イソプロパノールである。処理溶液中の第４級アンモニウム化合物量は、容量％で約０．０１％〜約１％、好ましくは約０．０５％〜約０．５％である。一つの実施態様では、予めイソプロパノールで洗浄し、乾燥処理したポリ塩化ビニルを使用し、紫外光活性部分が炭素原子数５のアルキル鎖で窒素中心に結合した炭素原子数１８の第４級アンモニウム化合物の０．０５％溶液または０．５％溶液でこれを処理する。キャリヤーは、水/メタノール溶液混合物である。予め洗浄し、乾燥処理したポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）基体に上記溶液を電気噴霧してから、十分な被膜が得られるまで紫外光照射を行う。一般的な紫外光波長は約２００〜４００ｎｍであり、好適な紫外光波長は約３４５〜約３６５ｎｍである。被膜処理したＰＶＣ基体については、適宜、水/イソプロパノール混合物でリンス処理し、乾燥処理する。
図１を参照して説明すると、本発明の抗菌処理を示すために、紫外光活性部分が炭素原子数５のアルキル鎖で窒素中心に結合した炭素原子数１８の第４級アンモニウム化合物を使用して処理したＰＶＣ基体を水洗し、ブロモフェニルブルーで処理した。また、本発明の抗菌処理を示すために、第２のＰＶＣ基体サンプルを同じ第４級アンモニウム化合物で処理し、イオン洗浄剤で洗浄し、水でリンス処理し、ブロモフェニルブルーで処理した。
図２を参照して説明すると、５−ジメチルアミノナフタレン−１−スルホンアミドプロピル第４級アンモニウム化合物で処理したシリコーンチューブ基体は、紫外光の下で蛍光発光し、本発明の抗菌処理の存在を示している。
図３〜図５０について説明する。横軸はＮＭＲの化学ピークの化学シフト（単位ｐｐｍ）を示し、縦軸は化学シフトピークの強度を示す。
以下に非制限的な実施例を示す。
出発物質
特に断らない限り、すべての試薬およびすべての溶剤は、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社から入手したもので、入手状態のものをそのまま使用した。炭酸カリウムはＦｉｓｈｅｒ社から、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンはＡｃｒｏｓ社から、そしてヨウ化ナトリウムはＢＤＨ社から入手した。５−（ジメチルアミノ）−Ｎ−（３−（ジメチルアミノ）プロピル）ナフタレン−１−スルホンアミド（化合物１０）は文献：Ｗａｎｇ、Ｘ＆Ｓｃｈｎｅｉｄｅｒ、Ｈ．Ｂｉｎｄｉｎｇ ｏｆ ｄａｎｓｙｌａｍｉｄｅ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ ｔｏ ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ ａｎｄ ｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．２、１９９８、１３２３−１３２８；Ｈｉｌｌｍａｎ Ｇ．Ｒ．ｅｔ ａｌ．、Ｅｆｆｅｃｔｓ ｏｆ Ｄａｎｓｙｌａｔｅｄ Ａｃｅｔｙｌｃｈｏｌｉｎｅ Ａｎａｌｏｇｓ ｏｎ Ｓｃｈｉｓｔｏｓｏｍａ ａ Ｍａｎｓｏｎｉ、Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｓｃｉ．、１９８０、６９（５）、５１６−５２０に記載されている方法に従って用意した。ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）については、Ｏｒａｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ社（Ｗｏｏｄｂｒｉｄｇｅ ＯＮ）から入手し、そしてシリコーンチューブについてはＶＷＲブランドの精選シリコーン製チューブ（０．０６２×０．１２５×０．０３２ｃｍ）を使用した。使用した紫外光換気フードには、Ｇ３０Ｔ８ ３０ワット殺菌蛍光球を装着したものを使用し、ＨａｎｏｖｉａユーティリティＵＶ石英灯の出力は１４０ワットであった。抗菌性試験に使用したトリプチケースソイ寒天培地（Ｔｒｙｐｔｉｃａｓｅ ｓｏｙ ａｇａｒ）は、Ｂｉｏ Ｂａｓｉｃ Ｃａｎａｄａ Ｉｎｃ．社のＡｇａｒ Ａであった。
機器分析方法
溶剤として重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ３）を使用して４００ＭＨｚ Ｂｒｕｋｅｒ Ａｖａｎｃｅ分光計で核磁気共鳴（ＮＭＲ）実験を行った。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ）については残留プロトン化溶剤共鳴信号（ＣＨＣｌ３：７．２６ｐｐｍ）を参照し、そして１３Ｃ（１００．６ＭＨｚ）については溶剤の中心炭素共鳴信号（ＣＤＣｌ３：７７．０ｐｐｍ）を参照した。すべての化学シフトは、溶剤に対してδ（ｐｐｍ）で示す。すべてのカラムクロマトグラフィー（ＴＬＣ）については、特に断らない限り、ＥｔＯＡｃ/ヘキサン（２０：８０）溶液を使用するシリカゲル６０溶離法によって行った。融点については、Ｆｉｓｃｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ ｍｅｌｔｉｎｇ ｐｏｉｎｔ装置を使用して測定した。紫外光光源としては出力が１４０ワットの石英水銀灯を使用した。
参考実施例：（１ａ−ｂ；２ａ−ｂ；３ａ−ｂ）の合成
Figure 2015536352
５０ｍＬの円形ボトムフラスコを使用して、ジハロアルカン（４当量）および炭酸カリウム（２当量）をアセトニトリル（１０ｍＬ）に溶解した。滴下漏斗を使用して、アセトニトリル（１０ｍＬ）に溶解した４−ヒドロキシベンゾフェノン（１当量）の溶液を用意し、これを還流下一滴ずつ添加した。透明な溶液が得られるまで、あるいはＴＬＣによって出発物質４−ヒドロキシベンゾフェノンが消失したことが判明するまで、生成した黄色混合物を還流下加熱した。過剰な臭化カリウム塩をＣｅｌｉｔｅＴＭで濾別し、これをアセトン（１０ｍＬ）で洗浄した。混合物を減圧下蒸発処理し、粗生成物を得た。
粗生成物をシリカに充填し、乾式カラムクロマトグラフィー（４．５ｃｍ×５．０ｃｍフリット、シリカ４０ｇ）によって精製し、ＥｔＯＡｃ/ヘキサン（２０：８０）で溶離処理して、目的の生成物を得、これをさらにトルエン/ヘキサン（１：３）から再結晶化した。
参考実施例２：４−Ｏ−（ｎ−ヨードアルキル）ベンゾフェノン前駆体（１ｃ、２ｃ、３ｃ）の合成
Figure 2015536352
５０ｍＬの円形ボトムフラスコを使用して、４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノン（１当量）およびヨウ化ナトリウム（３当量）をアセトン（１０ｍＬ）中で混合し、得られた混合物について２４時間還流状態に維持するか、あるいはＴＬＣによって出発物質（ＥｔＯＡｃ/ヘキサン２０：８０）が消失したことが判明するまで還流状態を維持した。過剰なヨウ化ナトリウム塩および臭化ナトリウム塩をＣｅｌｉｔｅＴＭで濾別し、冷たいヘキサンで洗浄処理した。次に、溶剤抽出物を減圧蒸発処理し、粗生成物をシリカに乾式充填し、乾式カラムクロマトグラフィー（４．５ｃｍ×５．０ｃｍフリット、シリカ４０ｇ）によって精製し、ＥｔＯＡｃ/ヘキサン（２０：８０）で溶離し、目的の生成物を得た。さらに、トルエン/ヘキサン（１：２）からの再結晶を行った。
参考実施例３：Ｎ−（ｎ−（４−ベンゾフェノキシ）アルキル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタデカン−１−アンモニウムハライドの合成
Figure 2015536352
２０ｍＬのスクリューキャップバイアルを使用して、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタデシルアミン（１．１当量）および４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノン（１．０当量）をアセトニトリル（１ｍＬ）中で混合した。得られた混合物について１００℃の砂浴中で２４時間撹拌状態を維持するか、あるいはＴＬＣによって出発物質（アセトン/アンモニア１５：１）が消失したことが判明するまで撹拌状態を維持した。次に、バイアルを除熱し、周囲条件で冷却し、粗生成物を得た。エタノール/アセトン（１：３）を使用して粗生成物を再結晶化させて真空下蒸発処理し、目的の生成物を得た。
参考実施例４：ｎ−（４−ベンゾフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルアルキル−１−アンモニウムハライドの合成
Figure 2015536352

２０ｍＬのスクリューキャップバイアルを使用して、５−（ジメチルアミノ）−Ｎ−（３−（ジメチルアミノ）プロピル）ナフタレン−１−スルホンアミド１０（１．０当量）およびハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノン（１．０当量）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解した。得られた溶液について１００℃の砂浴中で２４時間撹拌状態を維持するか、あるいはＴＬＣによって出発物質（ＥｔＯＡｃ/ヘキサン２０：８０）が消失したことが判明するまで撹拌状態を維持した。次に、冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を一滴ずつ添加することによって得られた溶液から残留物を沈殿させ、真空下蒸発処理し、目的の生成物を得た。
実施例１：４−Ｏ−（３−ブロモプロピル）ベンゾフェノン１ａ
Figure 2015536352
文献：Ｓａｅｔｔｏｎｅ ｅｔ ａｌ．、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｅ、１９８８、１０、９９−１０９に記載されている４−ヒドロキシベンゾフェノンのハロゲン化物アルキル化の一般的な方法に従って、１，３−ジブロモプロパン（６０．５ｍｍｏｌ、６．１４ｍＬ）、炭酸カリウム（３０．２ｍｍｏｌ、４．１８ｇ）および４−ヒドロキシベンゾフェノン（１５．１ｍｍｏｌ、３．０ｇ）を還流下アセトニトリル（２０ｍＬ）中で２４時間撹拌し、４−Ｏ−（３−ブロモプロピル）ベンゾフェノンの粗生成物を得、これをトルエン/ヘキサン中で再結晶化させて、化合物１ａを得た（収量３．２２ｇ、収率６６．７％）。Ｃ１６Ｈ１５ＢｒＯ２；オフホワイト色粉末。融点５４〜６６℃、１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００ＭＨｚ）δ２．３５（ｍ、−ＣＨ２、２Ｈ）、３．６２（ｍ、−ＣＨ２、２Ｈ）、４．２１（ｍ、−ＣＨ２、２Ｈ）、６．９５（ｓ、Ａｒ、２Ｈ）、７．５５（ｍ、Ａｒ、２Ｈ）、７．６０（ｍ、Ａｒ、１Ｈ）、７．７５（ｍ、Ａｒ、２Ｈ）、７．８０（ｍ、Ａｒ、２Ｈ）ｐｐｍ；１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、１００ＭＨｚ）δ１９５．５２（Ｃ５）、１６２．３１（Ｃ９）、１３８．２４（Ｃ４）、１３２．５８（Ｃ３）、１２９．７４（Ｃ１）、１２９．７３（Ｃ６）、１２８．２１（Ｃ２）、１１４．０４（Ｃ８）、６５．５３（Ｃ１０）、３２．１４（Ｃ１２）、２９．７４（Ｃ１１）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ１６Ｈ１５ＢｒＯ２の［Ｍ＋］計算値３１９．０３３４；実測値３１９．０３２９。
実施例２：４−Ｏ−（３−クロロプロピル）ベンゾフェノン１ｂ
Figure 2015536352

このグループから誘導される一般的な方法に従って、１−ブロモ−３−クロロプロパン（５０．４ｍｍｏｌ、５．００ｍＬ）、炭酸カリウム（２５．３ｍｍｏｌ、３．４９ｇ）および４−ヒドロキシベンゾフェノン（１２．６ｍｍｏｌ、２．５０ｇ）を還流下アセトニトリル（２０ｍＬ）中で２４時間撹拌し、４−Ｏ−（３−クロロプロピル）ベンゾフェノンの粗生成物を得、これをトルエン/ヘキサン中で再結晶化させて、化合物１ｂを得た（収量１．２１ｇ、収率３４．９％）。Ｃ１６Ｈ１５ＣｌＯ２；オフホワイト色粉末。１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００
Figure 2015536352
（Ｃｌ）、１２８．２１（Ｃ２）、１１４．０４（Ｃ８）、６５．５３（Ｃ１０）、３２．１４（Ｃ１２）、２９．７３（Ｃ１１）ｐｐｍ。なお、化学特性は、Ｓａｅｔｔｏｎｅｅｔ ａｌ．、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ＣｏｓｍｅｔｉｃＳｃｉｅｎｃｅ、１９８８、１０、９９−１０９の記載に従って得られたものと一致する。
実施例３：４−Ｏ−（４−ブロモブチル）ベンゾフェノン２ａ
Figure 2015536352
文献：Ｓａｅｔｔｏｎｅ ｅｔ ａｌ．、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｅ、１９８８、１０、９９−１０９に記載されている４−ヒドロキシベンゾフェノンのハロゲン化物アルキル化の一般的な方法に従って、１，４−ジブロモブタン（５０．４ｍｍｏｌ、６．０２ｍＬ）、炭酸カリウム（２５．３ｍｍｏｌ、３．４９ｇ）および４−ヒドロキシベンゾフェノン（１２．６ｍｍｏｌ、２．５０ｇ）を還流下アセトニトリル（２０ｍＬ）中で２４時間撹拌し、４−Ｏ−（４−ブロモブチル）ベンゾフェノンの粗生成物を得、これをトルエン/ヘキサン中で再結晶化させて、化合物２ａを得た（収量３．８４６ｇ、収率９１．６％）。Ｃ１７Ｈ１７ＢｒＯ２；淡黄色粉末；１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００ＭＨｚ）δ＝１．９９（ｍ、−ＣＨ２−、２Ｈ）、２．０９（ｍ、−ＣＨ２−、２Ｈ）、３．５１（ｍ、−Ｂｒ−ＣＨ２、２Ｈ）、４．０９（ｍ、−Ｏ−ＣＨ２、２Ｈ）、６．９５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．４５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．５５（ｍ、−Ａｒ、１Ｈ）、７．７５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．８５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）ｐｐｍ；１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、１００ＭＨｚ）δ１９５．５２（Ｃ５）、１６２．５１（Ｃ９）、１３８．２７（Ｃ４）、１３２．５７（Ｃ３）、１３１．９０（１）、１２９．７２（Ｃ６）、１２８．２０（２）、１１３．９９（８）、６７．１３（Ｃ１０）、３３．３１（Ｃ１３）、２９．３６（Ｃ１１）、２７．７６（Ｃ１２）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ１７Ｈ１７ＢｒＯ２の［Ｍ＋］計算値３３３．０４９０；実測値３３３．０４８６。
実施例４：４−Ｏ−（６−ブロモヘキシル）ベンゾフェノン３ａ
Figure 2015536352
文献：Ｓａｅｔｔｏｎｅ ｅｔ ａｌ．、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｅ、１９８８、１０、９９−１０９に記載されている４−ヒドロキシベンゾフェノンのハロゲン化物アルキル化の一般的な方法に従って、１，６−ジブロモヘキサン（４０．４ｍｍｏｌ、６．２１ｍＬ）、炭酸カリウム（２０．２ｍｍｏｌ、２．７９ｇ）および４−ヒドロキシベンゾフェノン（１０．１ｍｍｏｌ、２．００ｇ）を還流下アセトニトリル（２０ｍＬ）中で２４時間撹拌し、４−Ｏ−（６−ブロモヘキシル）ベンゾフェノンの粗生成物を得、これをトルエン/ヘキサン中で再結晶化させて、化合物３ａを得た（収量１．４９５ｇ、収率４２．７％）。Ｃ１９Ｈ２１ＢｒＯ２；白色粉末；１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００ＭＨｚ）δ＝１．５５（ｍ、−ＣＨ２−、４Ｈ）、１．８８（ｍ、−ＣＨ２−、４Ｈ）、３．４５（ｍ、−Ｂｒ−ＣＨ２、２Ｈ）、４．０９（ｍ、−Ｏ−ＣＨ２、２Ｈ）、６．９５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．４５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．５５（ｍ、−Ａｒ、１Ｈ）、７．７９（ｍ、−Ａｒ、４Ｈ）ｐｐｍ、；１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、１００ＭＨｚ）δ１９５．５２（Ｃ５）、１６２．７５（Ｃ９）、１３８．２２（Ｃ４）、１３２．５７（Ｃ３）、１２９．９８（Ｃ７）、１２９．７２（Ｃ１）、１２８．１８（Ｃ２）、１１４．００（Ｃ８）、６７．９９（Ｃ１０）、３３．７８（Ｃ１５）、３２．６３（Ｃ１４）、２８．９４（Ｃ１１）、２７．８８（Ｃ１３）、２５．２５（Ｃ１２）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ１９Ｈ２１ＢｒＯ２の［Ｍ＋］計算値３６１．０８０３；実測値３６１．０７９６。
実施例５：４−Ｏ−（６−クロロヘキシル）ベンゾフェノン３ｂ
Figure 2015536352
４−ヒドロキシベンゾフェノンのハロゲン化物アルキル化の一般的な方法に従って、１−ブロモ-６−クロロヘキサン（１３．９ｍｍｏｌ、２．７７ｍＬ）、炭酸カリウム（２５．２ｍｍｏｌ、３．４９ｇ）および４−ヒドロキシベンゾフェノン（１２．６ｍｍｏｌ、２．５０ｇ）を還流下アセトニトリル（２０ｍＬ）中で２４時間撹拌し、４−Ｏ−（６−クロロヘキシル）ベンゾフェノンの粗生成物を得、これをトルエン/ヘキサン中で再結晶化させて、化合物３ｂを得た（収量３．０７ｇ、収率７６．８％）。Ｃ１９Ｈ２１ＣｌＯ２；オフホワイト色粉末；融点６４〜６７℃；１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００ＭＨｚ）δ＝１．５５（ｍ、−ＣＨ２−、４Ｈ）、１．８５（ｍ、−ＣＨ２−、４Ｈ）、３．５１（ｍ、−Ｃｌ−ＣＨ２、２Ｈ）、４．０６（ｍ、−Ｏ−ＣＨ２、２Ｈ）、６．９５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．４９（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．５２（ｍ、−Ａｒ、１Ｈ）、７．７７（ｍ、−Ａｒ、４Ｈ）ｐｐｍ、；１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、１００ＭＨｚ）δ１９５．５４（Ｃ５）、１６２．７４（Ｃ９）、１３８．３４（Ｃ４）、１３２．５７（Ｃ３）、１２９．７２（Ｃ１）、１２８．１８（Ｃ２）、１１４．００（Ｃ８）、６７．９９（Ｃ１０）、３０．３２（Ｃ１５）、３０．２０（Ｃ１４）、２８．９２（Ｃ１１）、２５．０２（Ｃ１３）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ１９Ｈ２１ＣｌＯ２の［Ｍ＋］計算値３１７．１３０８；実測値３１７．１３１１。
実施例６：４−Ｏ−（３−ヨードプロピル）ベンゾフェノン１ｃ
Figure 2015536352

Figure 2015536352
実施例７：４−Ｏ−（４−ヨードブチル）ベンゾフェノン２ｃ
Figure 2015536352
化合物２ｃの合成については、既にＡｃｏｓｔａ ｅｔ ａｌ．の報告：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ、１９９６、５２，１１−１７がある。ハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノン化合物における臭素をヨウ素で置換するハロゲン化物置換の一般的な方法の応用合成アプローチに従って、４−（４−ブロモブトキシ）（フェニル）（フェニル）メタノン（３．００ｍｍｏｌ、１．００ｇ）およびヨウ化ナトリウム（６．００ｍｍｏｌ、０．９００ｇ）を還流下アセトン（１０．０ｍＬ）中で２４時間混合し、４−Ｏ−（４−ヨードブチル）ベンゾフェノンの粗生成物を得、これをトルエン/ヘキサン（１：２）中で再結晶化させて、化合物２ｃを得た（収量１．０３ｇ、収率９０．２％）。Ｃ１５Ｈ１６ＩＯ２；淡黄色粉末；１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００ＭＨｚ）δ＝２．００（ｍ、−ＣＨ２−、４Ｈ）、３．３９（ｍ、Ｉ−ＣＨ２−、２Ｈ）、４．０５（ｍ、−Ｏ−ＣＨ２、２Ｈ）、６．９５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．５１（ｍ、−Ａｒ、３Ｈ）、７．７９（ｍ、−Ａｒ、４Ｈ）ｐｐｍ、；１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、１００ＭＨｚ）δ＝１９５．５２（Ｃ５）、１６２．５１（Ｃ９）、１３８．２７（Ｃ４）、１３２．５８（Ｃ３）、１３１．９０（Ｃ７）、１２９．７２（Ｃ１）、１２８．２０（Ｃ２）、１１３．９９（Ｃ８）、６６．９２（Ｃ１０）、３０．０５（Ｃ１１）、３０．０１（Ｃ１２）、６．２１（Ｃ１３）ｐｐｍ。１ＨＮＭＲ化学シフトは、上記のＡｃｏｓｔａ ｅｔ ａｌ．が報告している化学シフトに一致する。
実施例８：４−Ｏ−（６−ヨードヘキシル）ベンゾフェノン３ｃ
Figure 2015536352
この化合物の合成については、既にＡｃｏｓｔａ ｅｔ ａｌ．の報告：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ、１９９６、５２，１１−１７がある。ハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノン化合物における臭素をヨウ素で置換するハロゲン化物置換の一般的な方法に概略が記載されている応用合成アプローチに従って、４−（（３−ブロモヘキシル）オキシ）フェニル）（フェニル）メタノン（１．３８ｍｍｏｌ、０．５００ｇ）およびヨウ化ナトリウム（４．１５ｍｍｏｌ、０．６２２ｇ）を還流下アセトン（１０．０ｍＬ）中で２４時間混合し、４−Ｏ−（６−ヨードヘキシル）ベンゾフェノンの粗生成物を得、これをトルエン/ヘキサン（１：２）中で再結晶化させて、化合物３ｃを得た（収量０．４８０ｇ、収率８５．０％）。Ｃ１９Ｈ２１ＩＯ２；オフホワイト色粉末；１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００ＭＨｚ）δ＝１．５５（ｍ、−ＣＨ２−、４Ｈ）、１．８５（ｍ、−ＣＨ２−、４Ｈ）、３．２１（ｍ、−Ｉ−ＣＨ２、２Ｈ）、４．０５（ｍ、−Ｏ−ＣＨ２、２Ｈ）、６．９５（ｍ、−Ａｒ、２Ｈ）、７．５１（ｍ、−Ａｒ、３Ｈ）、７．７７（ｍ、−Ａｒ、４Ｈ）ｐｐｍ、；１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、１００ＭＨｚ）δ１９５．５４（Ｃ５）、１６２．７４（Ｃ９）、１３８．３４（Ｃ４）、１３２．５７（Ｃ３）、１３０．００（Ｃ７）、１２９．７２（Ｃ１）、１２８．１７（Ｃ２）、１１４．００（Ｃ８）、６７．９９（Ｃ１０）、３３．３２（Ｃ１４）、３０．２０（Ｃ１１）、２８．９２（Ｃ１３）、２５．０２（Ｃ１２）、６．８９（Ｃ１５）ｐｐｍ。１ＨＮＭＲ化学シフトは、上記のＡｃｏｓｔａ ｅｔａｌ．が報告している化学シフトに一致する。
実施例９：プロピル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムブロミド４ａ
Figure 2015536352
この化合物については、既に文献：Ｓａｅｔｔｏｎｅ ｅｔ ａｌ．、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｅ、１９８８、１０、９９−１０９に報告がある。Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（３−ブロモフェニル）ベンゾフェノン（０．３１３ｍｍｏｌ、０．１００ｇ）、Ｎ−ジメチルオクタデシルアミン（０．３４５ｍｍｏｌ、０．１０３ｇ）およびアセトニトリル（１ｍＬ）を１００℃の砂浴中２４時間撹拌し、プロピル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムブロミド４ａの粗生成物を得た（粗収量：０．１９４グラム、粗収率：１０１％）。Ｃ３６Ｈ５８ＢｒＮＯ２；淡黄色固体；融点５８〜６８℃（文献記載の融点８１〜８３℃）；１ＨＮＭＲδ＝
Figure 2015536352
ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３６Ｈ５８ＢｒＮＯ２の［Ｍ＋−Ｂｒ］計算値５３６．４４７８；実測値５３６．４４６２。
実施例１０：プロピル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムクロリド４ｂ
Figure 2015536352
Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（３−クロロプロピル）ベンゾフェノン（０．９１０ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）、Ｎ−ジメチルオクタデシルアミン（１．００ｍｍｏｌ、０．２９８ｇ）およびアセトニトリル（１ｍＬ）を１００℃の砂浴中２４時間撹拌し、プロピル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムクロリド４ｂの粗生成物を得た（粗収量：０．３８３ｇ、粗収率：７７．０％）Ｃ３６Ｈ５８ＣｌＮＯ２；淡黄色粉末；１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ＝０．８８（ｍ、−ＣＨ３−、３Ｈ）、１．３０（ｍ、−ＣＨ２−、３４Ｈ）、
Figure 2015536352
（Ｃ１１）、２２．７５（Ｃ２３）、１４．１１（Ｃ２４）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３６Ｈ５８ＣｌＮＯ２の［Ｍ＋−Ｃｌ］計算値５３６．４４６１；実測値５３６．４４６２。
実施例１１：プロピル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムヨージド４ｃ
Figure 2015536352
Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（３−ヨードプロピル）ベンゾフェノン１ｃ（０．５７５ｍｍｏｌ、０．２１１ｇ）およびＮ−ジメチルオクタデシルアミン（０．６３３ｍｍｏｌ、０．１８８ｇ）を１００℃の砂浴においてアセトニトリル（１ｍＬ）中２４時間撹拌し、プロピル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムヨージドの粗生成物を得、目的の生成物４ｃ（収量：０．３６３ｇ、収率：９５．１％）を得た。Ｃ３６Ｈ５８ＩＮＯ２；白色粉末。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：０．８７（ｍ、Ｈ２０、３Ｈ）、１．２４（ｍ、
Figure 2015536352
ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３６Ｈ５８ＩＮＯ２の［Ｍ＋−Ｉ］計算値５３６．４４４９；実測値５３６．４４６２。
実施例１２：ブチル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムブロミド５ａ
Figure 2015536352
Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（４−ブロモブチル）ベンゾフェノン（０．７５２ｍｍｏｌ、０．２５１ｇ）、Ｎ−ジメチルオクタデシルアミン（０．８２７ｍｍｏｌ、０．２４６ｇ）およびアセトニトリル（１ｍＬ）を１００℃の砂浴中２４時間撹拌し、粗生成物ブチル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムブロミド５ａ得た（粗収量：０．５５１ｇ、粗収率：１００％）を得た。Ｃ３６Ｈ６１ＢｒＮＯ２；白色粉末；融点８３〜８７℃；１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、４００ＭＨｚ）δ＝０．８８（ｍ、−ＣＨ３−、３Ｈ）、１．３０（ｍ、−
Figure 2015536352
１４．１２（Ｃ２７）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３７Ｈ６０ＢｒＮＯ２の［Ｍ＋−Ｂｒ］計算値５５０．４６３２；実測値５５０．４６１８。
実施例１３：ブチル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムヨージド５ｃ

Figure 2015536352

Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（４−ヨードブチル）ベンゾフェノン２ｃ（０．６６０ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）およびＮ−ジメチルオクタデシルアミン（０．７２０ｍｍｏｌ、０．２１５ｇ）１００℃の砂浴においてアセトニトリル（１．００ｍＬ）中２４時間撹拌し、粗生成物ブチル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムヨージドを得、これを精製して化合物５ｃ得た（収量：０．２０７ｇ、収率：４６．３％）。Ｃ３７Ｈ６０ＩＮＯ２；白色粉末；１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：０．８５（ｍ、Ｈ２７、３Ｈ）、１．２１（ｍ、
Figure 2015536352
（Ｃ１６）、２２．８６（Ｃ２５）、２２．６７（Ｃ２６）、１９．８１（Ｃ１２）、１４．１１（Ｃ２７）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３７Ｈ６０ＩＮＯ２の［Ｍ＋−Ｃｌ］計算値５５０．４６３５；実測値５５０．４６１８。
実施例１４：ヘキシル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムブロミド６ａ
Figure 2015536352
Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（６−ブロモヘキシル）ベンゾフェノン３ａ（０．６９２ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）およびＮ−ジメチルオクタデシルアミン（０．７６１ｍｍｏｌ、０．２２７ｇ）を１００℃の砂浴においてアセトニトリル（１ｍＬ）中２４時間撹拌し、粗生成物ヘキシル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムブロミドを得、目的の化合物６ａ（収量：０．４２９ｇ、収率：９４．１％）を得た。Ｃ３９Ｈ６４ＢｒＮＯ２；オフホワイト色粉末；１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：０．８９（ｍ、Ｈ２５、３Ｈ）、
Figure 2015536352

２９．６８（Ｃ２１）、２９．６３（Ｃ２０）、２９．５８（Ｃ１９）、２９．３８（Ｃ１１）、２９．３４（Ｃ２２）、２６．２７（Ｃ１３、Ｃ１５ＯＶＥＲＬＡＰＰＩＮＧ）、２５．６８（Ｃ１２）、２５．３６（Ｃ１８）、２２．８１（Ｃ２３）、２２．６８（Ｃ２４）、１８．４６（Ｃ１４）、１４．１２（Ｃ２５）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３９Ｈ６４ＢｒＮＯ２の［Ｍ＋−Ｂｒ］計算値５７８．４９５８；実測値５７８．４９３１。
実施例１５：ヘキシル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムクロリド６ｂ
Figure 2015536352
Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（６−クロロヘキシル）ベンゾフェノン３ｂ（０．７８９ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）およびＮ−ジメチルオクタデシルアミン（０．８６８ｍｍｏｌ、０．２５８ｇ）を１００℃の砂浴においてアセトニトリル（１ｍＬ）中２４時間撹拌し、粗生成物ヘキシル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウム塩化物を得、これを精製して目的の化合物６ｂ得た（収量：０．３１１ｇ、収率：６４．１％）。Ｃ３９Ｈ６４ＣｌＮＯ２；淡黄色粉末；１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）０．８６（ｍ、
Figure 2015536352
１４．１２（Ｃ２７）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３９Ｈ６４ＣｌＮＯ２の［Ｍ＋−Ｃｌ］計算値５７８．４９４８；実測値５７８．４９３１。
実施例１６：ヘキシル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムヨージド６ｃ
Figure 2015536352
Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンの４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、４−Ｏ−（６−ヨードヘキシル）ベンゾフェノン３ｃ（０．６１２ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）およびＮ−ジメチルオクタデシルアミン（０．６７４ｍｍｏｌ、０．２００ｇ）を１００℃の砂浴においてアセトニトリル中（１ｍＬ）２４時間撹拌し、粗生成物ヘキシル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）オクタデシルアンモニウムヨージドを得、これを精製して目的の化合物６ｃ得た（収量：０．３７３ｇ、収率：８６．３％）。Ｃ３９Ｈ６４ＩＮＯ２；白色粉末；１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：０．８６（ｍ、Ｈ２１、３Ｈ）、
Figure 2015536352
２２．８１（Ｃ２５）、２２．６８（Ｃ２０）、１８．４６（Ｃ１４）、１４．１２（Ｃ２７）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３９Ｈ６４ＩＮＯ２の［Ｍ＋−Ｉ］計算値５７８．４９３８；実測値５７８．４９３１。
実施例１７：３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパン−１−アンモニウムブロミド７ａ
Figure 2015536352
化合物１０の４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．７１２ｍｍｏｌ、０．２３９ｇ）および４−Ｏ−（３−ブロモプロピル）ベンゾフェノン１ａ（０．７８３ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパン−１−アンモニウムブロミド７ａを得た（収量：０．３４５ｇ、収率：７４．０％）。Ｃ３３Ｈ４０ＢｒＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：１．７８（ｍ、Ｈ１５、Ｈ１６、４Ｈ）、２．２２（ｍ、Ｈ１１、２Ｈ）、２．８２（ｓ、Ｈ２３、６Ｈ）、３．１０（ｍ、Ｈ１７、
Figure 2015536352

Figure 2015536352
（Ｃ１２）、５１．３７（Ｃ１３）、４５．３６（Ｃ２３）、２２．９１（Ｃ１１）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３３Ｈ４０ＢｒＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｂｒ］計算値５７４．２７４９；実測値５７４．２７３４。
実施例１８：３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパン−１−アンモニウムクロリド７ｂ
Figure 2015536352
化合物１０のハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．８７０ｍｍｏｌ、０．２９１ｇ）および（４−（３−クロロプロポキシ）フェニル）（フェニル）メタノン１ｂ（０．７９０ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパン−１−アンモニウムクロリド７ｂを得た（収量：０．２５０ｇ、収率：５１．９％）。Ｃ３３Ｈ４０ＣｌＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：１．５５（ｍ、Ｈ１６、Ｈ１５、４Ｈ）、１．９９（ｍ、Ｈ１１、２Ｈ）、２．８２（ｍ、Ｈ１２、２Ｈ）、２．８５（ｓ、Ｈ２３、６Ｈ）、
Figure 2015536352
（ｍ/ｚ）：Ｃ３３Ｈ４０ＣｌＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｃｌ］計算値５７４．２７５１；実測値５７４．２７３４。
実施例１９：３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパン−１−アンモニウムヨージド７ｃ
Figure 2015536352
化合物１０のハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．７５０ｍｍｏｌ、０．２５２ｇ）および（４−（３−ヨードプロポキシ）フェニル）（フェニル）メタノン１ｃ（０．６８０ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパン−１−アンモニウムヨージド７ｃを得た（収量：０．２６７ｇ、収率：５５．９％）。Ｃ３３Ｈ４０ＩＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：
Figure 2015536352
６２．０９（Ｃ１２）、５１．３７（Ｃ１３）、４５．３６（Ｃ２２）、２２．９１（Ｃ１５）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３３Ｈ４０ＩＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｉ］計算値５７４．２７５３；実測値５７４．２７３４。
実施例２０：４−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルブタン−１−アンモニウムブロミド８ａ
Figure 2015536352
化合物１０のハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．７１７ｍｍｏｌ、０．２４０ｇ）および（４−（４−ブロモブトキシ）（フェニル）（フェニル）メタノン２ａ（０．７２１ｍｍｏｌ、０．２４０ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物４−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルブタン−１−アンモニウムブロミド８ａを得た（収量：０．１６８ｇ、収率：３５．０％）。Ｃ３４Ｈ４２ＢｒＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。融点９６〜１０４℃。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：１．８４（ｍ、Ｈ１７、Ｈ１６、Ｈ１２、Ｈ１１、８Ｈ）、２．８４（ｓ、Ｈ２４、６Ｈ）、３．１４（ｍ、
Figure 2015536352
（Ｃ１２）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３４Ｈ４２ＢｒＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｂｒ］計算値５８８．２９０８；実測値５８８．２８９０。
実施例２１：４−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルブタン−１−アンモニウムヨージド８ｃ
Figure 2015536352

化合物１０のハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．５９８ｍｍｏｌ、０．２０１ｇ）および（４−（４−ヨードブトキシ）フェニル）（フェニル）メタノン２ｃ（０．６５８ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物４−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルブタン−１−アンモニウムヨージド８ｃを得た（収量：０．２４４ｇ、収率：５６．９％）。Ｃ３４Ｈ４２ＩＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３、δ）：
Figure 2015536352
（Ｃ１１）、２５．６５（Ｃ１２）、１９．６５（Ｃ１５）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３４Ｈ４２ＩＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｉ］計算値５８８．２９０４；実測値５８８．２８９０。
実施例２２：６−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサン−１−アンモニウムブロミド９a
Figure 2015536352
化合物１０のハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．６２９ｍｍｏｌ、０．２１１ｇ）および（４−（（６−ブロモヘキシル）オキシ）フェニル）（フェニル）メタノン３ａ（０．６９２ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物６−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサン−１−アンモニウムブロミド９ａを得た（収量：０．３８５ｇ、収率：８７．８％）。Ｃ３４Ｈ４２ＢｒＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。１ＨＮＭＲ（４００
Figure 2015536352
（Ｃ１２）、２５．４３（Ｃ１４）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３４Ｈ４２ＢｒＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｂｒ］計算値６１６．３２２４；実測値６１６．３２０３。
実施例２３：６−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサン−１−アンモニウムクロリド9ｂ
Figure 2015536352

化合物１０のハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．８７０ｍｍｏｌ、０．２９１ｇ）および（４−（６−クロロヘキシル（オキシ））フェニル）（フェニル）メタノン３ｂ（０．７９０ｍｍｏｌ、０．２５０ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物６−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサン−１−アンモニウムクロリド９ｂを得た（収量：０．４３５ｇ、収率：８４．５％）。Ｃ３６Ｈ４６ＣｌＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、
Figure 2015536352
（Ｃ１４）、２５．４６（Ｃ１７）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３６Ｈ４６ＣｌＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｃｌ］計算値６１６．３２２１；実測値６１６．３２０３。
実施例２４：６−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−(３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサン−１−アンモニウムヨージド９ｃ
Figure 2015536352

化合物１０のハロアルコキシ（フェニル）（フェニル）メタノンによる四級化の一般的な方法に従って、化合物１０（０．３６６ｍｍｏｌ、０．２７２ｇ）および（４−（（６−ヨードヘキシル）オキシ）フェニル）（フェニル）メタノン３ｃ（０．３３３ｍｍｏｌ、０．１３６ｇ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、１００℃の砂浴中２４時間撹拌を続けた。得られた残留物を冷たいジエチルエーテル（４ｍＬ）を使用して沈殿処理し、目的の生成物６−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−１−スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサン−１−アンモニウムヨージド９ｃを得た（収量：０．２３２ｇ、収率：９３．５％）。Ｃ３６Ｈ４６ＩＮ３Ｏ４Ｓ；ふわりとした黄色粉末。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、
Figure 2015536352
２８．７１（Ｃ１３）、２５．４７（Ｃ１４）ｐｐｍ。ＨＲＭＳ−ＤＡＲＴ（ｍ/ｚ）：Ｃ３６Ｈ４６ＩＮ３Ｏ４Ｓの［Ｍ＋−Ｉ］計算値６１６．３２１７；実測値６１６．３２０３。
表１：４−Ｏ−（ｎ−ハロアルキル）ベンゾフェノン誘導体の生理化学データ
Figure 2015536352
表２：アルキル−ジメチル（ベンゾイルフェノキシ）アルキルアンモニウム塩の生理化学データ
Figure 2015536352
表３：ｎ−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ−（３−（５−（ジメチルアミノ）ナフタレン−1-スルホンアミド）プロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルアルキル−１−アンモニウムハライド誘導体の生理化学データ
Figure 2015536352
ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）への自己集積化単層膜の形成
ＰＶＣを矩形に切断し、基体をイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）でリンス処理してから水洗し、オーブン中で３０分間乾燥した。Ｈ２Ｏ/ＭｅＯＨを使用して化合物６ａの０．０５％溶液および０．５％溶液（ｗ/ｖ）を用意し、３回連続して不純物のない基体に電気噴霧し、換気フードを使用して各噴霧間に紫外光を５分間照射した。最後の噴霧後に、基体にさらに２５分間もう一度紫外光を照射した。Ｈ２Ｏを使用して、未結合物質を基体からリンス処理により除去した。
シリコーンチューブへの自己集積化単層膜の形成
ぜん動ポンプの使用
ぜん動ポンプを使用して、シリコーンチューブをＩＰＡおよびＨ２Ｏでリンス処理してから、チューブに通気することによってこれを乾燥した。化合物８ａの０．０５％（ｗ/ｖ）Ｈ２Ｏ溶液、および化合物４ｃの０．５％（ｗ/ｖ）Ｈ２Ｏ/ＩＰＡ溶液をそれぞれ用意した。ぜん動ポンプを使用してチューブを被膜処理し、被膜処理したチューブに紫外光換気フード中で２５分間照射処理を行った。被膜処理したチューブにＨ２Ｏでリンス処理を行い、未結合物質を除去した。
シリンジの使用
化合物８ａおよび４ｃの１．５％（ｗ/ｖ）ジクロロメタン（ＤＣＭ）溶液を用意した。シリンジを使用して、不純物のないシリコーンチューブにこれら溶液を充填し、紫外光石英灯を使用して３０分間照射を行った。
抗菌試験方法
文献：Ｍａｒｋｉｓｏｎ Ｃ ａｎｄ Ｓｗａｎ Ｊ．、“Ｔｈｅ ｅｆｆｅｃｔ
ｏｆ ｈｕｍｉｄｉｔｙ ｏｎ ｔｈｅ Ｓｕｒｖｉｖａｌ ｏｆ ＭＲＳＡ ｏｎ Ｈａｒｄ Ｓｕｒｆａｃｅｓ”、Ｉｎｄｏｏｒ ａｎｄ Ｂｕｉｌｔ Ｅｎｖｉｒｏｎ−
ｍｅｎｔ、２００６、１５（１）、８５−９１に記載のフローセル方法を使用して、抗菌効能を求めた。1％トリプチックソイブロスおよびＰｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｓｐｐ．ＣＴ０７の１０×１０４ｃｆｕ/ｍＬの接種源を化合物８ａ、４ｃで被膜処理したシリコーンチューブにポンプにより３０分送るとともに、対照チューブにも３０分送った。チューブを２時間の間そのまま放置し、その後チューブに１％ＴＳＢのみを４８時間流した。これら４８時間中に１００μＬの流出サンプルを一定の間隔で集め、１０×１０４までの希釈列で１０％トリプチケースソイ寒天（ＴＳＡ）上においてプレート培養した。サンプリング時間はゼロ時間、３時間、６時間、２４時間、２７時間、３０時間および４８時間に設定した。各プレートに成長したコロニー数を順次数え、抗菌活性を求めた。
表４：化合物８ａで被膜処理したシリコーンチューブにおけるＰｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ細菌細胞数
Figure 2015536352

表５：化合物４ｃで被膜処理したシリコーンチューブにおけるＰｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｓｐｐ.ＣＴ０７細菌細胞数
Figure 2015536352
特許請求の範囲は、実施例に記載した好適な実施態様によって制限を受けるものではなく、全体の記載に照らして最も広く解釈すべきものである。

Claims (29)

  1. 次式（Ｉ）で表わされる第４級アンモニウム化合物：
    Figure 2015536352

    Figure 2015536352

    Figure 2015536352
    （式中Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して水素、炭素原子数が１〜６の線状アルキルまたは分岐アルキル、あるいは炭素原子数が６〜１０のアリールである）であり、そして
    Ｘはクロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択されるハロゲンであるが、Ｘがブロモの場合、ｎは１であり、そしてＲ１およびＲ２はメチルであり、ｍは１７であってならない。
  2. Ｒ１およびＲ２がメチルである請求項１に記載の化合物。
  3. Ｘがブロモか、あるいはヨードである請求項１または請求項２に記載の化合物。
  4. Ｒ３およびＲ４がそれぞれ独立してメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはイソプロピルであり、そしてＲ５が水素である請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
  5. Figure 2015536352
  6. ｎが１であり、Ｘがブロモであり、そしてＲ１およびＲ２がメチルである場合を除いて、ｍが１７である請求項５に記載の化合物。
  7. Ｚが次の式で表わされる基である請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物：
    Figure 2015536352
  8. 第４級アンモニウム化合物の生成方法であって、次式（Ｉ）で表わされる第４級アンモニウム化合物：
    Figure 2015536352

    Figure 2015536352

    Figure 2015536352
    （式中Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して水素、炭素原子数が１〜６の線状アルキルまたは分岐アルキル、あるいは炭素原子数が６〜１０のアリールである）であり、そして
    Ｘは、クロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択されるハロゲンである生成方法であって、この生成方法が
    （ａ）次式（ＩＩ）で表わされる化合物：
    Figure 2015536352
    を式（ＩＩＩ）のアルキルハロゲン化物：
    Figure 2015536352
    （式中、ｎは上記に定義したものであり、そしてＹはブロモまたはクロロである）と炭酸アルカリ金属の存在下で反応させて、式（ＩＶ）：
    Figure 2015536352
    （式中、ｎおよびＹは上記に定義したものである）
    で表わされる化合物を生成する工程、
    （ｂ）式（ＩＶ）の化合物を適宜式（Ｖ）：

    Figure 2015536352
    で表わされる化合物に変換する工程、および
    （ｃ）式（ＩＶ）または式（Ｖ）の化合物を式（ＶＩａ）または式（ＶＩｂ）：
    Figure 2015536352
    （式中、ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は上記に定義したものである）で表わされる化合物と反応させて式（Ｉ）の化合物を生成させる工程からなる。
  9. Ｒ１およびＲ２がメチルである請求項８に記載の方法。
  10. Ｘがブロモ、およびヨードである請求項８または請求項９に記載の方法。
  11. Ｒ３およびＲ４がそれぞれ独立してメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはイソプロピルであり、そしてＲ５が水素である請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法。
  12. Figure 2015536352
  13. ｍが１７である請求項１２に記載の方法。
  14. Ｚが次の式で表わされる請求項８〜１１のいずれか１項に記載の方法：
    Figure 2015536352
  15. 上記炭酸アルカリ金属が炭酸カリウムである請求項８〜１４のいずれか１項に記載の方法。
  16. 次式（Ｉ）で表わされる化合物および環境にやさしいキャリヤーからなる抗菌性表面被膜組成物：
    Figure 2015536352
    式中、
    Figure 2015536352

    Figure 2015536352
    （式中Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して水素、炭素原子数が１〜６の線状アルキルまたは分岐アルキル、あるいは炭素原子数が６〜１０のアリールである）、そして
    Ｘは、クロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択されるハロゲンである。
  17. Ｒ１およびＲ２がメチルである請求項１６に記載の組成物。
  18. Ｘがブロモ、およびヨードである請求項１６または請求項１７に記載の組成物。
  19. Ｒ３およびＲ４がそれぞれ独立してメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはイソプロピルであり、そしてＲ５が水素である請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の組成物。
  20. Figure 2015536352
  21. ｍが１７である請求項２０に記載の組成物。
  22. Ｚが次の式で表わされる基である請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の組成物：
    Figure 2015536352
  23. 上記キャリヤーが水とアルコールとの混合物である請求項１６〜２２のいずれか１項に記載の組成物。
  24. 上記アルコールがメタノールである請求項２３に記載の組成物。
  25. 抗菌性被膜を対象表面に被膜処理する方法であって、この方法が、
    ｉ）上記表面を請求項１６〜２４のいずれか１項の組成物で被膜処理する工程、および
    ｉｉ）上記の被膜処理された表面を照射する工程
    からなる方法。
  26. 上記表面がポリマーまたは繊維からなる請求項２５に記載の方法。
  27. さらに、水とイソプロパノールとの混合物を使用する洗浄工程を有する請求項２５または請求項２６に記載の方法。
  28. 上記照射工程で、上記の被膜処理表面に紫外光を照射する請求項２５または請求項２６に記載の方法。
  29. 抗菌処理された表面に紫外光を照射することからなり、この抗菌処理表面の抗菌処理について、請求項１〜４のいずれか１項に記載の第４級アンモニウム化合物であって、Ｚが
    Figure 2015536352
    である第４級アンモニウム化合物によって評価を行う方法。
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