JP2015535788A - 電子デバイス用の密閉型ハウジングの生産方法 - Google Patents
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Abstract
Description
少なくとも1つの開口部を有するガラス製の中空体を生産/提供するステップ;
少なくとも1つの開口部を通して少なくとも1つの電子デバイスを所定の場所に導入/位置づけおよび/または固定するステップ;
ハウジングを溶融させることにより収容空間を密封するステップ;または、
レーザー放射を用いて少なくとも1つの開口部を閉鎖し溶接するステップ;
を含む方法によって達成される。
ハウジングの少なくとも1つのハウジング部品の中に少なくとも1つのくぼみを作るステップと、
ハウジング部品を共に接合することにより少なくとも1つのキャビティを生成するステップであって、少なくとも1つの開口部、詳細には少なくとも2つの開口部が外部からキャビティ内に開放した状態にとどまっている、ステップと、
少なくとも1つの開口部を通して少なくとも1つのキャビティ内に電子デバイスを導入するステップと、
レーザー放射を用いて少なくとも1つの開口部を閉鎖し溶接するステップと、
が含まれることが有利である。このようにして、詳細には、ブロック状または平面状のハウジングを電子デバイス用に形成することができる。これに関連して、1つのハウジング部品がプレート状のカバー層により形成されていることが有利である。
崩壊放射を用いて光を生成するために励起され得る物質から形成された蛍光性および/またはリン光性層を、少なくとも1つのキャビティの画定壁の少なくとも一部分の上に生成するステップと;
光を生成するために励起され得る物質のために崩壊放射線を放出する媒質を、少なくとも1つの開口部を通して少なくとも1つのキャビティ内に導入するステップと、
を含むことが有利である。このようにして、ハウジングに自己発光表面を備えることができる。少なくとも1つのハウジング部品を蛍光性および/またはリン光性物質で選択的にコーティングすることにより、発光性表面をさらにうまく構造化することができる。このようにして、なかでも所望される発光文字、数字、符号または他の幾何学的表面を実施することができる。
ハウジングの少なくとも1つのハウジング部品内に少なくとも1つのくぼみを作るステップと;
崩壊放射を用いて光を生成するために励起され得る物質から形成された蛍光性および/またはリン光性層および/またはマスクを少なくとも1つのキャビティの画定壁の少なくとも一部分の上に生成するステップと;
ハウジング部品を共に接合することにより少なくとも1つのキャビティを生成するステップと;
レーザー放射を用いて、ナノセカンドおよび/またはピコセカンドのエネルギーパルスの放出によりおよび/または連続的にハウジング部品を溶接するステップであって、少なくとも1つのフィーダー開口部、詳細には少なくとも2つのフィーダー開口部が、外部からキャビティ内に開放した状態にとどまっているステップと;
光を生成するために励起され得る物質(36)のために崩壊放射線を放出する媒質、または物質と媒質とを、少なくとも1つのフィーダー開口部を通して少なくとも1つのキャビティ内に導入するステップと;
レーザー放射および/またはガス炎を用いて熱の作用により少なくとも1つのフィーダー開口部を閉鎖し溶接するステップと;
を含む方法である。
ガラスまたはケイ酸ホウ素がハウジング部品用に提供されることおよび/または、
蛍光性および/またはリン光性物質として硫化亜鉛(ZnS)が導入されることおよび/または、
接着剤としてリン酸(H3PO4)を塗布することおよび/または、
崩壊放射線を放出する媒質としてトリチウムガスを導入すること、
が有利である。詳細には、硫化亜鉛(ZnS)およびトリチウムガスを使用することにより、トリチウムガス光に関連して立証された手段を用いて自己発光体が実施され、こうして、提示されている自己発光体の高信頼性も想定することができる。
少なくとも1つの開口部を有するガラス製の中空体2を生産/提供するステップ;
少なくとも1つの開口部を通して少なくとも1つの電子デバイス3を所定の場所に導入/位置づけおよび/または固定するステップ;
ハウジング100を溶融させることにより収容空間12を密封するステップ;または、
レーザー放射および/またはガス炎を用いて熱効果により少なくとも1つの開口部を閉鎖し溶接するステップ;
を含む。
ハウジングの少なくとも1つのハウジング部品107の中に少なくとも1つのくぼみ32を作るステップ、
ハウジング部品107、108を共に接合することにより少なくとも1つのキャビティを生成するステップであって、少なくとも1つの開口部33、詳細には少なくとも2つの開口部33が外部からキャビティ34内に開放した状態にとどまっているステップ、
少なくとも1つの開口部33を通して少なくとも1つのキャビティ内に電子デバイス3を導入するステップ、そして
レーザー放射を用いて少なくとも1つの開口部33を閉鎖し溶接するステップ。
詳細には、2つのハウジング部品107、108を、ナノセカンドおよび/またはピコセカンド範囲内のエネルギーの放出および/またはエネルギーの連続的導入を伴って、レーザー放射を用いて互いに溶接することができる。
第1のハウジング部品107内に少なくとも1つのくぼみ32を作るステップ;
少なくとも拡散性の第2のハウジング部品108で少なくとも1つのくぼみ32を覆うことで少なくとも1つのキャビティを生成するステップであって、2つのフィーダー開口部33が外部からキャビティ内に開放した状態にとどまっているステップ、
崩壊放射を用いて光を生成するために励起され得る物質から形成された蛍光性および/またはリン光性層を、少なくとも1つのキャビティの画定壁の少なくとも一部分の上に生成するステップ、
少なくとも1つのフィーダー開口部を通して、少なくとも1つのキャビティ内に、光を生成するために励起され得る物質のために崩壊放射線を放出する媒質を導入するステップ、そして、
電子デバイス3の導入後に、少なくとも1つの開口部を溶融/溶接するステップ。
ハウジングの少なくとも1つのハウジング部品107内に少なくとも1つのくぼみ(32)を作るステップ;
崩壊放射を用いて光を生成するために励起され得る物質から形成される蛍光性および/またはリン光性層36および/またはマスク41を少なくとも1つのキャビティ34の画定壁37の少なくとも一部分の上に生成するステップ;
ハウジング部品107、108を共に接合することにより少なくとも1つのキャビティ34を生成するステップ;
レーザー放射を用いて、ナノセカンドおよび/またはピコセカンドのエネルギーパルスの放出によりおよび/またはエネルギーを連続的に導入することによりハウジング部品107、108を溶接するステップであって、少なくとも1つのフィーダー開口部33、詳細には少なくとも2つのフィーダー開口部33が、外部からキャビティ34内に開放した状態にとどまっているステップ;
光を生成するために励起され得る物質36のために崩壊放射線を放出する媒質38、または物質36と媒質38とを、少なくとも1つのフィーダー開口部33を通して少なくとも1つのキャビティ34内に導入するステップ;
レーザー放射を用いて少なくとも1つのフィーダー開口部33を閉鎖し溶接するステップ。
2 管状基体
3 電子デバイス
4 カメラ
5 マイクロプロセッサ
6 アンテナ
7 回路基板
8 溶融領域/溶接領域/切断領域
9 レーザー
10 面壁
11 (管状)中央部分
12 キャビティ
13 トリチウムガス光源
14 熱障壁/断熱材
15 冷却用カフ
16 フラッシング用ボア
17 溶接線
18 間仕切り壁
19 第1のキャビティ
20 第2のキャビティ
21 エネルギー源
22 読取り値記録装置
23 導電体
24 通路孔
25 線形移動可能塊
26 偏心取付けされた回転可能な塊
27 加圧コンテナ
28 バルブ
29 ポンプ/コンプレッサ
30 ミクロボア
31 外側ハウジング
32 くぼみ
33 フィーダー開口部
34 キャビティ
35 接着剤層
36 蛍光性および/またはリン光性層/物質
37 キャビティの表面
38 崩壊放射線を放出する媒質
39 ハウジングの上面
40 ハウジングの基面
41 マスク
42 溶接線
43 プラグ
44 支持体
d 直径
h 高さ
s 辺長さ
Claims (63)
- ハウジング(100…125)の内部の少なくとも一部分を構成する電子デバイス(3)用の少なくとも1つの密封された収容空間(12、19、20)を有するハウジング(100…125)の生産方法であって、
少なくとも1つの開口部を有するガラス製の中空体(2)を生産/提供するステップ;
少なくとも1つの開口部を通して少なくとも1つの電子デバイス(3)を所定の場所に導入/位置づけおよび/または固定するステップ;
ハウジング(100…125)を溶融させることにより収容空間(12、19、20)を密封するステップ;または、
レーザー放射を用いて少なくとも1つの開口部を閉鎖し溶接するステップ;
を含む方法。 - 断熱材または熱防御層(14)がデバイス(3)と溶融領域または溶接領域(8)との間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 間仕切り壁(18)が内部に挿入され、ハウジング(100…125)に溶接されており、2つの収容空間(19、20)が互いに密閉した形で分離されていることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 電子デバイス(3)および/またはエネルギー源(21)が第1の密封された収容空間(12、19、20)内に配置されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 以下で言及する要素(22)、すなわち電子デバイス、分析器具、読取り値記録装置のうちの少なくとも1つが、第1の密封された収容空間(19)に隣接する収容空間(20)内に配置されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 開口部(23)が第1の密閉型収容空間(19)と第2の密閉型収容空間(20)の間の間仕切り壁(18)内に配置され、この開口部が、導光体、電線路または導電性接点塊を用いて密封され得ることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- カメラ(4)がキャビティ(12、19、20)内に導入されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 無線モジュールおよび/またはトランスポンダがキャビティ(12、19、20)内に導入されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- モーターによって移動させられる塊(25、26)がキャビティ(12、19、20)内に導入されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジング(101…106)内に通路開口部を有する斥力駆動機構(27…29)が、キャビティ(12、19、20)内に導入されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- キャビティ(12、19、20)内にトリチウムガス光源(13)が配置されていることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 多数の電子デバイス(3)が、少なくとも1つの開口部を通して順次長手方向に互いから一定の距離をおいて、管状ハウジング(100、…125)内の所定の場所に導入、位置づけおよび/または固定され、この時点でハウジング(100…125)は、電子デバイス(3)間の中間領域(8)内において、レーザー放射を用いて、ナノセカンドおよび/またはピコセカンドのエネルギーパルスの放出によってかつ/またはエネルギーを連続的に導入することによって加熱され、かつ管状ハウジング(100…125)は、ハウジング(100…125)の長手方向で、切断場所(8)の領域内のハウジング(100…125)の内部および外部において中間領域の両側に及ぼされる異なる大きさの力を用いて面壁(10)で閉鎖されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 管状基体(2)の少なくとも一方の端部がハウジング(100…125)の生産のために溶融/溶接されることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジング(100…125)の面壁(10)が、レーザーを用いて、ナノセカンドおよび/またはピコセカンドのエネルギーパルスの放出によって、中央部分(11)の端部領域を加熱することによって加熱され、面壁(10)は、ハウジング(100…125)の長手方向で、切断場所(8)の領域内において、ハウジング(100…125)の内部および外部に及ぼされる異なる大きさの力によって形成されることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 管状基体(2)は、ハウジング(100、…125)の生産を目的として、それを溶融することによって切断され、溶融した材料が結果として得られた端部を閉鎖することを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 管状ハウジング(100…125)の切断プロセスおよび/または閉鎖プロセスの間に、ハウジング(100…125)の長手方向で、切断場所(8)の領域内においてハウジング(100…125)の内部および外部に異なる大きさの力が及ぼされることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- ハウジング(100…125)の内部および外部には、管状ハウジング(100、…125)の切断プロセスおよび/または閉鎖プロセスの間、切断場所(8)の領域内で異なる大きさの加圧力が及ぼされることを特徴とする請求項1〜16のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジング(100…125)が1つのブロックとして構成されていることを特徴とする請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジングが正方形または矩形の基面(40)を有する2つの本質的にプレート状のハウジング部品(107…125)により形成されており、基面(40)に直交する2つのハウジング部品(107…125)の高さ(h)の合計がその短辺の長さ(単複)よりも小さいことを特徴とする請求項1〜18のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジングの少なくとも1つのハウジング部品(107…125)の中に少なくとも1つのくぼみ(32)を作るステップと、
ハウジング部品(107…125)を共に接合することにより少なくとも1つのキャビティ(34)を生成するステップであって、少なくとも1つの開口部(33)、詳細には少なくとも2つの開口部(33)が外部からキャビティ(34)内に開放した状態にとどまっている、ステップと、
少なくとも1つの開口部(33)を通して少なくとも1つのキャビティ(34)内に電子デバイス(3)を導入するステップと、
レーザー放射を用いて少なくとも1つの開口部(33)を閉鎖し溶接するステップと、
を特徴とする請求項1〜19のいずれか一項に記載の方法。 - 1つのハウジング部品(107…125)がプレート状のカバー層によって形成されていることを特徴とする請求項1〜20のいずれか一項に記載の方法。
- 気体透過性でかつ液体不透過性であるミクロボア(30)がハウジング(100…125)内に配置されていることを特徴とする請求項1〜21のいずれか一項に記載の方法。
- 電子デバイス(3)を伴うハウジング(100…125)がさらなる密閉型ガラスハウジング(31)内に導入され、このハウジング(31)内に、気体透過性で液体不透過性であるミクロボア(30)が配置されていることを特徴とする請求項1〜22のいずれか一項に記載の方法。
- 金属ワイヤ(23)および/または導光体ファイバを通過させるためのボアが、ハウジング(3)内に配置されていることを特徴とする請求項1〜23のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジング(100…125)の外側表面(39)がジェルおよび/またはアロマキャリアでコーティングされていることを特徴とする請求項1〜24のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジング(100…125)の外側表面(39)が粗化され、かつ/または外側表面がヒト/動物/植物の組織の成長を促進する反応性物質/構造をその上に備えていることを特徴とする、請求項1〜25のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジングが2つのハウジング部品(101…125)で構成され、2つのハウジング部品(101…125)が、ナノセカンドおよび/またはピコセカンド範囲内のエネルギーの放出および/またはエネルギーの連続的導入を伴って、レーザー放射により互いに溶接されていることを特徴とする請求項1〜26のいずれか一項に記載の方法。
- レーザーパルスのエネルギーの放出が、制御器具を用いて制御され、ハウジング(101…125)の内部の温度が、溶接線からまたはレーザービームの作用場所(8)から2mm以上の距離にある領域内において200°未満の値に保たれるようになっていることを特徴とする、請求項1〜27のいずれか一項に記載の方法。
- レーザー放射を用いた熱エネルギーの適用中、溶接線(17、42)に隣接する領域が冷却されることを特徴とする請求項1〜28のいずれか一項に記載の方法。
- 自己発光体の生産方法において、
ハウジングの少なくとも1つのハウジング部品(108…125)内に少なくとも1つのくぼみ(32)を作るステップと;
崩壊放射を用いて光を生成するために励起され得る物質から形成された蛍光性および/またはリン光性層(36)および/またはマスク(41)を少なくとも1つのキャビティ(34)の画定壁(37)の少なくとも一部分の上に生成するステップと;
ハウジング部品(108…125)を共に接合することにより少なくとも1つのキャビティ(34)を生成するステップと;
レーザー放射を用いて、ナノセカンドおよび/またはピコセカンドのエネルギーパルスの放出によりハウジング部品(108…125)を溶接するステップであって、少なくとも1つのフィーダー開口部(33)、詳細には少なくとも2つのフィーダー開口部(33)が、外部からキャビティ(34)内に開放した状態にとどまっているステップと;
光を生成するために励起され得る物質(36)のために崩壊放射線を放出する媒質(38)、または物質(36)と媒質(38)とを、少なくとも1つのフィーダー開口部(33)を通して少なくとも1つのキャビティ(34)内に導入するステップと;
レーザー放射および/またはガス炎を用いて熱の作用により少なくとも1つのフィーダー開口部(33)を閉鎖し溶接するステップと;
を含む方法。 - レーザー放射がナノセカンドおよび/またはピコセカンドのパルスを用いておよび/またはエネルギーの連続的に導入によって形成されることを特徴とする請求項1〜30のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジング(100…125)またはカバー層の少なくとも一部分が拡散性を有するように生成されていることを特徴とする請求項1〜31のいずれか一項に記載の方法。
- ハウジング(100…125)が単一の基本材料からモノブロックの形で生産されることを特徴とする、詳細には請求項1〜32のいずれか一項に記載の、少なくとも部分的にケイ素で構成される密封されたハウジング(100…125)を有する器具。
- ハウジング(100…125)が多数のハウジング部品(101…125)で構成され、少なくとも単一の基本材料から生産されることを特徴とする、詳細には請求項1〜32のいずれか一項に記載の、少なくとも部分的にケイ素で構成される密封されたハウジング(100…125)を有する器具。
- ハウジング部品(101…125)が、本質的に同じ物理的および化学的特性を有する異なる材料で形成されていることを特徴とする請求項1〜34のいずれか一項に記載の器具。
- 面壁(10)の少なくとも1つが凹状または平面状となるように構成されていることを特徴とする請求項35に記載の器具。
- 面壁(10)の少なくとも1つが凸状となるように構成されていることを特徴とする請求項35に記載の器具。
- 面壁(10)が、中央部分(11)から遠ざかるように面した方向に延在する円錐を伴って、または球形ドームまたは球形ドーム区分として構成されていることを特徴とする請求項35に記載の器具。
- ハウジングが円筒形の中央部分(11)とその両面側に配置された2つの面壁(10)から形成されていることを特徴とする請求項1〜38のいずれか一項に記載の器具。
- 断熱器具(14)が電子デバイス(3)と2つの面壁(10)のうちの少なくとも1つの間に配置されていることを特徴とする請求項1〜39のいずれか一項に記載の器具。
- ハウジング(100…125)の内部が、間仕切り壁(18)により2つの部分空間(19、20)に分割されていることを特徴とする請求項1〜40のいずれか一項に記載の器具。
- ハウジング(100…125)が、2つの部分空間(20)のうちの少なくとも1つの中に外部から延在している少なくとも1つの開口部(24)を有し、この開口部が空気透過性でかつ/または液体透過性であることを特徴とする請求項1〜41のいずれか一項に記載の器具。
- 部分空間(19、20)が両方共密封されていることを特徴とする請求項1〜42のいずれか一項に記載の器具。
- 部分空間(19、20)が気密性、詳細にはトリチウムガス気密性を有するように構成されていることを特徴とする請求項1〜43のいずれか一項に記載の器具。
- 部分空間(19、20)が、2500m超の水蒸気透過率sdで、水蒸気気密性を有するように構成されていることを特徴とする請求項1〜44のいずれか一項に記載の器具。
- 分析および/または評価ユニット(22)が、2つの部分空間(19、20)のうちの少なくとも1つの中に配置されていることを特徴とする請求項1〜45のいずれか一項に記載の器具。
- 分析および評価ユニット(22)が、体液および/または組織試料の分析および評価向けに構成されていることを特徴とする請求項1〜46のいずれか一項に記載の器具。
- 少なくとも1つの光源、例えばLED、トリチウムガス光源(13、36)または残光特性を有する発光性材料がハウジング(100…125)内に配置されていることを特徴とする請求項1〜47のいずれか一項に記載の器具。
- 例えば画像認識チップなどの画像記録デバイス(4)がハウジング(100…125)内に配置されていることを特徴とする請求項1〜48のいずれか一項に記載の器具。
- 光源(13、36)、画像認識器具(4)、画像記録器具、電子デバイス、分析、記憶および評価ユニット(22)などのハウジング(100…125)内の構成要素のうちの少なくとも1つが、データの無線伝送のための送信機(5、6)と接続されていることを特徴とする請求項1〜49のいずれか一項に記載の器具。
- 光源(13、36)、画像認識器具(4)、画像記録器具、電子デバイス、分析および評価ユニット(22)などのハウジング(100…125)内の構成要素のうちの少なくとも1つが、エネルギー源(21)と接続されていることを特徴とする請求項1〜50のいずれか一項に記載の器具。
- エネルギー源(21)が、エネルギー変換器と接続されており、このエネルギー変換器に対し非接触的にエネルギーを適用することが可能であることを特徴とする請求項1〜51のいずれか一項に記載の器具。
- 面壁(10)が、レーザーエネルギーの供給によって、詳細にはナノセカンドまたはピコセカンドのパルスおよび/またはエネルギーの連続的導入によって形成されることを特徴とする請求項1〜52のいずれか一項に記載の器具。
- ハウジング内、少なくともその密封された部分空間内の空気中の水蒸気の露点が0°、好ましくは−10℃〜−30℃となることを特徴とする請求項1〜53のいずれか一項に記載の器具。
- 少なくとも中央領域におけるハウジング(100…125)の壁厚が0.05〜5mmとなることを特徴とする請求項1〜54のいずれか一項に記載の器具。
- ハウジング(100…125)またはカバー層の少なくとも一部分が、拡散性または不透明となるように構成されていることを特徴とする請求項1〜55のいずれか一項に記載の器具。
- ハウジング(100…125)またはカバー層の拡散性または不透明部分が、溶融領域または溶接領域(8)に隣接して配置されていることを特徴とする請求項1〜56のいずれか一項に記載の器具。
- ハウジング(100…125)またはカバー層の少なくとも一部分には、機能性コーティング、例えばフィルムが具備されていることを特徴とする請求項1〜57のいずれか一項に記載の器具。
- 機能性コーティング、例えばフィルムが、拡散性または不透明となるように構成されていることを特徴とする請求項1〜58のいずれか一項に記載の器具。
- 2つのハウジング部品(106…125)が、キャビティ(34)上に分布しキャビティ(34)の基面に直交して配向されている支持要素(44)を伴って、互いに離隔されていることを特徴とする請求項1〜59のいずれか一項に記載の器具。
- 支持要素(44)が2つのハウジング部品(101…125)のうちの少なくとも1つと連結されていることを特徴とする請求項1〜60のいずれか一項に記載の器具。
- ハウジング(106…125)が1つのブロックまたは平担な部片として構成されていることを特徴とする請求項1〜61のいずれか一項に記載の器具。
- ブロックまたは平担部片が多角形または楕円または円形の基面(46)を有する2つの本質的にプレート状のハウジング部品(106…125)によって形成されており、基面(40)に直交する2つのハウジング部品(106…125)の高さ(h)の合計が、その短辺長(単複)またはその最小直径(d)または半径よりも小さいことを特徴とする請求項1〜62のいずれか一項に記載の器具。
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