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  1. 第1の平面表面と第2の平面表面との間の流体経路を規定する平面フレームと、
    前記平面フレームの一方の端における流体インタフェースであって、流体インレットと流体アウトレットとを備える、流体インタフェースと
    を備え、前記流体経路は、複数のウェル構成されたウェル基板を有するウェルチャンバを更に含み、前記ウェルチャンバは前記平面フレーム内で前記第1の平面表面又は前記第2の平面表面と前記ウェル基板との間に配置され、前記ウェルチャンバは前記流体インレット及び前記流体アウトレットの間で流体連通する、
    ハニカムチューブ。
  2. 前記流体経路は、前記平面フレーム内で前記第1の平面表面と前記第2の平面表面との間に配置される前置増幅チャンバを含む、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  3. 前記前置増幅チャンバは、ウェルチャンバ入口と流体連通する前置増幅チャンバ出口を含む、請求項2に記載のハニカムチューブ。
  4. 前記前置増幅チャンバ出口は、前記ウェルチャンバ入口から通路によって分離される、請求項3に記載のハニカムチューブ。
  5. 前記流体アウトレットが前記流体インレットの上方にあるように前記第1の平面表面及び第2の平面表面が垂直に向けられている場合、前記前置増幅チャンバ出口は、前記前置増幅チャンバの最上部に位置付けられる、請求項4に記載のハニカムチューブ。
  6. 前記ウェルチャンバ入口は、前記ウェルチャンバの最下部に位置付けられる、請求項5に記載のハニカムチューブ。
  7. 前記ウェルチャンバ入口は、前記前置増幅チャンバの下方に位置付けられる、請求項6に記載のハニカムチューブ。
  8. 前記通路は、前記前置増幅チャンバ出口から前記ウェルチャンバ入口まで下向きに傾斜する、請求項7に記載のハニカムチューブ。
  9. 前記流体経路は蛇行チャネルを備える、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  10. 前記流体経路は無弁である、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  11. 前記ウェル基板は100〜1000個のナノウェルを備える、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  12. 前記ウェル基板は、100〜500μmの深さを有する複数のウェルを備える、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  13. 前記ウェル基板は、5〜500μmの直径を有する複数のウェルを備える、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  14. 前記ウェル基板は、複数の0.8nlウェルを備える、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  15. 前記平面フレームの一部は、疎水性物質を保持するオイルチャンバを規定する、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  16. 前記オイルチャンバは前記ウェルチャンバと流体連通する、請求項15に記載のハニカムチューブ。
  17. 前記平面フレームは、基部から延在するスカフォードを備える、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  18. 前記第1の平面表面及び第2の平面表面は、前記スカフォードを流体的に封止する第1の膜及び第2の膜を備える、請求項17に記載のハニカムチューブ。
  19. 前記平面フレームは、前記流体インタフェースを介して試料容器に流体的に接続される、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  20. 前記ウェル基板はニッケル材料を備える、請求項1に記載のハニカムチューブ。
  21. ハニカムチューブの流体インタフェースに試料流体を提供する方法であって、
    前記ハニカムチューブの前記流体インタフェースに前記試料流体を提供し、前記ハニカムチューブは、第1の平面表面と第2の平面表面との間の流体経路を規定する平面フレームを備え、前記流体経路は、流体インレット及び流体アウトレットを備える前記流体インタフェースと、複数のウェルを有するウェルチャンバであって、前記流体経路に沿って前記流体インレット及び前記流体アウトレットの間に配置されるウェルチャンバとを含み、
    前記試料流体で前記ウェルチャンバを充填し、これにより前記ウェルチャンバの前記複数のウェルが前記試料流体で少なくとも部分的に充填され、
    前記ウェルチャンバから余分な前記試料流体を排出し、これにより前記複数のウェルは、前記試料流体で少なくとも部分的に充填されたままとなること
    を含む方法。
  22. 前記流体経路の前置増幅チャンバを前記試料流体で充填することと、前記ウェルチャンバを充填することに先立って前記前置増幅チャンバを前記試料流体で増幅することを更に含む、請求項21に記載の方法。
  23. 前記流体アウトレットが前記流体インレットの上方に位置するように前記ハニカムチューブが垂直に向けられている場合に、前記前置増幅チャンバは、前記前置増幅チャンバの最上部に前置増幅チャンバ出口を含み、前記前置増幅チャンバは、前記前置増幅チャンバ出口より下のレベルにおいて充填される、請求項22に記載の方法。
  24. 前記前置増幅チャンバ出口は、前記前置増幅チャンバ出口からウェルチャンバ入口まで下向きに傾斜する通路によって前記ウェルチャンバ入口に流体接続される、請求項23に記載の方法。
  25. 前記流体経路は無弁である、請求項24に記載の方法。
  26. 前記ウェルチャンバから前記余分な試料流体が排出された後に、前記ウェルチャンバを疎水性物質で充填することを更に含む、請求項21に記載の方法。
  27. 前記疎水性物質は、前記ウェルチャンバと流体連通する前記平面フレームのオイルチャンバから供給される、請求項26に記載の方法。
  28. 前記試料流体は、蛇行する様態で前記流体経路に沿って送られる、請求項21に記載の方法。
  29. 前記第1の平面表面及び第2の平面表面に加熱及び冷却サイクルを加えることを更に含む、請求項21に記載の方法。
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