JP2015220369A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015220369A5
JP2015220369A5 JP2014103554A JP2014103554A JP2015220369A5 JP 2015220369 A5 JP2015220369 A5 JP 2015220369A5 JP 2014103554 A JP2014103554 A JP 2014103554A JP 2014103554 A JP2014103554 A JP 2014103554A JP 2015220369 A5 JP2015220369 A5 JP 2015220369A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chemical
gap
wafer
liquid
discharged
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014103554A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6258122B2 (ja
JP2015220369A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2014103554A priority Critical patent/JP6258122B2/ja
Priority claimed from JP2014103554A external-priority patent/JP6258122B2/ja
Publication of JP2015220369A publication Critical patent/JP2015220369A/ja
Publication of JP2015220369A5 publication Critical patent/JP2015220369A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6258122B2 publication Critical patent/JP6258122B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2014103554A 2014-05-19 2014-05-19 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 Active JP6258122B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014103554A JP6258122B2 (ja) 2014-05-19 2014-05-19 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014103554A JP6258122B2 (ja) 2014-05-19 2014-05-19 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015220369A JP2015220369A (ja) 2015-12-07
JP2015220369A5 true JP2015220369A5 (enExample) 2017-01-19
JP6258122B2 JP6258122B2 (ja) 2018-01-10

Family

ID=54779506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014103554A Active JP6258122B2 (ja) 2014-05-19 2014-05-19 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6258122B2 (enExample)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20180096879A1 (en) * 2016-10-05 2018-04-05 Lam Research Ag Spin chuck including edge ring
JP6986917B2 (ja) * 2017-10-04 2021-12-22 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置
WO2020050009A1 (ja) * 2018-09-06 2020-03-12 株式会社荏原製作所 基板処理装置
JP7291030B2 (ja) * 2018-09-06 2023-06-14 株式会社荏原製作所 基板処理装置
JP7169865B2 (ja) * 2018-12-10 2022-11-11 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JP2021077702A (ja) 2019-11-06 2021-05-20 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法および基板処理装置
TWI747580B (zh) * 2020-10-28 2021-11-21 辛耘企業股份有限公司 晶圓蝕刻裝置
CN114446815A (zh) * 2020-10-30 2022-05-06 辛耘企业股份有限公司 晶圆蚀刻装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002075943A (ja) * 2000-08-29 2002-03-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法
JP2003303762A (ja) * 2002-04-11 2003-10-24 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
KR20080082846A (ko) * 2007-03-09 2008-09-12 (주)이노루트 기판 박판화 방법, 기판 박판화 장치 및 이를 포함하는기판 박판화 시스템
JP2009218249A (ja) * 2008-03-07 2009-09-24 Seiko Epson Corp ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法
JP5088335B2 (ja) * 2009-02-04 2012-12-05 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板処理システム
JP5449953B2 (ja) * 2009-09-29 2014-03-19 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JP5827593B2 (ja) * 2012-05-11 2015-12-02 東京エレクトロン株式会社 可動ノズルおよび基板処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015220369A5 (enExample)
KR102356217B1 (ko) 기판 베벨 및 이면 보호를 위한 장치
JP6118758B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP6341035B2 (ja) 基板液処理方法、基板液処理装置、及び記憶媒体
JP2016066740A5 (enExample)
JP2014209605A5 (enExample)
JP2016082177A5 (enExample)
JP6224515B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
TWI637434B (zh) 基板處理方法及基板處理裝置
JP2015008273A5 (enExample)
CN109116688A (zh) 基板处置装置和基板处置方法
JP6392046B2 (ja) 基板処理装置
JP2013206993A5 (enExample)
JP6755962B2 (ja) 液処理方法及び液処理装置
KR102354226B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 부착물 제거 방법 및 기억 매체
JP2013153141A5 (enExample)
TWI484053B (zh) 一種去除遮罩上有機或髒汙的裝置
JP2019125715A5 (enExample)
KR20180034229A (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
JP2012209285A (ja) 基板処理装置
JP6027523B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録した記録媒体
KR102387540B1 (ko) 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법
JP2017143291A (ja) 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
CN204857677U (zh) 一种晶圆旋转湿法处理装置
JP2017211681A5 (enExample)