JP2015534100A5 - - Google Patents

Description

本出願で引用されたすべての米国特許出願及び米国特許は、完全に記載されたものとして、参照により本明細書に組み込まれる。本発明は、先に記載された特定の実施例及び実施形態に限定されると考慮すべきではなく、このような実施形態は、本発明の様々な態様の説明を容易にするために詳細に記載される。むしろ、本発明は、添付の特許請求の範囲及びその等価物によって定義されるような本発明の範囲内に包含される様々な修正、等価プロセス、及び代替的装置を含む、本発明のすべての態様を網羅するものと理解すべきである。
本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１０］に記載する。
［項目１］
第１の物質を含む第１の領域及び第２の物質を含む第２の領域を有する層を含む可変屈折率光抽出層であって、
前記第１の物質がナノボイド化ポリマー材料であり、
前記第２の物質がナノボイド化ポリマー材料ではなく、
前記第１の領域が前記第２の領域よりも低い有効屈折率を有し、
前記層の前記第１及び第２の領域が、光導体に光学的に連結されるときに前記層が前記第１及び第２の領域の幾何学的配列に基づき前記光導体から光を選択的に抽出するように配置されている、可変屈折率光抽出層。
［項目２］
基材を更に含み、前記基材が前記層の主表面上に配置されている、項目１に記載の可変屈折率光抽出層。
［項目３］
前記基材が光導体を含む、項目２に記載の可変屈折率光抽出層。
［項目４］
前記基材が反射性散乱要素を含む、項目１に記載の可変屈折率光抽出層。
［項目５］
前記層が、前記基材とは反対側の前記層の主表面上に配置された複数の光学マイクロ構造体を更に含む、項目２に記載の可変屈折率光抽出層。
［項目６］
前記複数の光学マイクロ構造体が回析表面を含む、項目５に記載の可変屈折率光抽出層。
［項目７］
可変屈折率抽出層を形成する方法であって、
基材上に第１の物質をパターン化することと、第２の物質をオーバーコートして層を形成することと、を含む方法であり、
前記層の第１の領域は、前記第１の物質が選択的に印刷されている区域に対応し、前記層の第２の領域は、少なくとも、前記第１の物質が選択的に印刷されている場所の間の区域に対応し、
前記第１の領域が前記第２の領域よりも低い有効屈折率を有し、
前記第１の物質がナノボイド化ポリマー材料であり、
前記第２の物質がナノボイド化ポリマー材料ではなく、
前記層の前記第１及び第２の領域は、前記層が前記第１及び第２の領域の幾何学的配列に基づき前記基材から導波モード光を選択的に抽出するように配置される、方法。
［項目８］
前記基材とは反対側の前記層の主表面上に複数の光学マイクロ構造体を形成することを更に含む、項目７に記載の方法。
［項目９］
前記複数の光学マイクロ構造体が回析表面である、項目８に記載の方法。
［項目１０］
基材上に第１の物質をパターン化することが、インクジェット印刷を使用する、項目７に記載の方法。

Claims (2)

1. 第１の物質を含む第１の領域及び第２の物質を含む第２の領域を有する層を含む可変屈折率光抽出層であって、
   前記第１の物質がナノボイド化ポリマー材料であり、
   前記第２の物質がナノボイド化ポリマー材料ではなく、
   前記第１の領域が前記第２の領域よりも低い有効屈折率を有し、
   前記層の前記第１及び第２の領域が、光導体に光学的に連結されるときに前記層が前記第１及び第２の領域の幾何学的配列に基づき前記光導体から光を選択的に抽出するように配置されている、可変屈折率光抽出層。
2. 可変屈折率抽出層を形成する方法であって、
   基材上に第１の物質をパターン化することと、第２の物質をオーバーコートして層を形成することと、を含む方法であり、
   前記層の第１の領域は、前記第１の物質が選択的に印刷されている区域に対応し、前記層の第２の領域は、少なくとも、前記第１の物質が選択的に印刷されている場所の間の区域に対応し、
   前記第１の領域が前記第２の領域よりも低い有効屈折率を有し、
   前記第１の物質がナノボイド化ポリマー材料であり、
   前記第２の物質がナノボイド化ポリマー材料ではなく、
   前記層の前記第１及び第２の領域は、前記層が前記第１及び第２の領域の幾何学的配列に基づき前記基材から導波モード光を選択的に抽出するように配置される、方法。