JP2015187731A - マスク及びこれを含む光学フィルタ製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基材フィルムにパターンが均一に形成されることができ、製品の品質が向上し、基材フィルムの特性を正確に具現する、ロールツーロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）工程に使用されるマスク及び光学フィルタ製造装置を提供する。
【解決手段】ロールに巻き取られる基材フィルム５０と、露光のために光を発生させる光源１０と、光源の出射側に設置され、光源で発生した光を偏光させる偏光板３０と、基材フィルムにパターンを形成し、所定の厚さ及び幅を有するように開口された多数個のガイドスリットが形成されるマスク４０で形成し、基材フィルム５０の全面にわたって光量を均一に照射する。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルタ製造装置に関し、より詳細には、ロールツーロール工程で偏光素子を利用して液晶表示素子の配向膜や硬化型液晶を使用した光学基材フィルムの配向膜などを光配向させるのに用いられるマスク及びこれを含む光学フィルタ製造装置に関する。

最近、液晶表示素子や視野角補償基材フィルム層の配向膜に配向能を付与する方式として、配向膜に一定波長の偏光光を照射して配向させる光配向技術が広く使用されている。従来、光配向膜用の偏光光照射装置として、韓国特許公開第２００６−００５３１１７号、韓国特許公開第２００９−０１１２５４６号などでは、線形状の光源である棒形状ランプにワイヤグリッド偏光素子を組み合わせる方法が行われていた。
このような光配向技術は、液晶パネルの大型化とともに大型化されていて、これにより、光配向膜に偏光光を照射する光照射装置の光照射領域も大面積化、高照度化している。

このように広い面積を高い照度で照射するためには、光照射装置の光源もそれほど大型化されなければならないが、配向を決定する偏光の方向が入射光の入射角に依存するので、光源が大型化されれば、光照射領域のうち入射角の不均一が発生するようになり、これにより、偏光軸の不均一を引き起こすようになり、照射領域別に配向方向が均一ではなく、所望しない方向に配向される問題をもたらす。

また、ロールツーロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）工程の場合、光照射領域が曲面である場合が多いが、この場合、照射領域が増えるほど、曲面による光照射領域内の偏光軸の不均一問題が発生するようになる。

大面積に均一な偏光分布を有するためには、高度に平行化された光を偏光素子に入射させなければならないが、大面積に対応した高度で平行な光を作ることは、大型化装置が必要であり、装置内部の光路の長さが長くなり、光の強さが低下するので、処理時間が長くなり、生産性の低下をもたらすという問題がある。これにより、平行光を形成するためには、大型化装置なしに光学特性を具現することが難しく、そのため、ロールツーロール工程が不可能となり、生産性が顕著に低下する結果をもたらす。

したがって、本発明の目的は、前述したような従来技術の問題点を解決するためになされたもので、大面積を均一に露光することができながらも、高度で平行な光の照射が可能であり、均一な配向性能を付与することができ、また、大面積の光配向を効率的に行うことができるマスク及びこれを含む光学フィルタ製造装置を提供することにある。

本発明の他の目的は、高速のロールツーロール工程で簡単な構成を通じてパターンの均一度を向上させ、直進度を高めることができるマスク及びこれを含む光学フィルタ製造装置を提供することにある。

本発明の目的は、以上で言及した目的に限定されず、言及していない他の技術的課題は、下記の記載から本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に明確に理解されることができる。

上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、本発明によるマスクは、基材フィルムにパターンを形成するロールツーロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）工程に使用されるマスクにおいて、前記マスクには、所定の厚さ及び幅を有するように開口された多数個のガイドスリットが形成されることを特徴とする。

前記ガイドスリットは、下記数式を満たすように設計されることを特徴とする。
［数式］
ｔ≧５ａ
（ｔ：ガイドスリットの厚さ、０＜ａ≦５０ｍｍ）

前記ガイドスリットは、下記数式を満たすように設計されることを特徴とする。
［数式］
ｂ＝ｗａ／ｔ≦単位画素幅の１／５
（ｔ：ガイドスリットの厚さ、ａ：マスクと基材フィルムの間隔）

前記ガイドスリットの内壁は、下部に行くほど、幅が狭く形成されることを特徴とする。

前記ガイドスリットの内壁には、光の直進度を高めるための全反射コーティングが行われることを特徴とする。

前記ガイドスリットは、一定の間隔を持って多数列で配置されることを特徴とする。

互いに異なる列に位置するガイドスリットは、互いに交互に配置されることを特徴とする。

また、本発明の他の態様によれば、本発明による光学フィルタ製造装置は、ロールツーロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）工程に使用されるロールと；前記ロールに巻き取られる基材フィルムと；露光のために光を発生させる光源と；前記光源の出射側に設置され、前記光源で発生する光を偏光させる偏光板と；前記基材フィルムにパターンを形成し、所定の厚さ及び幅を有するように開口された多数個のガイドスリットが形成されるマスクと；を含むことを特徴とする。

前記基材フィルムの全面積に対して均一に光が照射され得るように集光する集光板をさらに含むことを特徴とする。

前記光源は、ショットアーク型放電ランプであることを特徴とする。

前記光源は、ＵＶランプであり、前記ＵＶランプと基材フィルムとの間には、冷却装置が設置されることを特徴とする。

前記光源は、多数個が多数列で配置されるが、互いに異なる列に位置する光源は、一部が互いに重畳するように配置されることを特徴とする。

前記互いに異なる列に位置する光源は、２／３が重畳するように配置されることを特徴とする。

本発明では、直進化された光を使用する光源としてショットアーク型放電ランプなどを使用することによって、大面積を均一に露光することができながらも、高度で平行な光の照射が可能であり、均一な配向性能を付与することができ、大面積の光配向を効率的に行うことができるという効果がある。

マスクに多数個のガイドスリットが形成されていて、基材フィルムとマスクが所定の間隔で離隔された状態でも光の直進度が向上するので、パターンの均一度が良好であり、製造工程が単純化されることによって、生産性及び工程効率が向上するという効果がある。

本発明の一実施例による光学フィルタ製造装置を示す構成図である。 本発明の一実施例による光学フィルタ製造装置の光源配置を示す構成図である。 本発明によるマスクの形状を概略的に示す斜視図である。 本発明によるマスクの他の例の形状を概略的に示す斜視図である。 本発明によるマスクのガイドスリットの厚さと幅、及びガイドスリットと基材フィルムの間隔の間の関係を示す構成図である。 マスクにガイドスリットを形成しない場合と形成した場合のパターン形状を比較した写真である。 マスクにガイドスリットを形成しない場合と形成した場合のパターン形状を比較した写真である。 マスクと基材フィルムの間隔によるパターン形状を比較した写真である。 マスクと基材フィルムの間隔によるパターン形状を比較した写真である。 マスクと基材フィルムの間隔によるパターン形状を比較した写真である。 マスクと基材フィルムの間隔によるパターン形状を比較した写真である。 本発明による立体映像表示装置の表示パネルの画素配置を例示的に示す模式図である。

以下では、本発明によるマスク及びこれを含む光学フィルタ製造装置の一実施例を添付の図面を参照して詳細に説明する。

図１を参照すれば、本発明による光学フィルタ製造装置１において光を照射する装置は、大きく、露光のために光を照射する光源１０と、基材フィルム５０の全面積に対して均一に光が照射され得るように集光する集光板２０と、光源１０の出射側に設置される偏光板３０と、基材フィルム５０にパターンを形成するためのマスク４０とを含む。また、光源１０で照射された光は、ロールツーロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）工程のロール６０に巻き取られた基材フィルム５０に照射される。以下では、それぞれの構成要素について図面を参照して説明する。

まず、光源１０は、配向性能を付与するためのものであって、直進化された光を照射することができることが必要である。後述するが、マスク４０を通じて基材フィルム５０に光を照射する過程でマスク４０とロール６０との間隔が遠くなるほどパターンが正確で且つ均一に形成されにくい。また、マスク４０とロール６０との間隔が遠くなるほどパターン幅も不均一であり、基材フィルム５０にむらが生ずるなどの問題があるので、本実施例では、直進化された光を照射する光源１０が要求される。

勿論、以下に説明するように、マスク４０とロール６０との間隔が一定に維持され得るように設計されたら、直進化された光源１０を使用する必要がなく、棒形状のランプや既存の高圧水銀重合ランプのように光が広がって行く光源１０の使用も可能である。しかし、マスク４０とロール６０との間隔を一定距離だけ最小化しなければ、パターンが不均一に形成される問題が発生し得るので、直進化された光を使用することが好ましい。

直進化された光を使用する光源１０として、ＵＶランプの一種であるショットアーク型放電ランプを使用することができる。ショットアーク型放電ランプ以外の高圧水銀ランプなどの放電ランプを使用すれば、光が全方向に広がるので、基材フィルム５０に光が照射されるとき、垂直方向に照射されなければ、微小領域間に異なる配向を形成しようとする場合、領域別に配向方向が変わるという問題が発生することができる。偏光光の照射時に光が垂直方向に照射される直進化された光を使用することは、マスク４０と基材フィルム５０の密着可否及び微小領域間の境界を決定づけることができる重要な要素であるので、ショットアーク型放電ランプを使用すれば、マスク４０と基材フィルム５０との間隔に余裕が生ずるだけでなく、光源１０の光量が高圧水銀ランプより大きいため、ライン作業時に生産性の向上をもたらすことができる。

また、ＵＶ硬化用ランプとしては、発光される波長によって中圧あるいは高圧水銀紫外ランプ、メタルハライドランプまたはガリウムＵＶランプなどが使用され、液晶及び配向膜を硬化するには、約１００ｍＷ／ｃｍ^２以上の照度を有する高圧水銀高圧水銀紫外ランプが通常的に使用され、紫外線照射をするとき、液晶層の表面温度が液晶温度範囲以内となるように基材フィルムと紫外線ランプとの間にコールドミラー（ｃｏｌｄ ｍｉｒｒｏｒ）やその他の冷却装置を設置することもできる。

一般的に使用する高圧水銀ランプの場合、石英ガラス製の発光管内に高純度の水銀と不活性ガスが封入されたものであって、３６５ｎｍをメイン波長として使用しており、ランプ形態によって全面散乱される特性を有している。その他、棒形状のランプの代わりに、ランプから光を反射する断面に卵円形である筒形状の集光鏡を備えたランプ（直進光ランプ）を使用することもでき、ＬＥＤやＬＤを多数個配置し、光源１０として使用することもできる。

一方、従来の技術によれば、光源が幅方向に多数個が配置され、基材フィルムの移動方向に沿って平行に多数列で配置される。このように光源が配置されれば、一部の光量の差異に起因して配向方向が変わるか、帯形状のむらが発生するおそれがある。

したがって、本実施例では、図２のように、互いに異なる列に位置する光源１０の間に一部が互いに重畳するように配置した。このように光源１０が配置される場合には、光量の不均一によるむら及び光軸の不均一を無くすことができる。また、前記光源１０は、図２のように、互いに異なる列に位置する光源１０の間に約２／３が重畳することが好ましい。勿論、前述した数値に限定されるものではなく、互いに異なる列に位置する光源１０の間に１／２など多様な比率で重畳することができる。

次に、集光板２０は、光量を均一に基材フィルム５０に照射するために設置される部分である。放電ランプである光源１０を使用しても、放電ランプに備えられるランプ笠によって光が照射される部分に光量の不均一が存在することができる。言い換えれば、ランプ笠に反射し、基材フィルム５０に照射される光量と直接基材フィルム５０に照射される光量に差異があるので、パターンが不均一に形成されることができる。したがって、これを解決するために、光源１０の前端に集光板２０を設置し、光が基材フィルム５０の全面積に対して均一に照射され得るようにする。

偏光板３０は、偏光のために設置される部分であって、通常的にブリュースター角で配置されたガラス板や、ワイヤグリッド偏光板などが使用されることができる。

次に、図３を参照すれば、本発明によるマスクは、所定の厚さで開口された多数個のガイドスリット４２が形成される。前記ガイドスリット４２は、マスク４０の一方に沿って多数個が平行に形成されるものであって、光の直進度を高めて、パターンの均一度を向上させる。

具体的に説明すれば、ロールツーロール工程では、パターン形成のための露光時に基材フィルム２０が曲面に沿って移動するベルトに沿って移送される。実質的にロールツーロール工程で、パターン形成時に基材フィルム２０とパターン形成のためのマスク１０は、所定の間隔を持って進行するが、マスク１０と基材フィルム２０との間隔によって偏光が所望の位置に正確に照射されずに、それにより、パターンの正確性が低下するという問題がある。

また、マスクを使用する光学フィルタを製造する場合、マスク１０が、配向膜が形成された基材フィルム２０から一定の距離をもって位置するが、この場合、照射される偏光がマスク１０と基材フィルム２０との間を進行しながら拡散することができる。したがって、所望の領域全部に均一な強さの偏光を照射することが難しく、その結果、配向膜パターンの境界部が不明確になり、第１光配向領域と第２光配向領域との間の境界面に配向が形成されない未配向領域が発生するという問題がある。

これを解決するために、本実施例では、マスク４０に所定のガイドスリット４２を形成したものである。このようにガイドスリット４２が形成されていて、これにより、光が照射されることによって光の直進度が向上し、基材フィルム５０に形成されるパターンの均一度が高くなる。言い換えれば、マスク４０と基材フィルム５０が所定間隔で離隔された状態でも光の直進度が向上することができるという利点がある。

一方、図３に示されたガイドスリット４２は、１列だけで配置されるものではなく、多数の列で配置されることができる。また、多様なパターンを形成するために多数の列で配置されたガイドスリット４２は、互いに交互に配置されることができる。例えば、図４のように、１列のガイドスリット４２が形成された部分は、２列のガイドスリット４２が形成されていない部分と延長線上に配置されるように形成されることができる。

ここで、光の直進度を向上させてパターンを均一に形成するためには、前述したガイドスリット４２の厚さｔ、幅ｗ及びマスク４０と基材フィルム５０の間隔ａ（以下、間隔ａという）を適切に設計することが重要である。具体的に説明すれば、マスク４０を基材フィルム５０に付着させた状態で露光が行われる場合、ガイドスリット４２の厚さｔが小さくなっても関係ないが、ロールツーロール工程でパターンを形成するためには、間隔ａがあるしかなく、ガイドスリット４２の厚さｔが増加すれば、間隔ａがある程度あっても、パターン形成が可能である。

このようにガイドスリット４２の厚さｔを厚くすれば、間隔ａを多少大きくしても、パターン形成が可能であるという長所がある。しかし、無条件にガイドスリット４２の厚さｔを大きくすれば、光の透過度が低下し、光量の低下に起因して配向が良好な行われない短所があるので、適切にガイドスリット４２の厚さｔを設計することが必要である。

一方、図５には、本発明によるマスクのガイドスリットの厚さと幅、及びガイドスリットと基材フィルムとの間隔の関係を示す構成図が示されている。

これを参照すれば、ガイドスリット４２の厚さｔと幅ｗ、及びガイドスリット４２と基材フィルム５０の間隔ａが表示されている。また、ガイドスリット４２の上端の一側から対角方向に下端の一側に連結して延長した線を第１ベースラインＬ１と定義する。具体的に、第１ベースラインＬ１は、ガイドスリット４２の左側の上端から右側の下端を連結するように延長した線である。また、ガイドスリット４２の一方の側面に沿って延長した線を第２ベースラインＬ２と定義する。

以上で定義した第１ベースラインＬ１と第２ベースラインＬ２が基材フィルム５０と会う地点間の距離を最大離脱距離ｂと定義し、図５に表示した。すなわち、最大離脱距離ｂというのは、ガイドスリット４２を通過する光が直進経路を脱して基材フィルム５０に照射される最大距離と見られる。すべての光がガイドスリット４２の側面と平行に通過し、基材フィルム５０のパターン領域Ｓに照射されることが好ましいが、ロールツーロール工程の特性上、図５の第１ベースラインＬ１のように、パターン領域Ｓの外側に照射される場合をも考慮しなければならない。

したがって、本実施例では、このように正常にパターンが形成される部分を脱して照射される光の範囲を最小化し、パターンを均一に具現しようとする。このために、設計仕様を導出した結果、最大離脱距離ｂが立体映像表示装置の単位画素（ｐｉｘｅｌ）幅の１／５以下であることが好ましい。これは、最大離脱距離ｂの値が単位画素幅の１／５を超過すれば、クロストーク（ｃｒｏｓｓｔａｌｋ：他方のチャネルの電気信号によって生ずる一方のチャネルの所望しない信号の発生）が大きく形成される問題があるからである。以上で説明した設計条件を数式で表現すれば次の通りである。

まず、図５の位置関係を通じて比例式を立てれば、下記［数式１］の通りである。

［数式１］
ｔ：ｗ＝（ｔ＋ａ）：（ｗ＋ｂ）

前記［数式１］を最大離脱距離ｂに対して整理すれば、下記［数式２］の通りである。

［数式２］
ｂ＝（ａ／ｔ）＊ｗ

前記［数式２］から最大離脱距離ｂと単位画素幅の関係を数式で表現すれば、次の通りである。

［数式３］
ｂ＝ｗａ／ｔ≦単位画素幅の１／５

以上のように導出された［数式３］によってガイドスリット４２の厚さｔ、幅ｗ及び間隔ａを設定し、［数式３］に代入して計算された最大離脱距離ｂが単位画素幅の１／５以下なら、基材フィルム５０にパターンを特性低下なしに具現することが可能であると見られる。

ここで、単位画素幅は、実際にガイドスリット１２の幅ｗと同一なので、前記［数式３］は、次のように整理されることができる。

［数式４］
ａ／ｔ≦１／５

［数式４］をｔに対して最終的に整理すれば、次の通りである。

［数式５］
ｔ≧５ａ

ここで、間隔ａは、０＜ａ≦５０ｍｍ範囲内で設計されることが好ましい。これは、前述した範囲を脱するように間隔ａが設計される場合には、正常なパターンを具現しにくいからである。前記間隔ａは、例えば、０．００１ｍｍ、０．０１ｍｍ、０．１ｍｍまたは１ｍｍ以上に設計されるか、４０ｍｍ、３０ｍｍ、２０ｍｍ以下などに設計されることができ、例示した上限線及び下限線の多様な組合で行われることができる。

一方、図６ａ及び図６ｂには、マスクにガイドスリットを形成しない場合と形成する場合のパターン形状を比較した写真が示されている。図６ａは、マスクにガイドスリットを形成しない場合であり、図６ｂは、ガイドスリットを形成する場合である。

これを参照すれば、同一の条件（マスクと基材フィルムとの間隔が同一）の下でマスクにガイドスリットを形成する場合（図６ｂ）が、ガイドスリットを形成しない場合（図６ａ）に比べてパターンが明確で且つ均一に形成されることを確認することができる。したがって、ロールツーロール工程に使用されるマスクにガイドスリットを形成することは、パターンの均一度の向上に大きく寄与するという点は、図６ａ及び図６ｂを通じて裏付けられる。

次に、図７ａ〜図７ｄには、ガイドスリットがマスクと基材フィルムの間隔によるパターン形状を比較した写真が示されている。図７ａから図７ｄに行くほど、マスク４０と基材フィルム５０の間隔が大きくなったことを順次に示すものである。

これを参照すれば、マスク４０と基材フィルム５０の間隔の小くなるほど、パターンが明確で且つ均一に形成され、間隔が大きくなるほど、パターンが正常に形成されないことを確認することができる。また、間隔が極めて大きくなった場合（図７ｄ）は、パターンがほとんど消えることを確認することができる。

前記［数式２］によれば、間隔ａが大きくなるほど、最大離脱距離ｂが大きくなるので、最大限間隔ａを減らすことによって、最大離脱距離ｂを小さくして、均一なパターン形成が可能である。

また、ガイドスリット４２の幅ｗは、立体映像フィルタのパターン幅と同一に設計されることができる。例えば、マスク４０を通じてパターンが形成された光学フィルタが立体映像表示装置の光学フィルタなら、ガイドスリット４２の成すピッチは、前記立体映像表示装置の表示パネルで左眼用映像または右眼用映像を生成する単位画素（ｐｉｘｅｌ）の幅の２倍であることができる。前述したように、立体映像表示装置は、例えば、図８に示されたように、左眼用映像を生成するための単位画素（図８のＵＬ）及び右眼用映像を生成するための単位画素（図８のＵＲ）がストライプ状に交互に配置されている表示パネルを含むことができるが、本発明のフィルムが上記のような立体映像表示装置に適用される光学フィルタに使用される場合、上述したピッチＰは、前記単位画素（ＵＬまたはＵＲ）の幅（図８のＷ１またはＷ２）の２倍の値と同一の数値を有するのが好ましい。

本発明において前述した「同一」は、本発明の効果を損傷させない範囲での実質的同一を意味するもので、例えば、製造誤差（ｅｒｒｏｒ）または偏差（ｖａｒｉａｔｉｏｎ）などを勘案した誤差を含むものである。すなわち、前記ピッチが単位画素の幅の２倍と同一であるというのは、約±６０μｍ以内の誤差、好ましくは約±４０μｍ以内の誤差、より好ましくは約±２０μｍ以内の誤差を含むものである。

上記で、また、ガイドスリット４２間の間隔は、立体映像表示装置の表示パネルにおいて左眼用映像または右眼用映像を生成する単位画素の幅（例えば、図８のＷ１またはＷ２）と同一の数値を有することが好ましい。上記で単位画素の幅と同一の数値は、前述した実質的な同一を意味し、例えば、約±３０μｍ以内の誤差、好ましくは約±２０μｍ以内の誤差、より好ましくは約±１０μｍ以内の誤差を含むものである。本発明のマスク４０は、前記間隔をこのように調節し、さらに高精度の配向パターンを有し、未配向領域が最小化される光学フィルタを形成することができる。

また、本発明によるマスク４０は、ロールツーロール工程に使用されるロールの曲率半径に相当して、マスク４０自体が、平面でなく、曲面形状を有してもよい。このようにマスク４０がロールと対向する面が曲面で形成されれば、マスク４０とロールとの間隔が一定に維持され、基材フィルム５０に均一なパターンを形成することができるようになる。また、前記マスク４０においてロールと対向する面は、ロールと同一の曲率を有する曲面が形成されることが好ましい。

また、本発明によるマスク４０は、光の直進度を向上させるためにガイドスリット４２の形状を変更してもよい。すなわち、図３では、ガイドスリット４２の対向する内壁が互いに平行に形成されたが、下部に行くほどその幅が細くなるように形成してもよい。

また、本発明によるマスク４０は、ガイドスリット４２の内壁に光の全反射のための物質がコーティングされ、光の直進度を向上させるように構成されてもよい。

本発明の権利範囲は、前述した実施例に限定されず、請求範囲に記載された内容により定義され、本発明の技術分野における通常の知識を有する者が請求範囲に記載された権利範囲内で多様な変形と変更を行うことができることは自明である。

１０ 光源
２０ 集光板
３０ 偏光板
４０ マスク
４２ ガイドスリット
５０ 基材フィルム
６０ ロール

Claims (19)

1. 基材フィルムにパターンを形成するロールツーロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）工程に使用されるマスクにおいて、
   前記マスクには、所定の厚さ及び幅を有するように開口された複数個のガイドスリットが形成されることを特徴とするマスク。
2. 前記ガイドスリットは、下記数式を満たすように設計されることを特徴とする請求項１に記載のマスク。
   ［数式］
   ｔ≧５ａ
   （ｔ：ガイドスリットの厚さ、０＜ａ≦５０ｍｍ）
3. 前記ガイドスリットは、下記数式を満たすように設計されることを特徴とする請求項１または２に記載のマスク。
   ［数式］
   ｂ＝ｗａ／ｔ≦単位画素幅の１／５
   （ｔ：ガイドスリットの厚さ、ａ：マスクと基材フィルムの間隔）
4. 前記ガイドスリットの内壁は、下部に行くほど、幅が狭く形成されることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載のマスク。
5. 前記ガイドスリットの内壁には、光の直進度を高めるための全反射コーティングが行われることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載のマスク。
6. 前記ガイドスリットは、一定の間隔を持って複数列が配置されることを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載のマスク。
7. 互いに異なる列に位置するガイドスリットは、互いに交互に配置されることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載のマスク。
8. ロールツーロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）工程に使用されるロールと；
   前記ロールに巻き取られる基材フィルムと；
   露光のために光を発生させる光源と；
   前記光源の出射側に設置され、前記光源で発生する光を偏光させる偏光板と；
   前記基材フィルムにパターンを形成し、所定の厚さ及び幅を有するように開口された複数個のガイドスリットが形成されるマスクと；を含むことを特徴とする光学フィルタ製造装置。
9. 前記基材フィルムの全面積に対して均一に光が照射され得るように集光する集光板をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の光学フィルタ製造装置。
10. 前記光源は、ショットアーク型放電ランプであることを特徴とする請求項８または９に記載の光学フィルタ製造装置。
11. 前記光源は、ＵＶランプであり、前記ＵＶランプと基材フィルムとの間には、冷却装置が設置されることを特徴とする請求項８から１０の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。
12. 前記光源は、複数個が複数列に配置されて、互いに異なる列に位置する光源は、一部が互いに重畳するように配置されることを特徴とする請求項８から１１の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。
13. 前記互いに異なる列に位置する光源は、２／３が重畳するように配置されることを特徴とする請求項１２に記載の光学フィルタ製造装置。
14. 前記ガイドスリットは、下記数式を満たすように設計されることを特徴とする請求項８から１３の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。
    ［数式］
    ｔ≧５ａ
    （ｔ：ガイドスリットの厚さ、０＜ａ≦５０ｍｍ）
15. 前記ガイドスリットは、下記数式を満たすように設計されることを特徴とする請求項８から１４の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。
    ［数式］
    ｂ＝ｗａ／ｔ≦単位画素幅の１／５
    （ｔ：ガイドスリットの厚さ、ａ：マスクと基材フィルムの間隔）
16. 前記ガイドスリットの内壁は、下部に行くほど、幅が狭く形成されることを特徴とする請求項８から１５の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。
17. 前記ガイドスリットの内壁には、光の直進度を高めるための全反射コーティングが行われることを特徴とする請求項８から１６の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。
18. 前記ガイドスリットは、一定の間隔を持って複数列が配置されることを特徴とする請求項８から１７の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。
19. 互いに異なる列に位置するガイドスリットは、互いに交互に配置されることを特徴とする請求項８から１８の何れか１項に記載の光学フィルタ製造装置。