JP2015182025A - 塗布層の硬化方法及び硬化装置並びにその硬化方法を用いた積層フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】０．１〜１０．０％の酸素濃度領域の全てにおいて混合ガスを精度良く目標酸素濃度に調整できる塗布層の硬化方法及び硬化装置並びにその硬化方法を用いた積層フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】紫外線照射装置１０の照射面１６Ａとウエブ１２上に形成された塗布層との間の紫外線照射空間１８に、圧縮エアと窒素ガスとをそれぞれの配管から合流させて０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の目標酸素濃度に混合した混合ガスを供給する混合ガス供給工程を備え、混合ガス供給工程では、酸素含有ガスの配管に呼び径の異なる複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａを直列又は並列に設け、混合する酸素含有ガスの流量調整を、酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａのうち使用するバルブを選択することにより、酸素濃度領域の全ての領域において、混合ガスを目標酸素濃度に対して?５％以内に調整する。【選択図】図２

Description

本発明は塗布層の硬化方法及び硬化装置並びにその硬化方法を用いた積層フィルムの製造方法に係り、特に光硬化性の塗布層を紫外線照射により硬化する際に紫外線照射空間に酸素含有の混合ガスを供給する技術に関する。

近年、液晶表示装置に用いられる光学フィルムとしては、液晶セルに位相差板として使用される光学補償フィルムや、液晶表示装置への映り込み、眩しさ等を防止する反射防止フィルム、防眩性フィルム等の光学フィルムが代表的である。

これらの光学フィルムは、異なる性質の塗布層を複数積層することによって目的の機能を向上させたり、あるいは１つの光学フィルムに各種の機能を備えたりすることができる。例えば、反射防止フィルムの場合、連続搬送される帯状の支持体（例えば可撓性のプラスチックフィルム）の表面に塗設したハードコート層の上に、屈折率の異なる複数の反射防止層を塗設することによって耐擦傷性の高い反射防止フィルムを製造することができる。

ハードコート層は光硬化性塗布層に紫外線を照射することにより硬化して形成する方法が一般的である。この硬化には紫外線（ＵＶ）照射装置が採用されることが多い。具体的には、アクリル基など紫外線硬化性の官能基を持つモノマーを含有する塗布液を支持体に塗布し光硬化性塗布層を形成する。その後、光硬化性塗布層を紫外線により重合させて高分子化することによりハードコート層が形成される。ここで、光硬化性塗布層へ紫外線照射を行う際に酸素が存在すると、重合開始剤より発生するラジカルを消失してしまう。

したがって、紫外線照射して光硬化性塗布層の硬化を促進するには特許文献１のように、紫外線照射空間の酸素濃度をできるだけ下げることが重要になる。具体的には、紫外線照射空間をケーシングで覆い、ケーシングの中に不活性ガス（例えば窒素ガス）を導入して紫外線照射空間の酸素濃度をできるだけ小さくすることが好ましいとされている。

しかしながら、このように光硬化性の塗布層を硬化させてハードコート層を形成すると、表面の残存二重結合量が非常に少ないために、ハードコート層の上に塗設する別の塗布層（例えば反射防止層）を積層させる場合には密着力が低下する。この結果、積層した後で反射防止層がハードコート層から剥離し易くなるという問題がある。

例えば、特許文献２では、バルブにより流量調整した圧縮エアとバルブにより流量調整した窒素ガスとをそれぞれの配管から合流させて混合する混合ガス供給装置を設けることによって、紫外線照射空間の酸素濃度を０．０５〜１．０％の酸素濃度領域に制御することを提案している。

このように、紫外線照射空間に供給する混合ガスの酸素濃度によって、光硬化性の塗布層の硬化度合いが異なる。したがって、光硬化性の塗布層に高い硬化度を付与したい場合には供給する混合ガスの酸素濃度を小さくし、低い硬化度を付与したい場合には混合ガスの酸素濃度を大きくする必要がある。

特開平１１−１０４５６２号公報 特開２００６−９５４４２号公報

ところで、紫外線照射空間に供給する混合ガスの目標酸素濃度をどの程度にするかは、塗布層を形成する光硬化性の塗布液処方（硬化成分の種類や量、重合剤の種類等）、塗布層の塗布厚み等によって異なる。即ち、光硬化性塗布層の品種によって設定される最適な目標酸素濃度が異なり、従来に比べて色々な品種に対応する必要が生じている。

このような背景から、混合ガスの酸素濃度領域は特許文献２の０．０５〜１．０％よりも大きな０．１〜１０．０％の酸素濃度領域で精度良く目標酸素濃度に調整できることが必要になってきている。この場合、０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の全ての領域において目標酸素濃度±５％以内のバラツキであれば、光硬化性の塗布層を耐擦傷性と密着性の両方を満足するように硬化することができ、問題ない。

しかしながら、特許文献２で提案されている混合ガス供給装置では、０．１〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域の全てについて精度良く目標酸素濃度に調整することができないという問題がある。特に、酸素濃度領域のうちの低酸素領域では、窒素ガス量に対して圧縮エア量が極端に少ないため、バルブ制御によって目標酸素濃度に精度良く調整することが難しい。圧縮エア操作バルブ方式（ＡＯＶ）を使用しても窒素ガス：圧縮エアの比率が１０：１（酸素濃度２％に相当）程度までが限度であり、低酸素領域において精度良く目標酸素濃度に調整することは難しい。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、０．１〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域の全てにおいて混合ガスを精度良く目標酸素濃度に調整できるので、１つの混合ガス供給装置で精度良く調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができる塗布層の硬化方法及び硬化装置並びにその硬化方法を用いた積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

上述の目的を達成するために、本発明に係る塗布層の硬化方法は、搬送される帯状の支持体上に形成された光硬化性の塗布層に紫外線照射装置の照射面から紫外線を照射して硬化させる塗布層の硬化方法において、照射面と塗布層との間の紫外線照射空間に、酸素含有ガスと不活性ガスとをそれぞれの配管から合流させて０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の目標酸素濃度に混合した混合ガスを供給する混合ガス供給工程を備え、混合ガス供給工程では、酸素含有ガスの配管に呼び径の異なる複数のバルブを直列又は並列に設け、混合する酸素含有ガスの流量調整を、酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて複数のバルブのうち使用するバルブを選択することにより、酸素濃度領域の全ての領域において、混合ガスを目標酸素濃度に対して±５％以内に調整する。

ここで「呼び径」とは、バルブの大きさを表すための呼び寸法を言い、呼び径の数値が小さいほど、バルブ流路の直径が小さいことを意味する。

また、「０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の目標酸素濃度」とは、支持体に形成する光硬化性塗布層の品種によって目標酸素濃度が異なり、０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の範囲から品種に応じて設定する最適な目標酸素濃度を言う。また、「複数のバルブのうち使用するバルブを選択する」とは、例えば呼び径の異なる３個のバルブを設けた場合に１個のバルブを選択することに限定されず、２個を選択する場合、又は３個を選択する場合も含む。

また、最適な目標酸素濃度及び目標酸素濃度とバルブの呼び径との関係は、予め予備試験等により把握することができる。なお、「酸素含有ガス」とは酸素を含むガスを言い、例えば圧縮エアや酸素ガスを言う。

本発明によれば、照射面と塗布層との間の紫外線照射空間に、酸素含有ガスと不活性ガスとをそれぞれの配管から合流させて０．１％〜１０．０％の範囲の目標酸素濃度に混合した混合ガスを供給する混合ガス供給工程において、酸素含有ガスの配管に呼び径の異なる複数のバルブを直列又は並列に設け、混合する酸素含有ガスの流量調整を、酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて複数のバルブのうち使用するバルブを選択することにより、酸素濃度領域の全ての領域において、混合ガスを目標酸素濃度に対して±５％以内に調整するようにした。

即ち、酸素濃度領域における目標酸素濃度が低くなるにしたがって複数のバルブのうち選択するバルブの呼び径を小さくし、目標酸素濃度が高くなるにしたがって複数のバルブのうち選択するバルブの呼び径を大きくする。この場合、例えば呼び径の異なる３個のバルブを設けた場合、酸素濃度領域における目標酸素濃度が低くなるにしたがって３個のバルブのうち呼び径が最も小さいバルブと次に小さいバルブの２個を選択することも含む。同様に、目標酸素濃度が高くなるにしたがって３個のバルブのうち呼び径が最も大きなバルブと次に大きなバルブの２個を選択することも含む。

これにより、０．１％〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域であっても、混合ガスを目標酸素濃度に対して精度良く調整することができるので、１つの混合ガス供給装置で精度良く調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができる。したがって、低い目標酸素濃度が要求される品種から高い目標酸素濃度が要求される品種まで、１つの混合ガス供給装置で各種の光硬化性塗布層の品種に対応できる。

この場合、目標酸素濃度に対するバラツキを±５％以内にする必要があり、±１％以内であれば好ましく、±０．１％以内であれば更に好ましい。

本発明の塗布層の硬化方法において、前述の複数のバルブはニードルバルブであることが好ましい。

本発明は各種のバルブに適用可能であるが、ニードルバルブは少ない流量のバルブ調整に向いており、混合ガスに対する混合比率の小さな酸素含有ガスの流量調整に呼び径の異なる複数のニードルバルブのうち使用するバルブを選択することで、広範囲な酸素濃度領域であっても一層精度良く目標酸素濃度に調整することができる。

本発明の塗布層の硬化方法において、供給する混合ガスの酸素濃度を測定し、測定した測定値と目標酸素濃度とを対比して測定値が目標酸素濃度±５％以内で推移するように複数のバルブのうち使用中のバルブの開度をフィードバック制御することが好ましい。

このように、呼び径の異なるバルブごとにフィードバック制御の手段を設けることで、広範囲な酸素濃度領域であっても一層精度良く目標酸素濃度に調整することができる。

この場合、ニードルバルブにフィードバック制御を組み合わせれば一層精度を向上できる。

本発明の塗布層の硬化方法において、複数のバルブは配管に直列に配置されているとともに、大きい呼び径のバルブを小さい呼び径のバルブよりも上流側に配置することが好ましい。

これは、複数のバルブのうち使用しないバルブは全開状態にしておく必要がある。したがって、大きい呼び径のバルブを小さい呼び径のバルブよりも上流側に配置することで、上流位置に配置されたバルブ自体によるガス圧力の低下を防止できるので、下流位置に配置されたバルブ制御を精度良く行うことができる。

上述の目的を達成するために、本発明に係る塗布層の硬化装置は、搬送される帯状の支持体上に形成された光硬化性の塗布層に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置と、紫外線照射装置の照射面と塗布層との間の紫外線照射空間に酸素含有ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給する混合ガス供給装置と、を備えた塗布層の硬化装置において、混合ガス供給装置の酸素含有ガスの配管には、流量調整バルブとして呼び径の異なる複数のバルブが直列又は並列に設けられている。

本発明によれば、混合ガス供給装置には、酸素含有ガスの配管に呼び径の異なる複数のバルブが直列又は並列に設けられているので、混合する酸素含有ガスの流量調整を、酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて複数のバルブのうち使用するバルブを選択することによって、酸素濃度領域の全ての領域において、混合ガスを目標酸素濃度に対して±５％以内に調整することができる。

これにより、０．１％〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域であっても、混合ガスを目標酸素濃度に対して精度良く調整することができるので、１つの混合ガス供給装置で精度良く調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができる。したがって、低い目標酸素濃度が要求される品種から高い目標酸素濃度が要求される品種まで、１つの混合ガス供給装置で各種の光硬化性塗布層の品種に対応できる。

本発明においては、複数のバルブはニードルバルブであることが好ましい。

また、本発明においては、供給する混合ガスの酸素濃度を測定する酸素濃度計と、測定した測定値と目標酸素濃度とを対比して測定値が目標酸素濃度±５％以内で推移するように複数のバルブのうち使用中のバルブの開度を制御するフィードバック制御手段と、を備えることが好ましい。これにより、広範囲な酸素濃度領域であっても一層精度良く目標酸素濃度に調整することができる。

また、本発明においては、複数のバルブは配管に直列に配置されているとともに、大きい呼び径のバルブが小さい呼び径のバルブよりも上流側に配置されていることが好ましい。これにより、下流位置に配置された呼び径の小さなバルブのバルブ制御を精度良く行うことができる。

上述の目的を達成するために、本発明に係る積層フィルムの製造方法は、搬送される帯状の支持体上に塗設された光硬化性の塗布層に紫外線照射装置の照射面から紫外線を照射して光硬化性の塗布層を硬化させる硬化工程と、硬化後の光硬化性の塗布層の上に別の塗布層を塗設して積層する積層工程と、を少なくとも含む積層フィルムの製造方法において、硬化工程では、照射面と塗布層との間の紫外線照射空間に、酸素含有ガスと不活性ガスとをそれぞれの配管から合流させて０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の目標酸素濃度に混合した混合ガスを供給する混合ガス供給工程を備え、混合ガス供給工程では、酸素含有ガスの配管に呼び径の異なる複数のバルブを直列又は並列に設け、混合する酸素含有ガスの流量調整を、酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて複数のバルブのうち使用するバルブを選択することにより、酸素濃度領域の全ての領域において、混合ガスを目標酸素濃度に対して±５％以内に調整する。

このように、本発明の塗布層の硬化方法を積層フィルムの製造方法に組み込むことによって、光硬化性塗布層に要求される最適な目標酸素濃度が広範囲に異なる場合であっても、精度良く目標酸素濃度に調整することができる。これにより、１つの混合ガス供給装置で調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができるので、光硬化性の塗布層の塗布液処方や塗布厚みに関係なく耐擦傷性と密着性とを満足する積層フィルムを製造することが可能となる。

本発明の塗布層の硬化方法及び硬化装置によれば、０．１〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域の全てにおいて混合ガスを精度良く目標酸素濃度に調整できるので、１つの混合ガス供給装置で精度良く調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができる。

したがって、本発明の積層フィルムの製造方法によれば、耐擦傷性と密着性の両方を満足する上で低い目標酸素濃度が要求される品種から高い目標酸素濃度が要求される品種まで、１つの混合ガス供給装置で各種の光硬化性塗布層の品種に対応できる。したがって、光硬化性塗布層の塗布液処方や塗布厚みに関係なく耐擦傷性と密着性との両方を満足する積層フィルムを製造することが可能となる。

本発明の実施の形態の硬化装置における紫外線照射装置の側面図 本発明の実施の形態の硬化装置における混合ガス供給装置の構成図 呼び径の異なる複数のニードルバルブを並列に配置した構成図 呼び径の異なる複数のニードルバルブにフィードバック制御手段を設けた構成図 積層フィルムの製造方法におけるハードコート層の製造ラインの一例を示す全体構成図 積層フィルムの一例として反射防止フィルムの層構成を説明する説明図 呼び径の異なる複数のニードルバルブにバルブ温度維持手段を設けた構成図 本発明の実施例及び比較例の試験結果を説明する説明図

以下添付図面に従って、本発明に係る塗布層の硬化方法及び硬化装置並びにその硬化方法を用いた積層フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について詳述する。

図１及び図２に示すように、本発明の実施の形態の塗布層の硬化装置５は、主として、紫外線照射装置１０と混合ガス供給装置２２とで構成される。

図１は、紫外線照射装置１０の一例を示す側面図であり、ウエブ１２（支持体）の搬送ラインに沿って２つの紫外線ランプハウス１６、１６を２基直列に配置したものである。なお、紫外線ランプハウス１６の数は２基に限定されるものではなく、１基でもよく、３基以上でもよい。

図１に示すように、紫外線照射装置１０は、連続搬送されるウエブ１２を支持する一対の支持ローラ１４、１４と、一対の紫外線ランプハウス１６、１６と、紫外線ランプハウス１６の照射面１６Ａの四周の周縁よりウエブ１２に向かって延設され、照射面１６Ａとウエブ１２との間に紫外線照射空間１８を形成する張り出し部材２０と、で構成される。

紫外線ランプハウス１６は、ウエブ１２の表面に形成された光硬化性の塗布層に紫外線を照射して塗布層を硬化させる手段であり、支持ローラ１４側の先端面が開放された四角な箱形状を有する。紫外線ランプハウス１６の内部には、紫外線ランプ１６Ｂと反射ミラー１６Ｃが配設される。そして、紫外線ランプハウス１６の開放された先端面に石英ガラスが設けられ、照射面１６Ａを形成する。

支持ローラ１４は、ウエブ１２が紫外線ランプハウス１６の照射面１６Ａに対向配置され、連続搬送されるウエブ１２を巻き掛け支持するローラ部材であり、ウエブ１２の幅と略同一の長さ（本例では、ウエブ１２の幅より若干長い）を有する。

張り出し部材２０は、支持ローラ１４の軸芯方向に沿って対向配置された一対の長手側板２０Ａ、２０Ａと、長手側板２０Ａ、２０Ａの両側（図１の表裏面側）部分を塞ぐ短手側板２０Ｂ、２０Ｂと、一対の紫外線ランプハウス１６、１６の先端面同士の間を塞ぐ天板２０Ｃと、で構成される。また、長手側板２０Ａと短手側板２０Ｂの先端部分は、支持ローラ１４側に略直角に延設される折り返し片２０Ｄ、２０Ｄを有する。この折り返し片２０Ｄ、２０Ｄの長さは、支持ローラ１４に巻き掛け支持されたウエブ１２の表面に接触しない長さであることは言うまでもない。折り返し片２０Ｄ、２０Ｄの先端とウエブ１２の表面との間隔が５ｍｍ以下となっていることが好ましい。これにより、照射面１６Ａと一対の支持ローラ１４に巻き掛け支持されたウエブ１２との間には、張り出し部材２０によって囲まれた略密閉な紫外線照射空間１８が形成される。

張り出し部材２０の材質に特に制限はないが、折り返し片２０Ｄ、２０Ｄの先端部分を１５０°Ｃ以上の耐熱性を有する樹脂材（たとえば、ポリイミドシート）が好ましい。または、１５０°Ｃ以上の耐熱性を有するゴム材（たとえば、シリコーンゴム、フッ素ゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム等）により形成することが好ましい。

このような構成とすることにより、折り返し片２０Ｄ、２０Ｄの先端部分が耐熱性を有する部材で形成されている。さらには、折り返し片２０Ｄ、２０Ｄの先端部分とウエブ１２の表面との間隔が５ｍｍ以下（たとえば、２ｍｍ、３ｍｍ等）となっているので、外気の影響を受けにくく、紫外線照射空間１８の酸素濃度を安定化させ易い。

また、張り出し部材２０の対向する長手側板２０Ａの略中央位置に、後記する混合ガス供給装置２２（図２参照）から供給される混合ガスの供給口２０Ｅ，２０Ｆが一対形成される。

そして、上記の如く構成された紫外線照射装置１０の紫外線照射空間１８に、混合ガス供給装置２２から酸素含有ガスと不活性ガスとで目標酸素濃度に調整された混合ガスが供給される。これにより、紫外線照射装置１０の紫外線照射空間１８に、目標酸素濃度の混合ガスが供給されながら、光硬化性の塗布層に紫外線が照射されて硬化工程が行われる。

図２は、混合ガス供給装置２２の一例を示す構成図であり、紫外線照射装置１０の紫外線照射空間１８に、酸素含有ガスと不活性ガスとをそれぞれの配管から合流させて目標酸素濃度に混合した混合ガスを供給する装置である。

紫外線照射空間１８に供給する混合ガスの目標酸素濃度をどの程度にするかは、光硬化性の塗布層の塗布液処方（硬化成分の種類や量、重合剤の種類等）、塗布層の塗布厚み等によって異なる。即ち、ウエブ１２上に形成される光硬化性の塗布層の品種によって設定される最適な目標酸素濃度は０．１％〜１０．０％の範囲でシフトする。

したがって、混合ガス供給装置２２は０．１％〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域にわたって混合ガスを精度良く目標酸素濃度に調整できることが要求される。

本実施の形態の混合ガス供給装置２２では、酸素含有ガスとして圧縮エアを用い、不活性ガスとして窒素ガスを用いた例で以下に説明する。また、紫外線照射装置１０を空調清浄室２４に設置し、混合ガス供給装置２２を動力室２６に設置した例で説明する。

図２に示すように、混合ガス供給装置２２は、紫外線照射装置１０の上記した２箇所の供給口２０Ｅ、２０Ｆに混合ガスを供給できるように２ラインからなる混合ガス供給ラインによって構成される。そして、混合ガス供給ラインは、窒素ガスライン２８と圧縮エアライン３０とで構成される。

窒素ガスライン２８は、窒素配管３２が途中で第１窒素配管３２Ａと第２窒素配管３２Ｂとに分岐され、窒素ボンベ３４からの窒素ガスは第１窒素配管３２Ａと第２窒素配管３２Ｂとに分流される。分岐前の窒素配管３２には、開閉弁３６、圧力計３８、圧力調整弁４０が設けられ、窒素ガスライン２８に流される窒素ガスの圧力が調整される。

また、第１窒素配管３２Ａ及び第２窒素配管３２Ｂには、それぞれ窒素ボンベ３４側から順に流量調整バルブ４２Ａ，４２Ｂ、流量計４４Ａ，４４Ｂが設けられる。これにより、混合ガスを調製するための窒素ガスの流量が調整される。流量調整バルブ４２Ａ，４２Ｂとしては特に限定されるものではないが、以下にディスクバルブの例で説明する。

そして、第１窒素配管３２Ａは紫外線照射装置１０の第１供給口２０Ｅに連結され、第２窒素配管３２Ｂは第２供給口２０Ｆに連結される。

一方、圧縮エアライン３０は、圧縮エア配管４６が途中で第１圧縮エア配管４６Ａと第２圧縮エア配管４６Ｂとに分岐され、コンプレッサ４８からの圧縮エアは第１圧縮エア配管４６Ａと第２圧縮エア配管４６Ｂとに分流される。分岐前の圧縮エア配管４６には、開閉弁５０、圧力計５２、圧力調整弁５４が設けられ、圧縮エアライン３０に流される圧縮エアの圧力が調整される。

分岐された第１圧縮エア配管４６Ａは第１窒素配管３２Ａの途中に連通され、第２圧縮エア配管４６Ｂは第２窒素配管３２Ｂの途中に連通される。これにより、第１窒素配管３２Ａ（又は第２窒素配管３２Ｂ）を流れる窒素ガスに、第１圧縮エア配管４６Ａ（又は第２圧縮エア配管４６Ｂ）を流れる圧縮エアが合流し、２つのガスが混合される。

そして、第１圧縮エア配管４６Ａには、呼び径の異なる複数の流量調整バルブとしてニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａが直列に設けられる。同様に、第２圧縮エア配管４６Ｂには、呼び径の異なる複数の流量調整バルブとしてニードルバルブ５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂが直列に設けられる。

第１圧縮エア配管４６Ａ及び第２圧縮エア配管４６Ｂに設ける呼び径の異なる流量調整バルブの種類は特に限定されるものではないが、本実施の形態ではニードルバルブの例で説明する。

即ち、第１圧縮エア配管４６Ａには、コンプレッサ４８から順に、第１ニードルバルブ５６Ａ、第２ニードルバルブ５８Ａ，第３ニードルバルブ６０Ａが設けられる。また、第３ニードルバルブ６０Ａの圧縮エアの流れ方向下流側には流量計６２Ａが設けられる。

同様に、第２圧縮エア配管４６Ｂには、コンプレッサ４８から順に、第１ニードルバルブ５６Ｂ、第２ニードルバルブ５８Ｂ，第３ニードルバルブ６０Ｂが設けられる。また、第３ニードルバルブ６０Ｂの圧縮エアの流れ方向下流側には流量計６２Ｂが設けられる。

ここで、「ニードルバルブ」とは、一定の孔が開けられたオリフィスに、ニードルピンを回転させて前後させることにより、オリフィスの孔の開口を調整し、これによりガスや流体の流量を変えるバルブを言う。

そして、上記した硬化装置５の紫外線照射装置１０を用い、光硬化性塗布層の硬化方法を実施するには、混合ガス供給装置２２を用いて混合ガス供給工程を行う。

即ち、第１圧縮エア配管４６Ａ及び第２圧縮エア配管４６Ｂでは、０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて、呼び径の異なる複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうち使用するバルブを選択することによって、酸素濃度領域の全ての領域において、混合ガスを目標酸素濃度に対して±５％以内に調整する。

例えば、第１圧縮エア配管４６Ａ及び第２圧縮エア配管４６Ｂに設ける複数のニードルバルブとしては、第１ニードルバルブ５６Ａ，５６Ｂの呼び径を１５Ａ，第２ニードルバルブ５８Ａ，５８Ｂの呼び径を６Ａ，第３ニードルバルブ６０Ａ，６０Ｂの呼び径を１Ａとすることができる。

この場合、第１ニードルバルブ５６Ａ，５６Ｂ、第２ニードルバルブ５８Ａ，５８Ｂ、第３ニードルバルブ６０Ａ，６０Ｂの呼び径は、圧縮エアの流れ方向から見て、上流側ほど大きな呼び径であることが好ましい。これは、第１圧縮エア配管４６Ａ（又は第２圧縮エア配管４６Ｂ）において、３個のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（又は５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ）のうち使用するニードルバルブを選択する際に、使用しないニードルバルブは全開状態にしておく必要があるためである。例えば、呼び径の一番小さい第３ニードルバルブ６０Ａ（又は６０Ｂ）を使用する場合、大きい呼び径のニードルバルブ５６Ａ、５８Ａ（又は５６Ｂ、５８Ｂ）を小さい呼び径の第３ニードルバルブ６０Ａ（又は６０Ｂ）よりも上流側に配置する。これにより、使用していないニードルバルブによる圧力低下を抑制でき、使用している第３ニードルバルブ６０Ａのバルブ制御を一層精度良く行うことができる。

ただし、３個以上のニードルバルブを直列に配置する場合、例えば上流側から呼び径１５Ａ，１Ａ，１Ａのように同じ呼び径のニードルバルブを配置することもできる。

また、複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）は、図２のように３個に限定するものではなく、２個以上であればよい。

さらには、複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）は、直列に配置することに限定するものではなく、図３に示すように、複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）を並列に配置することもできる。

そして、図２及び図３のように配置した複数のニードルバルブから使用するニードルバルブを次のように選択することができる。

１つ目の選択方法としては、酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて複数のニードルバルブのうち使用するニードルバルブを一つ選択する方法である（以下「バルブ使い分け方法」という）。

２つ目の選択方法は、酸素濃度領域における目標酸素濃度の高低に応じて複数のニードルバルブのうち複数のニードルバルブを選択して組み合わせて行う方法である（以下「バルブ組み合わせ方法」という）。

バルブ使い分け方法は、酸素濃度領域における目標酸素濃度が低くなるにしたがって複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうち呼び径の最も小さな第３ニードルバルブ６０Ａ，６０Ｂを選択する。逆に、酸素濃度領域における目標酸素濃度が高くなるにしたがって複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうち呼び径の最も大きな第１ニードルバルブ５６Ａ，５６Ｂを選択する。

また、バルブ組み合わせ方法は、酸素濃度領域における目標酸素濃度が低くなるにしたがって複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうちうち呼び径の最も小さな第３ニードルバルブ６０Ａ，６０Ｂと、次に呼び径の小さな第２ニードルバルブ５８Ａ，５８Ｂを選択する。

逆に、酸素濃度領域における目標酸素濃度が高くなるにしたがって複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうち呼び径が最も大きな第１ニードルバルブ５６Ａ，５６Ｂと、次に呼び径の大きな第２ニードルバルブ５８Ａ，５８Ｂを選択する。

また、バルブ組み合わせ方法において、図２のように複数のニードルバルブが直列配置されている状態で複数のニードルバルブを選択した場合には、上流側の呼び径が大きいニードルバルブでガス流量を粗調整しておき、下流側の呼び径の小さなニードルバルブで微調整することが好ましい。

図３のように、複数のニードルバルブが並列配置されている状態で複数のニードルバルブを選択した場合には、複数のニードルバルブの開度を適宜調整することが好ましい。

光硬化性の塗布層の品種によって設定される最適な目標酸素濃度、及び目標酸素濃度とニードルバルブの呼び径との関係は、予め予備試験等により把握することができる。また、酸素濃度領域に応じてバルブ使い分け方法を選択するか、あるいはバルブ組み合わせ方法を選択するかについても、予め予備試験等により決定することができる。

これにより、０．１％〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域であっても、混合ガスを精度良く目標酸素濃度に調整することができるので、１つの混合ガス供給装置２２で精度良く調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができる。したがって、低い目標酸素濃度が要求される品種から高い目標酸素濃度が要求される品種まで、１つの混合ガス供給装置２２で各種の光硬化性塗布層の品種に対応できる。

酸素濃度領域の下限値である目標酸素濃度が０．１％の混合ガスを窒素ガスと圧縮エアとの混合により調整するには、窒素ガス流量１００ｍ^３／ｈに対して圧縮エア流量０．１ｍ^３／ｈにする必要がある。また、酸素濃度領域の上限値である目標酸素濃度が１０％の混合ガスを窒素ガスと圧縮エアとの混合により調整するには、窒素ガス流量９０ｍ^３／ｈに対して圧縮エア流量１０ｍ^３／ｈにする必要がある。

即ち、窒素ガス量は、９０ｍ^３／ｈから１００ｍ^３／ｈで小さな流量範囲での流量調整で０．１％〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域をカバーすることができる。しかし、圧縮エア量は、０．１ｍ^３／ｈの下限値から１０ｍ^３／ｈの上限値まで１００倍の流量範囲で流量調整する必要がある。したがって、従来のように、１つのバルブで圧縮エアの流量調整を行った場合には、０．１％〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域のうち目標酸素濃度のバラツキを±５％以内に抑えることができない領域が生じてしまう。

これに対して、本発明の実施の形態の混合ガス供給装置２２のように、第１圧縮エア配管４６Ａ及び第２圧縮エア配管４６Ｂに、呼び径の異なる複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）を設ける。そして、酸素濃度領域（０．１％〜１０．０％）における目標酸素濃度の高低に応じて複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうち使用するニードルバルブを選択することによって、１つの混合ガス供給装置２２で目標酸素濃度に対して±５％以内に精度良く調整することが可能となる。

図４の混合ガス供給装置２２は、呼び径の異なる複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）ごとにフィードバック制御手段を設けるようにしたものである。なお、図４では、呼び径の異なる複数のニードルバルブを直列に配置した場合であるが、図３で示した並列に配置した場合にもフィードバック制御手段を設けることができる。

図４に示すように、混合ガスが流れる第１窒素配管３２Ａ及び第２窒素配管３２Ｂには、混合ガスの酸素濃度を測定する酸素濃度計６４Ａ，６４Ｂが設けられる。酸素濃度計６４Ａ，６４Ｂは、信号ケーブル又は無線によってコントローラ６６に接続され、酸素濃度計６４Ａ，６４Ｂで測定された測定値がコントローラ６６に送られる。コントローラ６６は、呼び径の異なる複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）の開度量を調整する駆動部（図示せず）に信号ケーブル又は無線によって接続される。

酸素濃度計としては、例えば、横河電気（株）製の低濃度ジルコニア式酸素濃度計ＯＸ４００、あるいは東レエンジニアリング（株）製の高機能型ジルコニア式酸素濃度計ＬＣ−８６０等を使用することができる。測定箇所としては、図４に示すように、紫外線照射装置１０に供給する直前における混合ガスの酸素濃度を測定することが好ましい。

また、コントローラ６６には、図示しない入力手段から混合ガスの目標酸素濃度を入力することができ、酸素濃度計６４Ａ，６４Ｂで測定された測定値と入力された目標酸素濃度とが対比される。そして、コントローラ６６は、酸素濃度計６４Ａ，６４Ｂで測定された混合ガスの酸素濃度が目標酸素濃度±５％以内で推移するように、複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうち使用中のニードルバルブの開度をフィードバック制御する。

このように、呼び径の異なる複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のうち使用するニードルバルブを選択する操作に加え、ニードルバルブごとにフィードバック制御手段を設ける。これにより、混合ガスの酸素濃度を目標酸素濃度±０．１％以内の精度で調整することが可能となる。

次に、上記の如く構成された塗布層の硬化装置５を組み込んだ積層フィルムの製造方法について説明する。

図５は、積層フィルムとして反射防止フィルムを製造する装置において、ハードコート層を形成する製造ライン７５の全体構成の一例である。図６は、反射防止フィルム３の層構成の一例であり、ウエブ１２上に形成したハードコート層１に反射防止層２として低屈折率層を積層させた場合である。

図５に示されるように、帯状のウエブ１２が送出機７６から製造ラインに連続的に送り出され、以下の順序にしたがって各種の処理が施されることによりハードコート層１が形成される。

送出機７６から送り出されたウエブ１２は、ガイドローラ７８によってガイドされて除塵機８０に送られ、ウエブ１２の表面に付着した塵等の異物が取り除かれる（ウエブの除塵工程）。

次に、ウエブ１２は、グラビア塗布コータ８２に送られて、ハードコート層１を形成する光硬化性塗布液がウエブ１２上に塗布される。これにより、ウエブ１２上に光硬化性の塗布層が形成される（光硬化性塗布層の塗布工程）。

グラビア塗布コータ８２は、ローラ表面にセル（ｃｅｌｌ）が形成されたグラビアローラ８２Ａと、グラビアローラ８２Ａの下方に設けられ、塗布液を満たす液受けパン８２Ｂと、塗布前に塗布液の余剰分を掻き落とすドクターブレード８２Ｃとで構成される。

そして、連続搬送されるウエブ１２は、上流ガイドローラ８２Ｄ及び下流ガイドローラ８２Ｅによって、グラビアローラ８２Ａと平行な状態で支持されている。

グラビア塗布コータ８２は、特に薄層塗布に有効であるので、例えば、ウエット塗布量が５ｍｌ／ｍ^２以下（塗布時のウエット膜厚が５μｍ以下）の超薄層塗布を行う製造ラインに好適に適用できる。

なお、塗布方法としては、上述したグラビア塗布コータ８２以外に、バーコータ、ロールコータ（トランスファロールコータ、リバースロールコータ等）、ダイコータ、エクストルージョンコータ、ファウンテンコータ、カーテンコータ、ディップコータ、スピンコータ、スプレーコータ又はスライドホッパ等が採用できる。

次に、光硬化性の塗布層が形成されたウエブ１２は、乾燥ゾーン８４、加熱ゾーン８６に順次送られて、光硬化性塗布液中の光重合開始剤を含む有機溶剤が、乾燥ゾーン８４と加熱ゾーン８６を通過することにより蒸発する（光硬化性塗布層の乾燥・加熱工程）。乾燥ゾーン８４の乾燥方法及び加熱ゾーン８６の加熱方法は、特に限定されない。

次に、光硬化性の塗布層が乾燥及び加熱されウエブ１２は、光硬化性の塗布層を硬化させる硬化装置５である上記の紫外線照射装置１０に送られる。この紫外線照射装置１０の照射面１６Ａから紫外線を照射して光硬化性の塗布層が硬化処理される（光硬化性塗布層の硬化工程）。なお、図５の紫外線照射装置１０は、１つの紫外線ランプハウス１６と１つの支持ローラ１４とで図示している。

最後に、光硬化性の塗布層が硬化処理されたウエブ１２は、巻取機８８に巻き取られる。これにより、ウエブ１２上にハードコート層１が形成される。

そして、図５と同様の製造ラインによって、ハードコート層１が形成された硬化後のウエブ１２に、別の塗布層（例えば反射防止層）が塗設されることにより積層工程が行われる。なお、別の塗布層としては、反射防止層の他に、光学補償層、防眩層等の光学機能層、さらには光学機能層以外のどのような塗布層も本発明に含まれる。

上記した製造ライン７５の紫外線照射装置１０に酸素を含有する混合ガスを供給する装置として、本実施の形態の混合ガス供給装置２２を組み込んだので、０．１〜１０．０％の酸素濃度領域において、混合ガスを精度良く目標酸素濃度に調整することができる。

これにより、１つの混合ガス供給装置２２で調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができるので、ハードコート層１の塗布液処方や塗布厚みに関係なく耐擦傷性と密着性とを満足する積層フィルムを製造することが可能となる。

次に、図７において、混合ガス供給装置２２の別態様を説明する。

図７は、ハードコート層１を形成する製造ライン７５を長時間連続運転（例えば３日間）する場合に好ましい混合ガス供給装置２２の態様を示したものである。

図７に示す混合ガス供給装置２２は、基本的には図２と同様であるが、呼び径の異なる複数のニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）のバルブ品温を一定に維持するバルブ品温維持手段６８を設けるようにしたものである。

バルブ品温維持手段６８は、ニードルバルブ５６Ａ，５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ，５８Ｂ，６０Ｂ）を囲むヒータ７０Ａ付きの断熱性ケーシング７０と、断熱性ケーシング７０内に設けられた温度センサ７２と、温度センサ７２の測定温度に基づいて断熱性ケーシング７０内（バルブ周囲の温度環境）が一定温度（例えば常温）に維持されるようヒータ７０Ａを制御する温度制御手段７４と、で構成される。なお、バルブ品温維持手段６８は、上記構成に限定されるものではなく、バルブ品温を一定に維持できるものであればどのような手段でもよい。

このように、呼び径の異なる複数のニードルバルブにバルブ品温維持手段６８を設けることによって、０．１〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域において精度良く目標酸素濃度に調整することができるだけでなく、一旦調整した目標酸素濃度がニードルバルブを設置した動力室２６の温度環境に起因して経時的に変動しないようにすることができる。

なお、図７で示したフィードバック制御の手段と、バルブ品温維持手段６８とを組み合わせることも可能である。また、本実施の形態では、酸素含有ガスとして、圧縮エアの例で説明したが、酸素ガスを使用するようにしてもよい。

次に、ウエブ１２及びハードコート層１の好ましい態様を説明する。

ウエブ１２としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテンが含まれる。トリアセチルセルロース、及びポリオレフィンがレターデーションが小さく、光学的均一性も高いため、偏光板用途として好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。

ハードコート層１は、積層フィルムに物理強度を付与するために、ウエブ１２の表面に設けられる。

ハードコート層１は、電離放射線硬化性化合物を含有する光硬化性の塗布層の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。たとえば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む光硬化性化合物をウエブ１２上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。また、ハードコート層１の屈折率や強度を調整するために、無機微粒子を含んでもよい。

電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。

光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。

圧縮エアの流量調整を呼び径の異なる複数のニードルバルブのうち使用するバルブを選択する図２の混合ガス供給装置を用い、０．１〜１０．０％の酸素濃度領域において精度良く調整可能な混合ガスの目標酸素濃度の自由度を調べた（実施例１〜４）。

あわせて、圧縮エアの流量調整を１つのバルブで行う従来の混合ガス供給装置を用い、０．１〜１０．０％の酸素濃度領域において精度良く調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を調べた（比較例１〜２）。

〈試験条件〉
試験は、０．１〜１０．０％の酸素濃度領域において、０．１％、１％、３％、６％、１０％の５水準の目標酸素濃度を設定した。そして、下記に示す比較例１〜２、実施例１〜４の圧縮エア流量調整方法を行った場合の各目標酸素濃度におけるバルブ制御の精度を調べた。

即ち、窒素配管に圧縮エア配管を接続し、窒素配管に流す窒素流量を９０〜１００ｍ^３／ｈの間でバルブ制御するとともに圧縮エア配管に流す圧縮流量を０．１〜１０ｍ^３／ｈの間でバルブ制御した。なお、窒素流量調整方法は、比較例１〜２、実施例１〜４ともに窒素配管にディスクバルブを設けることにより行った。なお、実施例１〜４では、バルブの選択方法として前述の「バルブ使い分け方法」で行った。

〈圧縮エア流量調整方法〉
・比較例１…圧縮エアの配管に呼び径が１Ａのニードルバルブのみを設けて圧縮エアの流量調整を行う場合である。

・比較例２…圧縮エアの配管に呼び径が１５Ａのニードルバルブのみを設けて圧縮エアの流量調整を行う場合である。

・実施例１…圧縮エアの配管に呼び径が１Ａ，１５Ａの２個のニードルバルブを直列に配置して、２個のニードルバルブのうち使用するニードルバルブを選択して圧縮エアの流量調整を行う場合である。

・実施例２…実施例１の２個のニードルバルブにそれぞれフィードバック制御手段を設けて圧縮エアの流量調整を行う場合である。

・実施例３…圧縮エアの配管に呼び径が１Ａ，６Ａ，１５Ａの３個のニードルバルブを直列に配置して、３個のニードルバルブのうち使用するニードルバルブを一つ選択して圧縮エアの流量調整を行う場合である。

・実施例４…実施例３の３個のニードルバルブにそれぞれフィードバック制御手段を設けて圧縮エアの流量調整を行う場合である。

なお、実施例１〜４では、呼び径の大きなニードルバルブほど圧縮エアの流れ方向上流側に配置した。また、窒素ガスの流量調整は、窒素ガスが流れる配管に設けた１つのディスクバルブで行った。

〈試験結果の評価方法〉
Ａ…混合ガスを目標酸素濃度±０．１％以内に調整することができ、合格。
Ｂ…混合ガスを目標酸素濃度±１％以内に調整することができ、合格。
Ｃ…混合ガスを目標酸素濃度±５％以内に調整することができ、合格。
Ｄ…混合ガスを目標酸素濃度±５％以内に調整できず、不合格。

〈試験結果〉
試験結果を図８の表に示す。

図８の表から分かるように、比較例１は、０．１〜１０．０％の酸素濃度領域における０．１％〜３．０％の範囲について目標酸素濃度±５％以内をカバーできるが、６．０％〜１０．０％の範囲はカバーできていない。即ち、３．０％〜６．０％の間で、バラツキが±５％を超えることが分かる。

また、比較例２は、０．１〜１０．０％の酸素濃度領域における６．０％〜１０．０％の範囲について目標酸素濃度±５％以内をカバーできるが、０．１％〜３．０％の範囲はカバーできていない。

これに対して、実施例１〜４は、０．１〜１０．０％の酸素濃度領域の全てについて目標酸素濃度±５％以内をカバーすることができる。特に、実施例２及び４のように、フィードバック制御を併用することによって、目標酸素濃度±０．１％以内の顕著に良い精度を達成することができた。

この結果から、本実施の形態の混合ガス供給装置を備えた硬化装置は、０．１〜１０．０％の広範囲な酸素濃度領域の全てにおいて混合ガスを精度良く目標酸素濃度に調整できるので、１つの混合ガス供給装置で精度良く調整できる混合ガスの目標酸素濃度の自由度を飛躍的に上げることができる。

したがって、本発明の硬化方法及び装置を、積層フィルムの製造ラインに組み込めば、耐擦傷性と密着性の両方を満足する上で低い目標酸素濃度が要求される品種から高い目標酸素濃度が要求される品種まで、１つの混合ガス供給装置で各種のハードコート層の品種に対応できる。したがって、ハードコート層の塗布液処方や塗布厚みに関係なく耐擦傷性と密着性とを満足する積層フィルムを製造することが可能となる。

なお、本実施例では呼び径の異なるバルブとしてニードルバルブの例で説明した。しかし、他のバルブを用いた場合、目標酸素濃度±５％以内をカバーできる酸素濃度領域がニードルバルブと異なるが、試験結果の傾向としてはニードルバルブと同様であった。

１…ハードコート層、２…反射防止層、３…反射防止フィルム、５…硬化装置、１０…紫外線照射装置、１２…ウエブ、１４…支持ローラ、１６…紫外線ランプハウス、１６Ａ…照射面、１８…紫外線照射空間、２０…張り出し部材、２０Ｅ，２０Ｆ…混合ガスの供給口、２２…混合ガス供給装置、２４…空調清浄室、２６…動力室、２８…窒素ガスライン、３０…圧縮エアライン、３２…窒素配管、３２Ａ…第１窒素配管、３２Ｂ…第２窒素配管、３４…窒素ボンベ、３６…開閉弁、３８…圧力計、４０…圧力調整弁、４２Ａ，４２Ｂ…流量調整バルブ（ディスクバルブ）、４４Ａ，４４Ｂ…流量計、４６…圧縮エア配管、４６Ａ…第１圧縮エア配管、４６Ｂ…第２圧縮エア配管、４８…コンプレッサ、５０…開閉弁、５２…圧力計、５４…圧力調整弁、５６Ａ、５８Ａ，６０Ａ（５６Ｂ、５８Ｂ，６０Ｂ）…第１〜第３の流量調整バルブ（ニードルバルブ）、６２Ａ，６２Ｂ…流量計、６８…バルブ品温維持手段、７０Ａ…ヒータ、７０…断熱性ケーシング、７２…温度センサ、７４…温度制御手段

Claims (11)

1. 搬送される帯状の支持体上に形成された光硬化性の塗布層に紫外線照射装置の照射面から紫外線を照射して硬化させる塗布層の硬化方法において、
   前記照射面と前記塗布層との間の紫外線照射空間に、酸素含有ガスと不活性ガスとをそれぞれの配管から合流させて０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の目標酸素濃度に混合した混合ガスを供給する混合ガス供給工程を備え、
   前記混合ガス供給工程では、
   前記酸素含有ガスの配管に呼び径の異なる複数のバルブを直列又は並列に設け、
   前記混合する前記酸素含有ガスの流量調整を、前記酸素濃度領域における前記目標酸素濃度の高低に応じて前記複数のバルブのうち使用するバルブを選択することにより、前記酸素濃度領域の全ての領域において、前記混合ガスを前記目標酸素濃度に対して±５％以内に調整する塗布層の硬化方法。
2. 前記酸素濃度領域における目標酸素濃度が低くなるにしたがって前記複数のバルブのうち呼び径の小さなバルブを選択し、前記目標酸素濃度が高くなるにしたがって前記複数のバルブのうち呼び径の大きなバルブを選択する請求項１に記載の塗布層の硬化方法。
3. 前記選択されるバルブが呼び径の異なる複数のバルブである請求項１又は２に記載の塗布層の硬化方法。
4. 前記複数のバルブはニードルバルブである請求項１から３のいずれか１項に記載の塗布層の硬化方法。
5. 前記供給する混合ガスの酸素濃度を測定し、
   前記測定した測定値と前記目標酸素濃度とを対比して前記測定値が前記目標酸素濃度±５％以内で推移するように前記複数のバルブのうち使用中のバルブの開度をフィードバック制御する請求項１から４のいずれか１項に記載の塗布層の硬化方法。
6. 前記複数のバルブは前記配管に直列に配置されているとともに、大きい呼び径のバルブを小さい呼び径のバルブよりも上流側に配置する請求項１から５のいずれか１項に記載の塗布層の硬化方法。
7. 搬送される帯状の支持体上に形成された光硬化性の塗布層に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置と、紫外線照射装置の照射面と前記塗布層との間の紫外線照射空間に酸素含有ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給する混合ガス供給装置と、を備えた塗布層の硬化装置において、
   前記混合ガス供給装置の前記酸素含有ガスの配管には、流量調整バルブとして呼び径の異なる複数のバルブが直列又は並列に設けられている塗布層の硬化装置。
8. 前記複数のバルブはニードルバルブである請求項７に記載の塗布層の硬化装置。
9. 前記供給する混合ガスの酸素濃度を測定する酸素濃度計と、
   前記測定した測定値と前記目標酸素濃度とを対比して前記測定値が前記目標酸素濃度±５％以内で推移するように前記複数のバルブのうち使用中のバルブの開度を制御するフィードバック制御手段と、を備えた請求項７又は８に記載の塗布層の硬化装置。
10. 前記複数のバルブは前記配管に直列に配置されているとともに、大きい呼び径のバルブが小さい呼び径のバルブよりも上流側に配置されている請求項７から９のいずれか１項に記載の塗布層の硬化装置。
11. 搬送される帯状の支持体上に塗設された光硬化性の塗布層に紫外線照射装置の照射面から紫外線を照射して前記光硬化性の塗布層を硬化させる硬化工程と、硬化後の光硬化性の塗布層の上に別の塗布層を塗設して積層する積層工程と、を少なくとも含む積層フィルムの製造方法において、
    前記硬化工程では、前記照射面と前記塗布層との間の紫外線照射空間に、酸素含有ガスと不活性ガスとをそれぞれの配管から合流させて０．１％〜１０．０％の酸素濃度領域の目標酸素濃度に混合した混合ガスを供給する混合ガス供給工程を備え、
    前記混合ガス供給工程では、
    前記酸素含有ガスの配管に呼び径の異なる複数のバルブを直列又は並列に設け、
    前記混合する前記酸素含有ガスの流量調整を、前記酸素濃度領域における前記目標酸素濃度の高低に応じて前記複数のバルブのうち使用するバルブを選択することにより、前記酸素濃度領域の全ての領域において、前記混合ガスを前記目標酸素濃度に対して±５％以内に調整する積層フィルムの製造方法。

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