JP2015514329A - ガスレーザ用の冷却装置、冷却装置を備えたガスレーザ並びにレーザガスの冷却方法 - Google Patents
ガスレーザ用の冷却装置、冷却装置を備えたガスレーザ並びにレーザガスの冷却方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015514329A JP2015514329A JP2015504895A JP2015504895A JP2015514329A JP 2015514329 A JP2015514329 A JP 2015514329A JP 2015504895 A JP2015504895 A JP 2015504895A JP 2015504895 A JP2015504895 A JP 2015504895A JP 2015514329 A JP2015514329 A JP 2015514329A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling
- laser
- gas
- heat exchanger
- cooling device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0407—Liquid cooling, e.g. by water
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
- H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
- H01S3/076—Folded-path lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/2232—Carbon dioxide (CO2) or monoxide [CO]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
本発明は、ガスレーザ用のレーザガスを冷却する冷却装置(16)に関する。冷却装置(16)は、第1冷却循環路(21)と、第1循環路とは独立した第2冷却循環路(22)を含み、第1冷却循環路(21)は、第1冷却装置(17)と、ブロワ(11)からガスレーザの共振器(2)へ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第1熱交換器(26)を備え、第2冷却循環路(22)は、第2冷却装置(18)と、共振器(2)からブロワ(11)へ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第2熱交換器(27)を備える。冷却装置(16)において第2冷却循環路(22)は、ブロワ(11)から共振器(2)へ流れるレーザガスを付加的に冷却するため、少なくとも1つの別の熱交換器(28)を有する。本発明はさらに、この種の冷却装置(16)を備えたガスレーザ、並びにガスレーザ用のレーザガスを冷却するための対応する方法にも関する。
Description
本発明は、ガスレーザ用のレーザガスを冷却するための冷却装置に関する。この冷却装置は、第1冷却循環路と、この第1循環路とは独立した第2冷却循環路とを含み、第1冷却循環路は、第1冷却装置と、ブロワからガスレーザの共振器へ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第1熱交換器とを備え、第2冷却循環路は、第2冷却装置と、共振器からブロワへ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第2熱交換器とを備える。さらに本発明は、この種の冷却装置を備えたガスレーザ、並びにガスレーザ用のレーザガスを冷却するための対応する方法にも関する。この方法によれば、ブロワから共振器へ流れるレーザガスを、第1冷却循環路の少なくとも1つの第1熱交換器によって冷却し、共振器からブロワへ流れるレーザガスを、第1冷却循環路とは独立した第2冷却循環路の少なくとも1つの第2熱交換器によって冷却する。
ガスレーザ例えばCO2ガスレーザは通常、折り返し型のレーザ共振器を有しており、この共振器内においてレーザビームは、1つの平面又は上下に位置する複数の平行な平面で折り返される。この目的で各平面にはミラー部材が配置されており、それらは一般に複数のコーナハウジング内に収容されている。各コーナハウジング間には、レーザガス励起用の電極を備えた放電管が配置されている。レーザガスは、例えばラジアルブロワとして構成可能なブロワを圧力源とし、そこから供給管路を介して各コーナハウジングへ供給される。この場合、個々の供給管路内もしくは供給ハウジング内には通常、コーナハウジングつまりはビーム案内スペースに流入する前にレーザガスを冷却する目的で、第1冷却循環路の熱交換器が配置されている。ガスレーザのレーザガス循環路は、吸出管路もしくは吸出ハウジングを介して閉じられており、加熱されたレーザガスがそれらを介して吸い出され、(ラジアル)ブロワへ供給される。ラジアルブロワへ供給される前にレーザガスを冷却する目的で、この種の吸出管路にも、典型的には第1冷却循環路とは独立した(つまり分離された冷却媒体流を伴う)第2冷却循環路の熱交換器を設けることができる。
DE 10 2008 013 816 B4によれば、レーザ加工システムからエネルギーを再生するための方法及び装置が知られており、この場合、レーザ源として例えばガスレーザを使用することができる。レーザ加工システムの動作時、最大温度TMAXの熱エネルギーが発生する。この熱エネルギーは、限界温度TZ<TMAXに至るまで、レーザ加工システムから取り出され、エネルギー再生装置へ供給される。この場合、限界温度TZは温度閾値を成し、この閾値以上でエネルギー再生装置を投入することができる。
DE 10 2008 013 816 B4の1つの実施例によれば、レーザ加工システムは上述のように構成されたガスレーザを有しており、吸出ハウジング又は供給ハウジングに熱交換器が設けられている。エネルギー再生システムをできる限り高い限界温度TZで稼動できるようにする目的で、できる限り高い冷却媒体排出温度となるようにしており、この温度は、熱交換器貫流前のレーザガス温度と熱交換器貫流後のレーザガス温度との差をできる限り大きくすることによって保持しようとしている。レーザガスが段階的に冷えるのを避けるために有利であるのは、熱交換器もしくは熱交換器の冷却フィンを、導出ハウジング又は供給ハウジング内に設けることである。
発明が解決しようとする課題
本発明の課題は、ガスレーザ用の冷却装置、ガスレーザ、並びに冒頭で述べた形式の方法において、冷却の熱効率を高めることにある。
本発明の課題は、ガスレーザ用の冷却装置、ガスレーザ、並びに冒頭で述べた形式の方法において、冷却の熱効率を高めることにある。
発明の概要
本発明によればこの課題は、冒頭で述べた形式の冷却装置において、第2冷却循環路が、ブロワから共振器へ流れるレーザガスを付加的に冷却するための、少なくとも1つの別の熱交換器を有していることにより解決される。
本発明によればこの課題は、冒頭で述べた形式の冷却装置において、第2冷却循環路が、ブロワから共振器へ流れるレーザガスを付加的に冷却するための、少なくとも1つの別の熱交換器を有していることにより解決される。
本発明によれば、ブロワから共振器へ流れるレーザガスに対する一段階の冷却の代わりに、別個の冷却循環路を介した二段階の冷却を行うことが提案される。このように多段階で冷却を行うことによって、第2冷却循環路から取り出された熱エネルギーを、いっそう高い温度レベルで放出できるようになり、その結果、この熱エネルギーを、この熱を利用しないのであれば、僅かなエネルギーコストで周囲にそのまま放出できるようになる。このエネルギーを利用するようにし、例えばエネルギー再生ユニットへ供給するように構成すべき場合であったとしても、いっそう高い温度レベルでの放出は好適である。なぜならば上述のようにエネルギー再生ユニットは、予め設定された限界温度TZを超えてからでないと駆動できないからである。このことに加え、たいていのエネルギー再生ユニットは、いっそう高い温度のときにいっそう高い効率を有することになる。この場合、ブロワから共振器へ供給されるレーザガスを多段階で冷却するのが好適であり、その理由は、共振器に流入するレーザガスは、例えば約50℃付近になる可能性のある定められた温度を、通常は超えるべきではないからである。
必要に応じて第1冷却循環路も、共振器からブロワへ流れるレーザガスを付加的に冷却するために、少なくとも1つの別の熱交換器を含むようにすることができる。このことが格別好適になるのは、エネルギー再生ユニットを備えた余熱利用システムが利用される場合であり、そのようなシステムは種々の温度レベルを必要とし、もしくは利用することができ、これは例えば多段階の吸収冷却装置などの場合である。
1つの実施形態によれば、冷却装置の動作中、第1冷却循環路の最低冷却媒体温度は、第2冷却循環路の最低冷却媒体温度よりも低くなるように構成されている。この目的で、第2冷却循環路の冷却装置から送出される冷却媒体の温度が、第1冷却装置から供給される冷却媒体の温度よりも高くなるように、冷却装置の冷却パワーが選定され、もしくは冷却媒体質量流量が調節される。双方の最低冷却媒体温度間の差は、10Kよりも大きくなる可能性があり、又は15Kよりも大きくなる可能性があり、或いは20Kよりも大きくなる可能性すらある。このようにして、レーザガスの温度に左右されることなく、第2冷却循環路の熱エネルギーを十分に高い温度レベルで放出させることができるようになる。
さらに別の実施形態によれば、第2冷却循環路は、第2熱交換器と別の熱交換器とに冷却媒体がパラレルに貫流するように構成されている。この目的で典型的な手法によれば、冷却媒体流が第2冷却装置から共通の冷却媒体管路を介して分岐点へ供給され、この分岐点のところで冷却媒体流が2つの部分流に分配される。これらの部分流は、第2熱交換器もしくは別の熱交換器へ供給され、それらの熱交換器を貫流した後、別の分岐点のところで再び合流し、共通の冷却媒体管路を介して第2冷却装置へ再び戻される。分岐点における冷却媒体流の分配を対称に行うことができ、即ち冷却媒体質量流量の半分は、ブロワから共振器へと流れるレーザガスの冷却に用いられ、残りの半分は、共振器からブロワへと流れるレーザガスを冷却するために用いられる。ただし自明の通り、冷却媒体質量流量を非対称に分配することも可能であり、例えば40:60の比で分配することも可能である。
別の実施形態によれば、冷却装置の動作中、別の熱交換器を流れる冷却媒体質量流量は、第1熱交換器を流れる冷却媒体質量流量よりも少ない。このことが好適である理由は、別の熱交換器を流れる冷却媒体質量流量の方が少ないと、冷却媒体はその熱交換器にいっそう長く滞留することになるからであり、そのため第2冷却循環路の冷却媒体がいっそう強く加熱することになるからである。
別の実施形態によれば冷却装置は、第2冷却循環路を流れる冷却媒体質量流量を調節するための調節装置を有している。調節装置を、例えばポンプ又はそれと同等のものとすることができる。この場合に好適であるのは、第2冷却循環路を流れる冷却媒体質量流量と、第2冷却装置の冷却パワーとを、互いに無関係に調節できるようにすることである。調節装置の利用が特に好適となるのは、第2冷却装置自体によっても冷却パワーの調節が不可能な場合であり、例えば第2冷却装置が外気冷却器の形態をとるなど、受動的な冷却装置の場合である。このケースでは、冷却媒体質量流量の調節によって温度レベルの調整が可能となり、その際、第2冷却装置又はこれと接続された装置から、熱エネルギーが放出される。さらに第2冷却循環路の冷却媒体質量流量の調節によって、限界温度TZよりも高い規定の調節可能な温度のときに排出される熱エネルギーを、エネルギー再生システムが利用できるようにすることも可能である。
第1冷却装置を例えば、冷却パワーを調整可能な圧縮冷却装置とすることができる。この種の冷却装置は、ガスレーザシステムの冷却のために一般的に使用されている。典型的には、この種の冷却装置が複数、1つの共通のハウジング内に収容される。この場合、1つ又は複数の冷却装置を、レーザガスの冷却に用いることができる。ハウジング内に設けられたさらに別の圧縮冷却装置を、例えばガスレーザもしくはガスレーザをビーム源として利用するレーザ加工システムの高周波発生器もしくはフレーム並びに光学系の冷却に用いることができる。ハウジング内に収容された冷却装置を、例えば熱交換器を介して互いに結合することができ、そのようにすれば、ハウジング内に収容されたすべての冷却装置に対し場合によっては1回だけ圧縮を実施すればよくなる。第2冷却循環路を用いたレーザガスの付加的な冷却によって、圧縮冷却装置の冷却パワーを低減することができ、したがって慣用の冷却システムにおいて一般的であった仕様よりも小さく設計することができる。
別の実施形態によれば、第2冷却装置は外気冷却器であり、つまり受動的な冷却器である。この種の外気冷却器を介して、熱エネルギーを第2冷却循環路からそのまま周囲へ放出させることができる。ここで活用できるのは、熱エネルギーが放出される温度レベルは原則的に周囲温度よりも著しく高く、したがって僅かなエネルギーコストで熱を周囲空気へ放出できる、という点である。
さらに別の実施形態によれば、少なくとも1つの熱交換器は以下のグループから選択される:プレート型熱交換器、リブ型熱冷却器、螺旋型冷却器、又は排気熱交換器。全体として本発明にとって好適であるのは、使用される熱交換器によってモジュラー型構造を実現できる場合である。なぜならば通常、少なくとも2つの熱交換器は、1つの共通の供給ハウジング内もしくは1つの共通の吸出ハウジング内に収容されることになるからである。プレート型熱交換器であれば、一般に平行に配置された複数のプレートを介してレーザガスが流れ、それらのプレート間のスペースに交互に、レーザガスもしくは冷却媒体が流される。リブ型冷却器であれば、冷却媒体が流される個々の冷却素子(例えば管など)にリブが設けられることにより、冷却に利用できる表面が広くなる。螺旋型冷却器であれば、管状の冷却ダクトが螺旋状もしくは渦巻状に形成されており、例えばこれを金属材料例えばアルミニウムによって製造することができる。さらにこの目的で、例えば特別な構造を備えた矩形の管を熱交換器流体が流れる排気熱交換器を用いることもできる。リブ型冷却器の場合、リブ状もしくはフィン状の複数の管がレーザガスの流動方向と交差する方向で延在し、それらの管が1つの熱交換器カセットに組み込まれているが、そのような冷却器であると特に、個々の冷却循環路をきわめて簡単に分離することができる。
本発明の別の観点は、ガスレーザに関するものである。このガスレーザには、レーザ共振器と、レーザガスのガス流を発生させるブロワと、ブロワから共振器へ流れるレーザガス及び共振器からブロワへ流れるレーザガスを冷却するための、請求項1から8のいずれか1項記載の冷却装置とが設けられている。既述の冷却装置を備えたガスレーザは、レーザガスの入口温度が既存のシステムよりも低ければ殊に、熱効率を高めて駆動することができる。
1つの実施形態によればガスレーザには付加的に、ガスレーザの動作中、第2冷却装置へ供給される熱エネルギーを再生するためのエネルギー再生ユニットも設けられている。冷却装置を用いることによって、エネルギー再生ユニットのための熱エネルギーが供給される温度レベルを、エネルギー再生ユニットの要求に整合させることができる。つまりレーザガスもしくは冷却媒体の最大温度と、エネルギー再生システムの限界温度との間で調整可能な温度で、熱を供給することができる。
本発明はさらに、ガスレーザ用のレーザガスを冷却するための冒頭で述べた形式の方法にも関する。この方法によれば、ブロワから共振器へ流れるレーザガスの冷却が付加的に、第2冷却循環路の別の熱交換器によって行われる。本発明による方法においても、ガスレーザもしくはレーザシステム全体の効率を高める目的で、2つの異なる冷却循環路を用いたレーザガスの多段階の冷却プロセスが行われる。
以下の説明ならびに図面には、本発明のその他の利点が示されている。これまでに挙げた特徴並びにさらに以下で説明する特徴を、単独で適用することもできるし、或いは複数を任意に組み合わせて適用することもできる。なお、以下で説明する図示の実施形態は、本発明のすべてを列挙したものではなく、本発明を説明するためにその特徴を例示したものにすぎない。
図1及び図2に示されているCO2ガスレーザ1は、正方形に折り返されたレーザ共振器2を有している。レーザ共振器2には、互いに繋ぎ合わされた4つのレーザ放電管3が設けられており、これらの放電管3は、コーナハウジング4,5を介して互いに接続されている。レーザ放電管3の軸線方向に延在するレーザビーム6が、一点鎖線で描かれている。コーナハウジング4に設けられた偏向ミラー7の役割は、レーザビーム6をそれぞれ90゜ずつ方向転換させることである。1つのコーナハウジング5には、反射ミラー8と部分透光性の出射ミラー9が配置されている。反射ミラー8は高度に反射性に構成されており、レーザビーム6を180゜反射することから、レーザビーム6はレーザ放電管3の中を再び逆方向に進むようになる。レーザビーム6の一部分は、部分透光性の出射ミラー9を介してレーザ共振器2から出射し、レーザビーム6の残りの部分はレーザ共振器2内に留まり、レーザ放電管3内を再び進む。図1では、出射ミラー9を介してレーザ共振器2から出射したレーザビームは、参照符号10で表されている。
折り返し型レーザ共振器2の中心には、レーザガスの圧力源としてラジアルブロワ11が配置されており、これはレーザガスの供給ハウジング12を介してコーナハウジング4,5と接続されている。コーナハウジング4とコーナハウジング5の中間には、レーザガス2の別のハウジング14が配置されており、このハウジングは吸出ハウジング13と接続されている。吸出ハウジング13の役割は、レーザ共振器2からレーザガスを吸い出してラジアルブロワ11へ戻すことである。図1には、レーザ放電管3内部のレーザガスの流動方向と、供給ハウジング12内及び吸出ハウジング13内のレーザガスの流動方向が、矢印で示されている。レーザガスの励起は、レーザ放電管3に隣接して配置された電極15によって行われ、この電極は高周波発振器(図示せず)と接続されている。高周波発生器として、例えば13.56MHz又は27.12MHzの励起周波数を使用することができる。
図2に示されているように、レーザガスを段階的に冷却できるようにする目的で、ガスレーザ1の個々の供給ハウジング12にも個々の吸出ハウジング13にも、それぞれ2つの熱交換器26,27,28,29が取り付けられている。図2に示したガスレーザ1は、このような段階的な冷却のために、図5に示した冷却装置16によって冷却される。図5に示した冷却装置16は、以下で図3を参照しながら説明する慣用の冷却装置16とは異なるものである。
図3に示したガスレーザ用の慣用の冷却装置16は、第1冷却循環路21及び第2媒体冷却循環路22を有している。第1冷却循環路21は、ブロワ11から共振器2へ向かって流れるレーザガスの冷却に用いられる一方、第2冷却循環路22は、逆方向に流れるレーザガス即ち共振器2からブロワ11へ向かって流れるレーザガスの冷却に用いられる。
ガスレーザ1の動作にあたり、個々の冷却循環路21,22において、冷却媒体通常は冷却液体例えば冷却水が個々の圧縮冷却装置17,18によって、約10℃〜約30℃の温度T1,MINもしくはT2,MINまで冷却される。第1圧縮冷却装置17から送出された冷却媒体は、その後、(図示されていない)分岐点のところで(図3には示されていない)複数の供給ハウジング12に分配され、複数のパラレルな部分流として個々の第1熱交換器20aを貫流する。同様に、第2圧縮冷却装置18から供給された冷却媒体は、(やはり図示されていない)分岐点のところで複数の吸出ハウジング13に分配され、複数のパラレルな部分流として、そこに配置された第2熱交換器20bを貫流する。この場合、個々の冷却装置17,18の冷却パワーは、(図示されていない)開ループ制御装置もしくは閉ループ制御装置によって、個々の冷却装置17,18に戻る冷却媒体の温度が、約30℃〜約40℃の温度T1,MAXもしくはT2,MAX付近になるよう調節される。
第1冷却循環路21により、ブロワ11から約50℃〜150℃の温度で送出されたレーザガスが、共振器2へ流入する前に、約20℃〜50℃の温度となるよう冷却される。通常、このようにすることが必要とされるが、その理由は、レーザガスがコーナハウジング4,5を介して、共振器2の個々の偏向ミラー7、反射ミラー8及び出射ミラー9も存在するレーザ放電管3(図2参照)へ流入するからである。レーザガスは共振器2内で、典型的には約100℃〜250℃の温度まで加熱される。第2冷却循環路22もしくは第2熱交換器20bによって、ラジアルブロワ11へ戻るように流れるレーザガスが、約20℃〜約80℃の温度まで冷却される。ラジアルブロワ11はレーザガスを圧縮し、それを約50℃〜150℃の温度まで加熱する。
図3に例示した冷却装置16の場合、第1冷却循環路21内の冷却媒体温度と第2冷却循環路22内の冷却媒体温度は実質的に等しく、それらの温度は、互いに独立した又は場合によっては熱交換器を介して結合された圧縮冷却装置17,18によって形成される。両方の圧縮冷却装置17,18は、(図示されていない)別の冷却装置とともに共通のハウジング19内に収容されている。別の冷却装置の役割は、図3では参照符号HFの付された高周波発生器と、図3では参照符号Oの付されたガスレーザ1の光学素子を冷却することである。
図3に示されている冷却装置16の場合、冷却循環路21,22内の冷却媒体は、約35℃の最高温度T1,MAXもしくはT2,MAXに達する。周囲温度は一般に同様のオーダにあるので、比較的大きいエネルギーコストをかけないと、熱エネルギーを周囲に放出できない。比較的高い温度レベルでの熱エネルギーの放出を実現する目的で、1つの実施形態によれば、2つの冷却循環路21,22を実質的に同一に構成する代わりに、第2冷却循環路22が変形され、例えば図4に描かれているようにして変形される。これによれば、少なくとも図3に示した熱交換器20bが、供給ハウジング12に組み込まれた少なくとも1つの別の熱交換器によって補われる。
図4に示した冷却循環路22の役割は、ラジアルブロワ11から共振器2へ向かって流れるレーザガスも、逆方向に流れるレーザガス即ち共振器2からラジアルブロワ11へ向かって流れるレーザガスも冷却することである。この場合、冷却媒体は、第2冷却装置18から供給され、共通の冷却媒体管路を介して第1分岐点もしくは第1分配点23aへ流れ、そこから2つの別個の冷却媒体管路を介して供給ハウジング12へ、もしくは吸出ハウジング13へと導かれ、正確にいえば、そこに設けられた(図4には示されていない)熱交換器へと導かれる。レーザガスにより加熱された冷却媒体は、第2分配点23bで合流し、そこから共通の経路を介して第2冷却装置18へ戻される。
ここで挙げた例の場合、冷却装置は外気冷却器の形態をとる受動的な冷却器であり、このような冷却器は、そこへ供給される熱エネルギーを、詳しくは示されていない冷却フィンを介してじかに周囲空気へ放出する。第2冷却循環路22はポンプ24も有しており、このポンプは(図示されていない)制御装置により制御可能であり、これによって単位時間あたりに要求される量の冷却媒体(冷却媒体質量流量)を、第2冷却循環路22へ供給することができる。単位時間あたりに、典型的にはガスレーザ2の動作時に外気冷却器18を介して周囲へダイレクトに放出可能な熱流Qは、数kW〜数10kWの範囲にあり、例えば約40kW付近にある。
図5に示した冷却装置16には、図4の第2冷却循環路22が組み込まれており、つまり図5に示した冷却装置16の場合には、図3に示した第2冷却循環路22が、図4に示した第2冷却循環路22と置き換えられている。図5の冷却装置16によれば、吸出ハウジング13を通って流れるレーザガスは、もっぱら第2冷却循環路22によって冷却され、その目的でこの実施例によれば、直列に接続された2つの熱交換器27,29が用いられる。同様に図5に示されているように、第2冷却装置18から到来する冷却媒体質量流量mw,2は、例えば約0.24kg/sの値を有することができるが、これが等しい大きさの2つの冷却媒体質量流量mw,2/2(例えば約0.12kg/s)に分配される。第2冷却循環路22における冷却媒体の部分流は、供給ハウジング12へ導かれ、つまりそこに配置された別の熱交換器28へ導かれ、この部分流とパラレルに、吸出ハウジング13内に配置された熱交換器27,29を貫流する部分流と、第2分配点23bにおいて合流する。
この場合、第2冷却循環路22を流れる冷却媒体質量流量mw,2は、ポンプ24によって以下のように調節される。即ちこの実施例では、第2冷却装置18から送出されるときの冷却媒体の最低温度T2,MINが、約10℃付近にあるようにし、ただし場合によってはそれよりも高くてもよく、例えば20℃、30℃又は40℃付近にすることができ、ここでは殊にT1,MIN<T2,MINを適用することができる。供給ハウジング12内に設けられた別の熱交換器28へ供給される冷却媒体部分流は、吸出ハウジング13の両方の熱交換器27,29を貫流する冷却媒体部分流と同様、約50℃〜約100℃の温度まで加熱する。その際、一般的には、吸気ハウジング13の両方の熱交換器27,29を貫流する冷却媒体部分流は、供給ハウジング12の別の熱交換器28へ供給される冷却媒体部分流よりも強く加熱する。第2分配点23bのところで両方の部分流が合流し、それらの冷却媒体質量流量は同一であることから、この合流によって第2冷却装置18のところで、供給ハウジング12へ導かれる冷却媒体部分流と、吸出ハウジング13を貫流する冷却媒体部分流の平均に相応する、混合温度T2,MAXが発生する。このように図5に示した冷却装置16の場合、熱エネルギーを周囲に放出可能な温度レベルは、図3に示した冷却装置よりも著しく高いので、例えば約43℃という高い周囲温度TUであっても、熱を周囲空気へそのまま放出できるようになる。
第1冷却循環路21は、共振器2へ流入する前にレーザガスを約40℃よりも低い温度まで冷却するために必要とされる。ただしレーザガスは、供給ハウジング12内に配置された別の熱交換器28によって事前に冷却されるので、(冷却媒体質量流量が同じであれば)第1冷却循環路21の圧縮冷却装置17を、図3に例示したケースよりも小さく設計することができる。第2冷却循環路22用の圧縮冷却装置を、図5の場合には完全に省くことができ、そのようにすれば圧縮冷却装置のための共通のハウジング19をいっそう小さく設計することができる。
圧縮冷却装置17によって、第1冷却循環路21を貫流する冷却媒体質量流量mw,1が調節され、その際、冷却媒体質量流量mw,1(この実施例では約0.8kg/s)は通常、第2冷却循環路22の冷却媒体質量流量mw,2よりも大きく選定される。このようにして第2冷却循環路22の冷却媒体は要求通り、第1冷却循環路21の冷却媒体よりも強く加熱される。第1冷却循環路21及び第2冷却循環路22において用いられる冷却媒体を、同じものとすることができ、例えば両方のケースともに冷却水とすることができる。ただし場合によっては、これら双方の冷却循環路21,22内で、それぞれ異なる冷却媒体を用いてもよい。
熱エネルギーを周囲にそのまま放出するのではなく、第2冷却装置18が、エネルギー再生ユニット25と結合された熱放出面を有することもできる。エネルギー再生ユニット25を、冒頭で挙げたDE 10 2008 013 816 B4のように構成することができ、特にこのユニットの役割は、再生されたエネルギーをガスレーザ1もしくはレーザ加工システムが利用できるようにすることである。例えばエネルギー再生ユニットを吸着式冷却器とすることができ、この冷却器は図5に矢印で示されているように、発生した冷気を第1冷却循環路21の圧縮冷却装置17へ送出する。熱エネルギーを他のエネルギー形態へ変換するためのエネルギー再生ユニット25に関して、他の適用形態も可能であるのは自明である。一例として熱エネルギーを、例えばガスレーザ1用のエアコンプレッサの作動に利用可能な機械エネルギー又は電気エネルギーへ変換するために、エネルギー再生ユニット25を用いることができる。
この場合に好適であると判明したのは、第2冷却循環路22の冷却媒体質量流量mw,2ひいてはそのつど第2冷却装置18の熱放出面から供給される温度レベルT2,MAXを、ポンプ24を用いて、それぞれ適用されるエネルギー再生ユニットの形式に整合させて、その温度がそれぞれ適用されるエネルギー再生ユニット25の限界温度TZよりも高くなるように、もしくはこの限界温度TZと一致させることである。
供給ハウジング12内もしくは吸出ハウジング13内に配置される熱交換器26〜29を、様々な形態で構成することができる。例えば熱交換器26,27もしくは28,29を、1つの共通の冷却カセットに統合されたフィン型管とすることができる。このような構成が好適である理由は、この種のシステムであると個々の冷却循環路を特に簡単に分離できるからである。また、例えばアルミニウムから成るプレート型熱交換器、リブ型冷却器、螺旋型冷却器、排気熱交換器等を、本発明の適用にあたり熱交換器26〜29として使用することもできる。
なお、上述の実施例で示したものとは異なり、レーザガスの冷却のために、もっと多くの又はもっと少ない(直列に接続された)熱交換器を用いることもできる。例えば個々の吸出ハウジング13内に、2つの熱交換器27,29を設ける代わりに、ただ1つの熱交換器を配置してもよい。また、ガスレーザ1の構造が簡単になることから、供給ハウジング12と吸出ハウジング13とにおいて同数(実施例ではそれぞれ2つずつ)の熱交換器を使用するのが有利であると判明した。
Claims (11)
- ガスレーザ(1)用のレーザガスを冷却するための冷却装置(16)であって、
第1冷却循環路(21)と、該第1冷却循環路(21)とは独立した第2冷却循環路(22)とを含み、
前記第1冷却循環路(21)は、第1冷却装置(17)と、ブロワ(11)からガスレーザ(1)の共振器(2)へ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第1熱交換器(26)とを備え、
前記第2冷却循環路(22)は、第2冷却装置(18)と、前記共振器(2)から前記ブロワ(11)へ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第2熱交換器(27)とを備えている、
ガスレーザ(1)用のレーザガスを冷却するための冷却装置(16)において、
前記第2冷却循環路(22)は、前記ブロワ(11)から前記共振器(2)へ流れるレーザガスを付加的に冷却するために、少なくとも1つの別の熱交換器(28)を有している
ことを特徴とする冷却装置(16)。 - 動作中、前記第1冷却循環路(21)の最低冷却媒体温度(T1,min)は、前記第2冷却循環路(22)の最低冷却媒体温度(T2,min)よりも低い、請求項1記載の冷却装置。
- 前記第2冷却循環路(22)は、前記第2熱交換器(27)と前記別の熱交換器(28)とに、冷却媒体をパラレルに貫流させるように構成されている、請求項1又は2記載の冷却装置。
- 動作中、前記別の熱交換器(28)を流れる冷却媒体質量流量(mw,2/2)は、前記第1熱交換器(26)を流れる冷却媒体質量流量(mw,1)よりも少ない、請求項1から3のいずれか1項記載の冷却装置。
- 前記第2冷却循環路(22)を流れる冷却媒体質量流量(mw,2)を調節するための調節装置(24)が設けられている、請求項1から4のいずれか1項記載の冷却装置。
- 前記第1冷却装置は圧縮冷却装置(17)である、請求項1から5のいずれか1項記載の冷却装置。
- 前記第2冷却装置は外気冷却器(18)である、請求項1から6のいずれか1項記載の冷却装置。
- 少なくとも1つの熱交換器(26〜29)は、プレート型熱交換器、リブ型冷却器、螺旋型冷却器及び排気熱交換器から成るグループから選択される、請求項1から7のいずれか1項記載の冷却装置。
- ガスレーザ(1)において、
共振器(2)と、
レーザガスのガス流を発生させるブロワ(11)と、
前記ブロワ(11)から前記共振器(2)へ流れるレーザガス及び前記共振器(2)から前記ブロワ(11)へ流れるレーザガスを冷却するための、請求項1から8のいずれか1項記載の冷却装置(16)と
を含むことを特徴とするガスレーザ(1)。 - 前記ガスレーザ(1)の動作中、前記第2冷却装置(18)に供給される熱エネルギーを再生するためのエネルギー再生ユニット(25)が設けられている、請求項9記載のガスレーザ。
- ガスレーザ(1)用のレーザガスを冷却するための方法であって、
ブロワ(11)から共振器(2)へ流れるレーザガスを、第1冷却循環路(21)の少なくとも1つの第1熱交換器(26)によって冷却し、
前記共振器(2)から前記ブロワ(11)へ流れるレーザガスを、前記第1冷却循環路(21)とは独立した第2冷却循環路(22)の少なくとも1つの第2熱交換器(27)によって冷却する
ガスレーザ(1)用のレーザガスを冷却するための方法において、
前記ブロワ(11)から前記共振器(2)へ流れるレーザガスを、前記第2冷却循環路(22)の別の熱交換器(28)によって付加的に冷却する
ことを特徴とする、
ガスレーザ(1)用のレーザガスを冷却するための方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201210205870 DE102012205870B3 (de) | 2012-04-11 | 2012-04-11 | Kühlanordnung für einen Gaslaser, Gaslaser damit, sowie Verfahren zum Kühlen von Lasergas |
DE102012205870.2 | 2012-04-11 | ||
PCT/EP2013/056227 WO2013152944A1 (de) | 2012-04-11 | 2013-03-25 | Kühlanordnung für einen gaslaser, gaslaser damit, sowie verfahren zum kühlen von lasergas |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015514329A true JP2015514329A (ja) | 2015-05-18 |
Family
ID=47625444
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015504895A Pending JP2015514329A (ja) | 2012-04-11 | 2013-03-25 | ガスレーザ用の冷却装置、冷却装置を備えたガスレーザ並びにレーザガスの冷却方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9325139B2 (ja) |
JP (1) | JP2015514329A (ja) |
CN (1) | CN103378536B (ja) |
DE (1) | DE102012205870B3 (ja) |
WO (1) | WO2013152944A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015055222A1 (de) * | 2013-10-15 | 2015-04-23 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg | Kühlsystem für ein optisches element einer laseranlage und anordnung einer laseranlage mit einem kühlsystem |
US9209595B2 (en) * | 2014-01-31 | 2015-12-08 | Asml Netherlands B.V. | Catalytic conversion of an optical amplifier gas medium |
US10268128B2 (en) | 2015-07-08 | 2019-04-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
WO2022128056A1 (de) * | 2020-12-14 | 2022-06-23 | Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh | Laserverstärker, laser und verfahren mit quer zum e-feld verlaufendem b-feld |
EP4356489A1 (de) * | 2021-06-17 | 2024-04-24 | TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH | Co2-strahlquelle mit einem katalysator |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56111286A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-02 | Hitachi Ltd | Co2 laser oscillating device |
JPS63172481A (ja) * | 1987-01-10 | 1988-07-16 | Hitachi Ltd | レ−ザ発生装置 |
JPS63299183A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Hitachi Ltd | レ−ザ発生装置 |
JPH04236087A (ja) * | 1991-01-17 | 1992-08-25 | Ebara Corp | 冷却システム及び装置 |
JPH05102575A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Fanuc Ltd | レーザ発振装置 |
US20110024401A1 (en) * | 2008-03-12 | 2011-02-03 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg | Recovery of Energy from a Laser Machining System |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0797667B2 (ja) * | 1988-03-14 | 1995-10-18 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振器用冷却装置 |
JPH0453281A (ja) * | 1990-06-21 | 1992-02-20 | Toshiba Corp | ガスレーザ発振器 |
JP3022016B2 (ja) * | 1992-12-28 | 2000-03-15 | 松下電器産業株式会社 | 軸流形レーザ発振器 |
EP1376786B1 (en) * | 2001-09-28 | 2011-04-27 | Panasonic Corporation | Gas laser transmitter |
JP3721337B2 (ja) * | 2002-03-22 | 2005-11-30 | ファナック株式会社 | レーザ発振器 |
JP4199018B2 (ja) * | 2003-02-14 | 2008-12-17 | 株式会社日立製作所 | ラックマウントサーバシステム |
DE102009024579A1 (de) * | 2009-06-10 | 2010-12-16 | Siemens Aktiengesellschaft | Kühlmediumsleitungsverschaltung zum Erreichen sehr gleichmäßiger Kühltemperaturen und hoher Verfügbarkeit insbesondere von Leistungsmaschinen |
JP4782887B1 (ja) * | 2010-04-02 | 2011-09-28 | ファナック株式会社 | ガスレーザ装置 |
DE102010030141B4 (de) * | 2010-06-16 | 2012-04-19 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Gaslaser und Betriebsverfahren dafür |
-
2012
- 2012-04-11 DE DE201210205870 patent/DE102012205870B3/de active Active
-
2013
- 2013-03-25 JP JP2015504895A patent/JP2015514329A/ja active Pending
- 2013-03-25 WO PCT/EP2013/056227 patent/WO2013152944A1/de active Application Filing
- 2013-04-11 CN CN201310125165.7A patent/CN103378536B/zh active Active
-
2014
- 2014-10-10 US US14/511,327 patent/US9325139B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56111286A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-02 | Hitachi Ltd | Co2 laser oscillating device |
JPS63172481A (ja) * | 1987-01-10 | 1988-07-16 | Hitachi Ltd | レ−ザ発生装置 |
JPS63299183A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Hitachi Ltd | レ−ザ発生装置 |
JPH04236087A (ja) * | 1991-01-17 | 1992-08-25 | Ebara Corp | 冷却システム及び装置 |
JPH05102575A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Fanuc Ltd | レーザ発振装置 |
US20110024401A1 (en) * | 2008-03-12 | 2011-02-03 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg | Recovery of Energy from a Laser Machining System |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103378536B (zh) | 2016-10-05 |
US9325139B2 (en) | 2016-04-26 |
US20150030043A1 (en) | 2015-01-29 |
DE102012205870B3 (de) | 2013-02-21 |
WO2013152944A1 (de) | 2013-10-17 |
CN103378536A (zh) | 2013-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2015514329A (ja) | ガスレーザ用の冷却装置、冷却装置を備えたガスレーザ並びにレーザガスの冷却方法 | |
JP6865528B2 (ja) | クロスフロー導管熱交換器内の管 | |
US6069907A (en) | Laser diode pumped solid state laser and method using same | |
KR102517065B1 (ko) | 냉각발생장치 | |
JP2008533424A (ja) | 熱交換器の構成 | |
JP6570635B2 (ja) | ハイドロリック機構用の冷却装置および冷却装置の使用 | |
JP2013025212A (ja) | プロジェクター | |
JP4682775B2 (ja) | マイクロチャンネル構造体、熱交換システム及び電子機器 | |
JP2018025340A (ja) | 熱音響冷却装置 | |
WO2018066250A1 (ja) | エネルギ変換装置 | |
KR102047304B1 (ko) | 실내기 | |
JP6772273B2 (ja) | 熱音響エネルギー変換システム | |
WO2013031397A1 (ja) | 圧縮装置、冷凍装置 | |
US20050022540A1 (en) | Heat driven acoustic orifice type pulse tube cryocooler | |
CN115217737B (zh) | 一种多级压缩气体的散热结构及多级压缩机 | |
JP2008304109A (ja) | 熱交換器 | |
KR20110133154A (ko) | 통합형 라디에이터 | |
JP2019113239A (ja) | 空気調和装置 | |
US20170307200A1 (en) | Light fixture with optimized cooling system | |
JP2016003774A (ja) | 熱交換器およびヒートポンプ加熱装置 | |
WO1993007663A1 (en) | Laser device | |
TW202135596A (zh) | 光照射裝置 | |
JP2008202880A (ja) | 冷却システム | |
CN109786344B (zh) | 一种加压式散热片及散热模块 | |
JP6284734B2 (ja) | ランキンサイクルシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150331 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160229 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20161003 |