JP2015501734A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9416003B2 (en) * 2014-02-24 2016-08-16 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor die with high pressure cavity
CN106030771A (zh) * 2014-03-24 2016-10-12 英特尔公司 穿体过孔形成技术
JP6469960B2 (ja) * 2014-03-31 2019-02-13 住友精化株式会社 ポジ型フォトレジスト
TWI590735B (zh) 2014-12-15 2017-07-01 財團法人工業技術研究院 訊號傳輸板及其製作方法
JP2016163917A (ja) * 2015-03-06 2016-09-08 株式会社東芝 Mems装置
CN104985241B (zh) * 2015-05-16 2017-04-05 哈尔滨工业大学 一种基于压电陶瓷片逆压电效应的一维振动装置
TWI576026B (zh) 2015-07-17 2017-03-21 財團法人工業技術研究院 電路結構
US9845235B2 (en) * 2015-09-03 2017-12-19 General Electric Company Refractory seed metal for electroplated MEMS structures
DE112015007070T5 (de) * 2015-10-29 2018-09-13 Intel Corporation Metallfreie Rahmengestaltung für Siliziumbrücken für Halbleitergehäuse
CN108136415B (zh) * 2015-11-05 2024-04-26 惠普发展公司,有限责任合伙企业 在模制面板中形成三维特征
WO2017094176A1 (ja) * 2015-12-04 2017-06-08 株式会社日立製作所 断面観察試料作製装置及び断面観察試料作製方法
JP2017208417A (ja) * 2016-05-17 2017-11-24 住友ベークライト株式会社 中空構造体の製造方法
CN110248725B (zh) 2016-12-22 2022-08-02 伊鲁米那股份有限公司 包括树脂膜和图案化的聚合物层的阵列
CN106788306A (zh) * 2017-03-07 2017-05-31 杭州左蓝微电子技术有限公司 一种薄膜体声波谐振器及其制备方法
KR102369434B1 (ko) 2017-04-19 2022-03-03 삼성전기주식회사 체적 음향 공진기 및 이의 제조방법
WO2018194648A1 (en) * 2017-04-21 2018-10-25 Hewlett-Packard Development Company Coplanar microfluidic manipulation
US10269587B2 (en) 2017-06-30 2019-04-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Integrated circuit packages and methods of forming same
US10584027B2 (en) 2017-12-01 2020-03-10 Elbit Systems Of America, Llc Method for forming hermetic seals in MEMS devices
KR102401711B1 (ko) 2018-03-02 2022-05-26 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 패턴을 층에 전사하기 위한 방법
KR20190111743A (ko) * 2018-03-22 2019-10-02 스미토모 세이카 가부시키가이샤 복합부재 및 그 제조방법
CN108507558B (zh) * 2018-03-28 2024-04-30 株洲菲斯罗克光电科技股份有限公司 一种轻量化三轴一体光纤陀螺仪
CN108878370A (zh) * 2018-06-27 2018-11-23 深圳市华星光电技术有限公司 一种透明导电电极及其制备方法、显示装置
US20200115224A1 (en) 2018-10-12 2020-04-16 Stmicroelectronics S.R.L. Mems device having a rugged package and fabrication process thereof
CN111039254A (zh) * 2018-10-15 2020-04-21 无锡华润上华科技有限公司 Mems样品纵向截面的制备方法及形貌观察方法
CN114477073B (zh) * 2021-12-08 2024-05-03 江苏普诺威电子股份有限公司 改善mems载板边缘掉屑的制作方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030183916A1 (en) * 2002-03-27 2003-10-02 John Heck Packaging microelectromechanical systems
JP4608317B2 (ja) 2002-11-01 2011-01-12 ジョージア・テック・リサーチ・コーポレーション 犠牲組成物、その使用方法、及びその分解方法
WO2005089348A2 (en) 2004-03-15 2005-09-29 Georgia Tech Research Corporation Packaging for micro electro-mechanical systems and methods of fabricating thereof
JP4426413B2 (ja) 2004-09-24 2010-03-03 日本電信電話株式会社 半導体装置の製造方法
CN101283042A (zh) * 2005-08-09 2008-10-08 查珀尔希尔北卡罗来纳大学 制造微流体器件的方法和材料
US7635606B2 (en) 2006-08-02 2009-12-22 Skyworks Solutions, Inc. Wafer level package with cavities for active devices
JP5110575B2 (ja) * 2007-08-24 2012-12-26 エムテックスマツムラ株式会社 中空パッケージ及び半導体装置
CN101554987B (zh) * 2009-04-30 2011-04-20 华中科技大学 一种微机电系统的圆片级真空封装工艺
CN102001616A (zh) * 2009-08-31 2011-04-06 上海丽恒光微电子科技有限公司 装配和封装微型机电系统装置的方法
JP2011142229A (ja) * 2010-01-07 2011-07-21 Toyota Motor Corp 電子部品用パッケージ、電子部品装置、及び電子部品装置の製造方法

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