TWI603121B

TWI603121B - 偏光板的製造方法

Info

Publication number: TWI603121B
Application number: TW102110445A
Authority: TW
Inventors: 高畑弘明; 廣岩梓
Original assignee: 住友化學股份有限公司
Priority date: 2012-03-29
Filing date: 2013-03-25
Publication date: 2017-10-21
Also published as: JP5988649B2; KR20150002586A; KR101920107B1; TW201346352A; WO2013146162A1; JP2013205741A

Description

偏光板的製造方法

本發明係關於用作為液晶顯示構件之偏光板的製造方法。

構成液晶顯示裝置的核心之液晶面板，通常是將偏光板設置在液晶單元的雙面而構成。一般而言，偏光板係構成為：在由聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜之一方的面，經由黏著劑而貼合有由透明樹脂所構成之保護膜之構造。於偏光膜之另一方的面，大多係經由黏著劑而貼合透明樹脂膜，此等側之透明樹脂膜係與相反側的保護膜相同，除了對偏光膜僅具有保護功能者之外，亦為一種具有保護功能且以液晶單元的光學補償或視角補償為目的，賦予面內及/或厚度方向的相位差之所謂相位差膜。在本說明書中，係將經由黏著劑貼合於偏光膜之此般保護膜或相位差膜等稱為「光學膜」。光學膜貼合於偏光膜時所使用之黏著劑，一般為液狀者，藉由該液狀黏著劑的硬化反應，而在偏光膜與光學膜之間顯現黏著力。

近年來，以電視為首之液晶顯示裝置的價格降低劇烈，對構成此液晶顯示裝置之構件之低價格化的要求亦逐漸增強，另一方面，對品質之要求亦進一步增強。在此潮流中，偏光膜的製造所使用之黏著劑，亦從能夠適用之光學膜的種類僅限於纖維素系樹脂膜等之特定的樹脂膜之水系黏著劑，逐漸變更為能夠適用之光學膜的種類較多之活化能射線硬化型黏著劑。例如在日本特開2004-245925號公報(專利文獻1)中，係提出一種使用活化能射線硬化型黏著劑之偏光膜與光學膜之貼合。

活化能射線硬化型黏著劑係以液狀所製備，並採用將該液狀黏著劑直接塗佈於被塗佈物之壓模塗佈法，或是採用將該液狀黏著劑擔持於表面所形成之凹槽並將此液狀接著劑轉印至被塗佈物表面之凹版輥法，而預先塗佈於光學膜貼合於偏光膜之貼合面。然後將偏光膜重疊於該黏著劑塗佈面，並照射紫外線或電子束等之活化能射線，使黏著劑硬化而顯現黏著力。此般使用活化能射線硬化型黏著劑之方式，能夠適用之光學膜的種類較多，為極有效之方法。

就使用活化能射線硬化型黏著劑之偏光板的製造方法而言，例如在日本特開2009-134190號公報(專利文獻2)中，係揭示一種方法，其係分別經由黏著劑將保護膜重疊於偏光膜的雙面而得積層體，並沿著該積層體的運送方向，一邊使該積層體緊密接觸於形成為圓弧狀之凸曲面的外表面，一邊照射活化能射線之方法。根據該方法，可抑制製得之偏光板所容易產生之反捲曲及波浪捲曲，而能夠製造具有良好性能的偏光板。

專利文獻2的方法中，形成於保護膜上之黏著劑層的厚度，由於對要製造之偏光板的反捲曲及波浪捲曲不會造成較大影響，所以被認為管理黏著劑層的塗佈厚度之必要性較低。然而，因黏著劑層的厚度會變動，大部分雖為不會造成問題之水準，但有時會產生氣泡等缺陷，當該缺陷較大時，有時會使偏光板的良率降低。再者，在穩定地製造便宜且更高性能的偏光板時，活化能射線硬化型黏著劑，大多是塗佈比以往的水系黏著劑更厚，此外，由於該黏著劑本身較為昂貴，且亦期望可達到偏光板本身的薄層化，故較佳是以成為考量變動幅度之所需最低限度的厚度之方式來管理黏著劑層的厚度。

為了以線內(in-line)方式管理塗佈厚度而測定該厚度之機器，為人所知者有紅外線膜厚計。然而，由於紅外線膜厚計的分解能有所極限，所以如偏光板生產線般，於連續地被運送之膜上，乃難以正確地測定以數μm左右所形成之塗佈層(黏著劑層)的厚度。具體而言，在偏光板生產線中，如後述第1圖所示，偏光膜與貼合於該至少一方的面之光學膜係分別不具有特別的支撐體而被連續地運送，並且在某處被貼合，於如此連續地運送之膜中，在厚度方向與施加有張力之方向(流動方向)，會產生微妙的搖晃，在具有此般搖晃之狀態下欲藉由紅外線膜厚計來測定塗佈層厚度時，僅能得到約±1μm的精確度，故實際上無法根據該測定結果來管理塗佈厚度。

此外，當欲藉由紅外線膜厚計來測定光學膜上所形成之黏著劑層的厚度時，乃具有必須明確地區分光學膜所賦予之紅外線吸收峰值與黏著劑所賦予之紅外線吸收峰值之限制，對此，亦會有因光學膜種類的不同而使兩者的峰值重疊，以致無法得到測定值本身之情形。

從以上所述之理由來看，至目前為止，在使用液狀黏著劑之偏光板的製造中，仍未進行以線內方式檢查膜上所塗佈之液狀黏著劑的厚度之製程。

(先前技術文獻) (專利文獻)

專利文獻1：日本特開2004-245925號公報

專利文獻2：日本特開2009-134190號公報

因此，本發明之課題在於提供一種在經由以活化能射線硬化型黏著劑為代表例之液狀黏著劑將光學膜貼合於偏光膜時，藉由以線內方式管理黏著劑的塗佈厚度，而可減少該厚度的變動，因而抑制黏著劑層中之氣泡等缺陷的產生，同時可製造出廉價的偏光板之方法。

本發明係為了解決上述課題而進行精心研究，結果發現到在將液狀黏著劑塗佈於光學膜上，並將偏光膜貼合於該塗佈層以製造偏光板時，以特定的方法來測量塗佈後之黏著劑的厚度，藉此正確地求出該厚度，並根據該結果來控制塗佈時的黏著劑塗佈厚度，而能夠製造出黏著劑的厚度均勻且缺陷少之偏光板，因而完成本發明。

亦即，本發明係包含下列所述者。

[1]一種偏光板的製造方法，其係經由黏著劑，將由熱可塑性樹脂所構成之光學膜貼合於由聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜，而製造偏光板之方法，該方法具備有：(A)使用具有前述黏著劑的塗佈厚度控制手段之塗佈機，將前述黏著劑塗佈於前述光學膜之貼合於偏光膜之貼合面之塗佈步驟；(B)藉由輻射線膜厚計，在前述塗佈步驟之前，測量前述光學膜的厚度，並且在前述塗佈步驟後，測量前述光學膜與塗佈後之前述黏著劑之合計厚度，從此等測量值之差的絕對值，以線內方式求出塗佈後之前述黏著劑的厚度之測量步驟；(C)將前述偏光膜重疊於在前述塗佈步驟中被塗佈且經過前述測量步驟之黏著劑面並進行加壓之貼合步驟；以及(D)相對於被設定在0.5至5μm的範圍內之黏著劑的設定厚度Y，當前述測量步驟中所得之黏著劑的測量厚度X與前述Y之差的絕對值之比率為既定值以上時，控制前述塗佈厚度控制手段之控制步驟。

[2]如[1]所述之偏光板的製造方法，其中，在前述控制步驟(D)中，相對於黏著劑的設定厚度Y，當前述測量步驟中所得之黏著劑的測量厚度X與前述Y之差的絕對值之比率為5%以上時，控制前述塗佈厚度控制手段。

[3]如[1]所述之偏光板的製造方法，其中，前述黏著劑係為液狀之活化能射線硬化型黏著劑。

[4]如[3]所述之偏光板的製造方法，其中，在前述貼合步驟(C)後，復具備有藉由活化能射線的照射使前述黏著劑硬化之硬化步驟(E)。

根據本發明，在經由黏著劑將光學膜貼合於偏光膜時，藉由使用既定的膜厚計來測量塗佈步驟前後的膜厚，以線內方式瞬時地測量光學膜上所形成之黏著劑的厚度，並將該結果傳送至塗佈機所具有之黏著劑的塗佈厚度控制手段，以控制黏著劑的塗佈厚度，如此可製造出黏著劑的厚度均勻之偏光板。結果可抑制起因於黏著劑的厚度變異而容易產生之氣泡等缺陷。

1‧‧‧偏光膜

2‧‧‧第一光學膜

3‧‧‧第二光學膜

4‧‧‧偏光板

10‧‧‧第一塗佈機

11‧‧‧凹版輥

12‧‧‧第二塗佈機

13‧‧‧凹版輥

14‧‧‧第一輻射線膜厚計

14a‧‧‧第一輻射線源

14b‧‧‧第一檢測器

15‧‧‧第二輻射線膜厚計

15a‧‧‧第二輻射線源

15b‧‧‧第二檢測器

16‧‧‧第三輻射線膜厚計

16a‧‧‧第三輻射線源

16b‧‧‧第三檢測器

17‧‧‧第四輻射線膜厚計

17a‧‧‧第四輻射線源

17b‧‧‧第四檢測器

18‧‧‧活化能射線(紫外線)照射裝置

20、21‧‧‧貼合用軋輥(軋輥)

22、23‧‧‧捲取前軋輥

24‧‧‧導輥

26‧‧‧照射用捲繞輥

30‧‧‧捲取輥

第1圖係顯示本發明中可較佳地使用之製造裝置的一例之概略側視圖。

第2圖係顯示本發明中之各步驟間的關係之方塊圖。

第3圖係顯示實施例所使用之製造裝置之概略側視圖。

本發明中，係經由黏著劑，將由熱可塑性樹脂所構成之光學膜貼合於由聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜，而製造偏光板。光學膜係可僅貼合於偏光膜的單面或貼合於偏光膜的雙面。當將光學膜貼合於偏光膜的雙面時，可將本發明之方法應用於一方之光學膜的貼合，或是將本發明之方法應用於兩者之光學膜的貼合。

[偏光膜]

偏光膜是由聚乙烯醇系樹脂所構成，且具有：可使射入於該膜之光中之具有某方向的振動面之光穿透，並吸收具有與該方向正交之振動面之光的性質之膜，典型而言，為雙色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂之膜。

構成偏光膜之聚乙烯醇系樹脂，係可藉由將聚乙酸乙烯酯樹脂進行皂化而得。作為聚乙烯醇系樹脂的原料之聚乙酸乙烯酯樹脂，係除了乙酸乙烯酯的單聚物之聚乙酸乙烯酯之外，可為乙酸乙烯酯及可與該乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物。

藉由對由聚乙烯醇系樹脂所構成之膜，施以單軸拉伸處理、由雙色性色素所進行之染色處理、以及染色後的硼酸交聯處理，即可得到偏光膜。雙色性色素係可使用碘或雙色性有機染料。單軸拉伸係可於由雙色性色素所進行之染色前進行，或與由雙色性色素所進行之染色同時進行，或在由雙色性色素所進行之染色後，例如在硼酸交聯處理中進行。

如此製造出且由吸附配向有雙色性色素之聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜，係成為偏光板的原料之一。

[光學膜]

將由熱可塑性樹脂所構成之光學膜貼合於偏光膜，而製造偏光板。光學膜在溫度20℃下以D射線所測定之折射率，較佳為在1.4至1.7的範圍內。光學膜的折射率係依據JIS K 0062：1992「化學製品的折射率測定方法」來測定。若光學膜具有該範圍的折射率，則將所製造之偏光板組裝於液晶面板時之顯示特性佳。以同樣的理由來看，光學膜的較佳折射率，在1.45至1.67的範圍內。

光學膜之霧度值雖在約0.001至10%的範圍，但使所得之偏光板的對比提升，尤其是組裝於液晶面板並進行黑色顯示時，產生亮度降低等缺失之可能性會降低，故較為理想。霧度值係由(擴散穿透率/總透光率)×100(%)所定義之值，且依據JIS K 7136：2000「塑膠-透明材料之霧度的求取方法」來測定。

就構成光學膜之熱可塑性樹脂而言，可列舉例如下列所示者，在此係將在溫度20℃下以D射線所測定之折射率設為n_D(20℃)且一併顯示。

環烯烴系樹脂[n_D(20℃)=約1.51至1.54]、結晶性聚烯烴系樹脂[n_D(20℃)=約1.46至1.50]、聚酯系樹脂[n_D(20℃)=約1.57至1.66]、聚碳酸酯系樹脂[n_D(20℃)=約1.57至1.59]、丙烯酸系樹脂[n_D(20℃)=約1.49至1.51]、三乙酸纖維素系樹脂[n_D(20℃)=1.48左右]等。

環烯烴系樹脂為以如降莰烯般之環烯烴系單體為主要構成單位之聚合物，包含有：對環烯烴系單體的開環聚合物添加氫所得之樹脂，以及環烯烴系單體、與如乙烯或丙烯般之碳數2至10的鏈狀烯烴系單體及/或苯乙烯般之芳香族乙烯單體之加成聚合物等。

結晶性聚烯烴系樹脂係為以碳數2至10的鏈狀烯烴系單體為主要構成單位之聚合物，包含有：鏈狀烯烴系單體的單聚物，以及使用2種以上的鏈狀烯烴系單體之二聚物或三聚物以上之共聚物。具體而言，包含有：聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、乙烯-丙烯共聚物、4-甲基-1-戊烯的單聚物、或4-甲基-1-戊烯與乙烯或丙烯之共聚物等。

聚酯系樹脂係除了如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯般之芳香族聚酯之外，亦包含脂肪族聚酯。

聚碳酸酯系樹脂，典型而言為藉由雙酚A與二氯化羰之反應所得，且於主鏈具有碳酸酯鍵-O-CO-O-之聚合物。

丙烯酸系樹脂，典型而言為以甲基丙烯酸甲酯為主要構成單位之聚合物，除了甲基丙烯酸甲酯的單聚物之外，亦包含有：甲基丙烯酸甲酯與其他甲基丙烯酸酯及/或丙烯酸酯之共聚物等。

三乙酸纖維素系樹脂係為纖維素之乙酸酯。

由此等熱可塑性樹脂，可藉由溶劑鑄膜法或熔融擠壓法等來成膜，而形成本發明所使用之光學膜。此外，亦可以將製膜後進行單軸拉伸或雙軸拉伸而成者，作為本發明所使用之光學膜。光學膜係在貼合於偏光膜之前，可對該貼合面施以如皂化(saponification)處理、電暈處理、電漿處理、引體(primer)處理或定錨塗佈處理般之易黏著處理。此外，在與光學膜貼合於偏光膜之貼合面為相反側的一面，設置有如硬塗層、抗反射層或防眩層般之各種處理層。

光學膜通常較佳為具有5至200μm左右的厚度。當光學膜過薄時，欠缺處理性，於偏光板產線中產生斷裂或引發皺折的產生之可能性會增高。另一方面，若過厚時，所得之偏光板會變厚，重量亦增大，因而會有損及商品性之情形。從此等理由來看，光學膜的尤佳厚度為10至120μm，更佳厚度為10至85μm。

[黏著劑]

將光學膜貼合於偏光膜時，首先在光學膜貼合於偏光膜之貼合面塗佈黏著劑。黏著劑的厚度係在0.5至5μm的範圍內設定在既定值。當該厚度低於0.5μm時，黏著強度會有產生不均之情形。另一方面，當該厚度超過5μm時，不僅製造成本會增大，並且因黏著劑種類的不同而可能對偏光板的色相造成影響。於上述範圍內，若設定在相對較厚，例如3.5μm以上，尤其為4μm以上，則即使該厚度產生些許變動，亦不易顯現出起因於此之氣泡等缺陷，但另一方面，由於增加厚度容易導致成本之增加，所以較佳是在可能的範圍內薄化。從此等理由來看，黏著劑較佳厚度為1至4μm，更佳厚度為1.5至3.5μm。

黏著劑係只要可在進行液狀塗佈之狀態下供給者，則可使用以往偏光板的製造時所使用之各種者，從耐候性或聚合性等觀點來看，較佳為陽離子聚合性化合物，例如環氧化合物，更具體而言如先前專利文獻1(日本特開2004-245925號公報)所記載般，含有於分子內不具有芳香環之環氧化合物作為活化能射線硬化性成分之一之活化能射線硬化型黏著劑。

上述環氧化合物，可列舉例如對以雙酚A 的二縮水甘油醚為代表例之芳香族環氧化合物的原料之芳香族聚羥基化合物添加氫，並將此進行縮水甘油醚化所得之氫化環氧化合物；於分子內具有至少1個鍵結於脂環型環之環氧基之脂環型環氧化合物；以及以脂肪族聚羥基化合物的縮水甘油醚為代表例之脂肪族環氧化合物等。

此外，於活化能射線硬化型黏著劑中，除了以環氧化合物為代表例之陽離子聚合性化合物之外，通常調配有聚合起始劑，尤其是藉由活化能射線的照射而產生陽離子種或路易斯酸，使陽離子聚合性化合物開始聚合之光陽離子聚合起始劑。再者，亦可調配藉由加熱而使聚合開始之熱陽離子聚合起始劑、其他光增感劑等之各種添加劑。

將光學膜貼合於偏光膜的雙面時，適用於各光學膜之黏著劑可為相同或不同，但從生產性之觀點來看，以可得到適度黏著力者為前提，較佳為雙面皆採用相同之黏著劑。

[偏光板的製造方法]

本發明中，係經由黏著劑，將光學膜貼合於由以上所說明之聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜，而製造偏光板。此時係經由下列(A)、(B)、(C)及(D)之各步驟。

(A)使用具有黏著劑的塗佈厚度控制手段之塗佈機，將黏著劑塗佈於光學膜貼合於偏光膜之貼合面之塗佈步驟；(B)藉由輻射線膜厚計，在塗佈步驟之前，測量光學膜的厚度，並且在塗佈步驟之後，測量光學膜與塗佈後之黏著劑之合計厚度，此等測量值之差的絕對值，以線內求出塗佈後之黏著劑的厚度之測量步驟；(C)將偏光膜重疊於在上述塗佈步驟中被塗佈且經過上述測量步驟之黏著劑面並進行加壓之貼合步驟；以及(D)相對於被設定在0.5至5μm的範圍內之黏著劑的設定厚度Y，當上述測量步驟中所得之黏著劑的測量厚度X與前述Y之差的絕對值之比率為既定值以上時，控制上述塗佈厚度控制手段之控制步驟。

第1圖係顯示本發明中可較佳地使用之製造裝置的一例之概略側視圖，第2圖係顯示本發明中之各步驟間的關係之方塊圖。以下亦參考此等圖，詳細地說明偏光板的製造方法。

第1圖所示之製造裝置，係一邊連續地運送偏光膜1一邊將第一光學膜2貼合於該一方的面，並將第二光學膜3貼合於另一方的面而製造偏光板4，並將此偏光板4捲取於捲取輥30而構成。如圖所示，典型而言，各光學膜分別貼合於偏光膜1的雙面，但僅將光學膜貼合於偏光膜1的單面之形態，亦包含於本發明。此時的形態，只要是相關業者，則可從以下的說明中扣除關於另一方的光學膜之說明，而能夠理解容易實施之程度。

第一光學膜2係首先藉由第一輻射線膜厚計14來測量該厚度，接著在貼合於偏光膜之一面，從第一塗佈機10來塗佈黏著劑。然後藉由第二輻射線膜厚計15來測量第一光學膜2與塗佈後之黏著劑之合計厚度，由兩個輻射線膜厚計14、15所測得之測量值的差的絕對值，求出塗佈後之黏著劑的厚度。同樣地，第二光學膜3係首先藉由第三輻射線膜厚計16來測量該厚度，接著在貼合於偏光膜之一面，從第二塗佈機12來塗佈黏著劑。然後，藉由第四輻射線膜厚計17來測量第二光學膜3與塗佈後之黏著劑之合計厚度，由兩個輻射線膜厚計16、17所測得之測量值的差的絕對值，求出塗佈後之黏著劑的厚度。

測量黏著劑塗佈前後的厚度後之第一光學膜2及第二光學膜3，係將各黏著劑塗佈面分別重疊於偏光膜1的雙面，然後由貼合用軋輥20、21所夾持，藉此在厚度方向進行加壓。接著，接受來自活化能射線照射裝置18之活化能射線的照射，使黏著劑硬化。然後，所得之偏光板4係經由捲取前軋輥22、23而被捲取於捲取輥30。

第一塗佈機10及第二塗佈機12係從各自所設置之凹版輥11、13中，將黏著劑塗佈於第一及第二光學膜2、3而構成。於偏光膜1之一方的面、或第一光學膜2及第二光學膜3之與分別塗佈有黏著劑之面為相反側的面，適當地設置運送用之導輥24。如上所述，當僅將光學膜貼合於偏光膜1之一方的面時，可適用於第1圖所示之第一光學膜2及第二光學膜3中之僅一方(例如僅為第一光學膜2)。圖中的直線箭頭係意指膜的流動方向，曲線箭頭係意指輥的旋轉方向。

偏光膜1係在圖中未顯示的偏光膜製造步驟中，大多是以對聚乙烯醇系樹脂膜施以單軸拉伸處理、由雙色性色素所進行之染色處理、以及染色後的硼酸交聯處理後所製得之狀態來供給，但當然亦可暫時先將偏光膜製造步驟中所製得之偏光膜捲取於輥後，再次從送出機送出。另一方面，第一光學膜2及第二光學膜3係藉由送出機，分別從圖中未顯示的輥送出。各膜係以相同之生產線速度，例如10至50m/分左右的生產線速度，以流動方向為相同之方式來運送。第一光學膜2及第二光學膜3，係在流動方向一邊施加50至1000N/m的張力一邊送出。

然後，藉由第一塗佈機10及第二塗佈機12 進行先前所述之塗佈步驟(A)，藉由第一、第二輻射線膜厚計14、15及第三、第四輻射線膜厚計16、17進行先前所述之測量步驟(B)，藉由貼合用軋輥20、21進行先前所述之貼合步驟(C)，並藉由將輻射線膜厚計14、15、16、17中的測量結果反饋於塗佈機10、12，以進行先前所述之控制步驟(D)。塗佈機10、12所具有之凹版輥11、13為具有凹槽之輥，藉由預先將黏著劑充填於該凹槽，並在該狀態下旋轉於第一、第二光學膜2、3上，藉此將黏著劑轉印至第一、第二光學膜2、3上。藉由調整該旋轉速度，可控制黏著劑供給至第一、第二光學膜2、3上的供給量，以及塗佈厚度，此係成為第一、第二塗佈機10、12的塗佈厚度控制手段。

根據第2圖的方塊圖來說明此等各步驟的關係。首先在設定(0)中，關於在上述塗佈步驟(A)中所塗佈之黏著劑的厚度，係在0.5至5μm的範圍內預先設定成設定厚度Y。然後在測量步驟(B)的前半步驟藉由第一、第三輻射線膜厚計14、16預先測量第一、第二光學膜2、3的厚度後，設定第一、第二塗佈機10、12之塗佈厚度控制手段的初期條件，而進行塗佈步驟(A)。

接著作為測量步驟(B)的後半步驟，係藉由第二、第四輻射線膜厚計15、17測量光學膜與塗佈後之黏著劑之合計厚度，由前半步驟的測量值與後半步驟的測量值之差的絕對值，求出所塗佈之黏著劑的厚度，並作為測量厚度X予以輸出。不論該測量厚度X為何，塗佈有黏著劑之第一、第二光學膜2、3係在貼合步驟(C)中，分別以各個黏著劑塗佈面貼合於偏光膜1的雙面。

另一方面，在控制步驟(D)中，比較上述測量厚度X與上述設定厚度Y。當測量厚度X與設定厚度Y之差的絕對值相對於設定厚度Y為既定值以上、例如為5%以上時，使第一、第二塗佈機10、12之塗佈厚度控制手段運轉，以使兩者之差絕對值降低之方式，較佳為以使測量厚度X與設定厚度Y之差的絕對值相對於設定厚度Y未達5%之方式來控制。在此，測量厚度X與設定厚度Y之差的絕對值相對於設定厚度Y為5%以上者，係意味著滿足下列式(1)，第2圖係顯示，以是否滿足該式之方式來決定是否藉由控制手段來變更條件。

以下係詳細說明構成本發明之方法之塗佈步驟(A)、測量步驟(B)、貼合步驟(C)及控制步驟(D)。再者，在使用活化能射線硬化型黏著劑之情形時，係在經過以上之各步驟後施行硬化步驟(E)，對於此步驟加以說明。

(A)塗佈步驟

塗佈步驟(A)中，係將黏著劑塗佈於經過測量步驟(B)的前半步驟(測量光學膜本身的厚度之步驟)之第一、第二光學膜2、3貼合於偏光膜1的貼合面。在此所使用之塗佈機，只要是具有控制塗佈厚度之手段者即可，並無特別限定，代表性者有參考第1圖所說明之使用凹版輥11、13 之方式。

使用凹版輥11、13之塗佈機，例如有直接凹版塗佈機、刮刀座塗佈機、平版凹版塗佈機、使用凹版輥之接觸塗佈機、以複數個輥所構成之反轉輥塗佈機等。其他亦可應用具有圓筒狀刮刀，將黏著劑供給至塗佈部並以刮刀刮落而塗佈之刮刀塗佈機，使用狹縫壓模等來直接供給黏著劑之壓模塗佈機，或是形成貯液部並以刀片刮落多餘的液體而塗佈之刀片塗佈機等之各式塗佈機。在此等中，考量到薄膜塗佈或路徑管線的自由度等，在使用凹版輥之塗佈機中，較佳為直接凹版塗佈機、刮刀座塗佈機、平版凹版塗佈機等，此外，除了凹版輥之外較佳為使用狹縫壓模之壓模塗佈機。從容易對應於偏光板的寬幅化或不易釋出以液體狀態供給之黏著劑的臭味之方面來看，更佳為刮刀座塗佈機。

在此，所謂刮刀座塗佈機，係將凹版輥抵接於吸收液狀塗料(黏著劑)之刮刀座，並將刮刀座中的塗料(黏著劑)移至凹版輥的凹槽，然後將此塗料轉印至被塗佈物之第一、第二光學膜2、3之方式的塗佈機。設計為精巧型者，亦稱為微刮刀座塗佈機。

使用凹版輥來塗佈黏著劑時，黏著劑的厚度係可依據凹版輥相對於生產線速度之速度比來調整。將第一、第二光學膜2、3的生產線速度設為10至50m/分，並使凹版輥相對於第一、第二光學膜2、3的運送方向反向地旋轉，將凹版輥的旋轉周速度設為10至500m/分，藉此可將黏著劑的塗佈厚度調整為0.5至5μm。由於此時的塗佈厚度亦受到凹版輥表面的空隙率所影響，所以較佳為於事前預先選擇具有適合於設定厚度Y之表面的空隙率之凹版輥。使凹版輥相對於第一、第二光學膜2、3的運送方向反向地旋轉之方式，亦稱為反轉凹版。

(B)測量步驟

在塗佈步驟(A)之前所實施之測量步驟(B)的前半步驟中，藉由輻射線膜厚計來測量光學膜本身的厚度，在塗佈步驟(A)後所實施之測量步驟(B)的後半步驟中，藉由輻射線膜厚計來測量光學膜與塗佈後之黏著劑之合計厚度。並由前半步驟的測量值與後半步驟的測量值之差的絕對值，求出所塗佈之黏著劑的厚度。如第1圖所示，第一至第四輻射線膜厚計14、15、16、17，係分別由第一至第四輻射線源14a、15a、16a、17a與第一至第四檢測器14b、15b、16b、17b所構成，此等係隔介所測量之光學膜而相對向配置。

輻射線膜厚計14、15、16、17係藉由該輻射線源14a、15a、16a、17a朝光學膜照射輻射線，並藉由檢測器14b、15b、16b、17b來檢測穿透光學膜之輻射線。所照射之輻射線係於穿透光學膜時衰減。輻射線膜厚計14、15、16、17係從該衰減量來求出光學膜的秤量，並轉換為厚度。輻射線的衰減量雖可能受光學膜之密度的影響，但大致上光學膜的膜厚愈大其衰減量愈大。

在測量步驟(B)的前半步驟中，係輸出：使輻射線穿透於塗佈黏著劑前之光學膜並求出衰減量所測得之膜厚值，在測量步驟(B)的後半步驟中，係輸出：使輻射線穿透塗佈黏著劑後之光學膜並求出衰減量所測得之黏著劑層與光學膜的合計膜厚值，並求出黏著劑的厚度以作為該兩者的膜厚值之差的絕對值。根據此般使用輻射線膜厚計之膜厚測量方法，能以線內方式精確度佳地求出黏著劑的厚度。

使用輻射線膜厚計之膜厚測量方法，乃具有以下優點：不論是否具有光學膜與黏著劑之折射率的差，且即使在紅外線吸收光譜的特徵性吸收未觀察到有差異時，均可求出黏著劑的厚度。再者，根據使用輻射線膜厚計之膜厚測量方法，與使用光干涉式膜厚計之膜厚測量方法不同，不易受到光學膜的透明性、配向程度及配向方向等之光學膜的光學特性之影響，而能夠穩定地進行膜厚測量。

將輻射線的衰減量換算為光學膜或附黏著劑層光學膜的厚度時，係預先測定此等之關係並製作所測量之檢量線。輻射線的衰減量通常是藉由檢測器測得為電流值或電壓值，所以此時可分別對厚度不同之相同材料的光學膜預先測定電流值或電壓值，並製作相對於厚度變化之電流值或電壓值的檢量線。檢量線製作時所使用之光學膜係包含厚度較實際製造偏光板時所使用之光學膜更厚之相同材料的光學膜、及厚度較實際製造偏光板時所使用之光學膜更薄之相同材料的光學膜者，從可進行精確度更高的厚度測定之觀點來看較為理想。對於附黏著劑層光學膜，亦同樣地製作檢量線。

此外，為了更提升黏著劑之厚度的測量精確度，可分別測定厚度不同之相同材料的光學膜之輻射線衰減量、及厚度不同之相同材料的附黏著劑層光學膜之輻射線衰減量，並求出黏著劑的厚度，以作為附黏著劑層光學膜的厚度與光學膜的厚度差的絕對值，並製作出輻射線衰減量相對於黏著劑的厚度變化之檢量線。

輻射線膜厚計係可使用應用有X射線、β 射線或γ射線等之輻射線之膜厚計。鑒於作為測定對象之光學膜及附黏著劑層光學膜的厚度(如上所述，光學膜的厚度通常為5至200μm，黏著劑的厚度為0.5至5μm)，較佳為使用應用有X射線或β射線之輻射線膜厚計。

應用X射線之輻射線膜厚計(X射線膜厚計)，通常具有採用鈦靶材或鎢靶材等之X射線源管，並對此X射線源管施加電壓而產生X射線。應用β射線之輻射線膜厚計(β射線膜厚計)，通常以Pm147、氪85或Sr90作為射線源來產生β射線。從精確度更佳地測量黏著劑的厚度之觀點來看，β射線膜厚計中，較佳係使用以Pm147作為射線源之β射線膜厚計。

X射線膜厚計係與β射線膜厚計相比較，乃具有使輻射線穿透光學膜時之輻射線衰減量容易取決於光學膜的種類(材料)之傾向。因此，從上述檢量線求出光學膜本身的厚度時，必須因應光學膜種類的不同來重新製作檢量線、或是對不同種類的光學膜分別預先製作檢量線之情形，較β射線膜厚計更高。因此，在貼合於偏光膜之一方的面之第一光學膜與貼合於偏光膜之另一方的面之第二光學膜的種類不同之情形，或是在相同生產線中製造具有不同種類的光學膜之異種偏光板情形等時，為了得到黏著劑之更高的厚度測量精確度，有時較佳為使用β射線膜厚計。

從精確度更佳地測量黏著劑的厚度之觀點來看，輻射線膜厚計的測定點(輻射線照射區域照射在光學膜的面積)，較佳為直徑約10至30mm。此外，輻射線膜厚計於內線上的測定精確度，較佳為±0.15μm以下，尤佳為±0.1μm以下。為了達成該測定精確度，輻射線膜厚計的輻射線源較佳係使用能量強度高者，從可進行更高精確度的測定者來看，尤佳為使用未達半衰期之輻射線源。

此外，從黏著劑之厚度的測量值穩定性之觀點來看，輻射線膜厚計較佳為以可在0.005至1秒、尤其是以0.01至0.5秒的測量間隔來進行一次測量者，尤佳為可從所得之資料對連續的10至50000點的測量值求出移動平均並予以輸出者。例如，當對超過50000點的測量值求出移動平均，且測量間隔超過0.5秒時，測量值與實際厚度之偏離有時會變大。從同樣理由來看，若使用以0.005至1秒的測量間隔來進行一次測量，且可從所得之資料對連續的10至50000點的測量值輸出移動平均之膜厚計，則更為理想。

為了提升黏著劑的厚度的測量精確度，較佳係使在塗佈步驟(A)前之測量光學膜本身的厚度之輻射線膜厚計的設置位置、與在塗佈步驟(A)後之測量光學膜與黏著劑之合計厚度之輻射線膜厚計的設置位置，係在光學膜的寬度方向一致。此外，從同樣理由來看，較佳係在光學膜的長度方向(運送方向)使厚度測量點一致。再者，從同樣理由來看，2個輻射線膜厚計的設置間隔，較佳係沿著光學膜的長度方向設為10m以內，尤佳為1至5m。

(C)貼合步驟

在經過上述塗佈步驟(A)及測量步驟(B)後，係進行將偏光膜1分別重疊於第一、第二光學膜2、3的各黏著劑塗佈面並進行加壓之貼合步驟(C)。該步驟的加壓中，可使用一般所知的手段，從可一邊連續地運送一邊加壓之觀點來看，如第1圖所示，較佳是藉由一對軋輥20、21來夾持之方式。此時，將第一、第二光學膜2、3重疊於偏光膜1之時間點、與藉由一對軋輥20、21進行加壓之時間點，較佳為相同，即使不同，兩者的時間點之差愈短愈佳。一對軋輥20、21的組合亦可為金屬輥/金屬輥、金屬輥/橡膠輥、橡膠輥/橡膠輥等之任一種。加壓時的壓力係藉由一對軋輥20、21予以夾持時之線壓，較佳係設為約150至500N/cm。

(D)控制步驟

本發明中，係設置有：根據上述所說明之測量步驟(B)的結果，設有控制塗佈步驟(A)中之黏著劑的塗佈厚度之控制步驟(D)。亦即，塗佈步驟(A)中所塗佈之黏著劑的厚度，有時因黏著劑的溫度或周圍的環境溫度之不同，及第一、第二光學膜2、3的表面張力或施加於此之張力等之不同，而有若干的變動，有時會與所期望的塗佈厚度(設定厚度Y)產生偏離。為了修正此般塗佈厚度的偏離，可根據在測量步驟(B)中藉由輻射線膜厚計所測量之塗佈厚度(測量厚度X)來控制塗佈機所具有之塗佈厚度控制手段。

例如當塗佈機為壓模塗佈機時，於測量厚度X大於設定厚度Y時，係使從泵浦等送液至模具之能力降低，相反地，於測量厚度X小於設定厚度Y時，係使從泵浦等送液至模具之能力提高，藉此可控制塗佈厚度。此外，當塗佈機為使用凹版輥之刮刀座塗佈機時，於測量厚度X大於設定厚度Y時，係提高反轉凹版的轉數並提高旋轉周速度，以降低黏著劑的轉印量，相反地，於測量厚度X小於設定厚度Y時，係降低反轉凹版的轉數並降低旋轉周速度，以增加黏著劑的轉印量，藉此可控制塗佈厚度。

膜厚控制的程度係可實驗性地因應不同時候的環境因素、黏著劑的黏度、光學膜的表面形狀等而任意地設定。實際的控制係可使用電腦來進行，亦能以手動方式進行。

(E)硬化步驟

如上所述，將第一、第二光學膜2、3貼合於偏光膜1後，當黏著劑為活化能射線硬化型時，係經過藉由活化能射線之照射使黏著劑硬化之硬化步驟(E)後，製造出偏光板4。第1圖所示之例子中，該硬化步驟(E)係藉由從活化能射線照射裝置18，將活化能射線照射至在偏光膜1貼合有第一、第二光學膜2、3之積層體而進行。該步驟中，用以使活化能射線硬化型黏著劑硬化所需之能量，係越過第一光學膜2而照射。

具體而言，活化能射線係可使用電子束或紫外線，並因應黏著劑的硬化反應機構來選擇。電子束照射裝置係由於有遮蔽成使所產生之電子束不會洩露至外部之必要性，所以裝置的大小或重量會增大。另一方面，紫外線照射裝置係由於具有相對精巧的構造，所以較佳係使用由紫外線照射來進行硬化。

第1圖所示之例子中，活化能射線對經由黏著劑貼合有偏光膜1與第一、第二光學膜2、3之積層體之照射，是在位於活化能射線照射裝置18的前後之軋輥20、21與捲取前軋輥22、23之間，對積層體施加張力之狀態下進行。不限於此，例如在先前的專利文獻2(日本特開2009-134190號公報)所揭示，較佳為在支撐於沿著運送方向形成為圓弧狀之凸曲面、典型而言為輥的外周面之狀態下，照射活化能射線。尤其當藉由活化能射線的照射而產生熱，可對製品產生不良影響時，較佳為如後者般在積層體支撐於輥的外周面之狀態下照射活化能射線，此時，支撐積層體之輥，較佳係可在10至60℃的範圍內調節溫度。此外，活化能射線照射裝置係可在照射部位僅設置1個，或是沿著積層體的流動方向設置2個以上，且從複數個光源照射，對於有效地提高積算光量者亦為有效。

在照射紫外線使黏著劑硬化時，所使用之紫外線光源雖無特別限定，但可使用在波長400nm以下具有發光分布者，例如可使用低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵化物燈等。當使用以環氧化合物作為活化能射線硬化性成分之黏著劑時，考量到一般的光聚合起始劑所顯現之吸收波長，較佳係使用具有較多400nm以下的光之高壓汞燈或金屬鹵化物燈作為紫外線光源。

當將紫外線照射至以環氧化合物作為硬化性成分之黏著劑並予以硬化時，積層體的生產線速度雖無特別限定，但一般而言可維持塗佈步驟(A)或貼合步驟(C)中的生產線速度。此外，較佳係以一邊在積層體的長度方向(運送方向)施加100至1000N/m的張力，一邊使對於聚合起始劑的活化為有效之波長區域的照射量以積算光量(照射在積層體之總能量)計成為100至1500mJ/cm²之方式照射紫外線。當照射至黏著劑之紫外線的積算光量過少時，活化能射線硬化型黏著劑的硬化反應不足，難以顯現充分的黏著強度，另一方面，當積算光量過大時，由於從光源所輻射之熱以及在黏著劑聚合時所產生之熱，可能引起活化能射線硬化型黏著劑的黃變或偏光膜的劣化。

此外，當欲以1次的紫外線照射來達成必要的積算光量時，有時亦會因發熱而使膜到達超過150℃之高溫，此時可能會引起偏光膜的劣化等。為了避免此事態，如先前所述沿著膜的運送方向設置複數個紫外線照射裝置，並分成複數次照射者亦為有效。就該標準而言較佳為：來自一處的紫外線照射裝置之照射量，以積算光量計為600mJ/cm²以下，且最終可得到如上述般之100至1500mJ/cm²的積算光量。

以上述方式製造出之偏光板，黏著劑的厚度被控制在所設定之範圍內，構成偏光板之膜間之黏著強度的變異小，黏著劑層中的氣泡缺陷等亦少，作為製品的品質穩定性亦佳。

實施例

以下係顯示實施例及比較例來更具體地說明本發明，但本發明並不限定於此等例。以下所示之實驗，係用以確認本發明之效果而進行，例如，在此係附加說明：夾持偏光膜且塗佈在與測定厚度後之黏著劑為相反側之黏著劑的厚度，係以於該處不會產生缺陷之方式，較實際操作中所採用之最適值設定為較厚。

第3圖係概略地顯示以下實施例及比較例中所使用之製造裝置之側視圖。第3圖所示之製造裝置係與先前所說明之第1圖相比，僅有下列2點不同，對於不同點以外的部位，係標記與第1圖相同之符號，所以此等部位的詳細說明，可參考第1圖的說明。

[第3圖相對於第1圖之不同點]

(1)在將活化能射線(紫外線)照射至在偏光膜1的雙面分別貼合有第一光學膜2及第二光學膜3後之積層體時，係一邊使該積層體的第二光學膜3側密接於照射用捲繞輥 26的外周面，一邊夾持該積層體，從配置在照射用捲繞輥26的相反側之活化能射線(紫外線)照射裝置18，將紫外線照射在積層體的第一光學膜2側之點；以及

(2)由於僅具有1座(2台)輻射線膜厚計，所以藉由第一、第二輻射線膜厚計14、15來測量塗佈於第一光學膜2之黏著劑的厚度，而未測定塗佈於第二光學膜3之黏著劑的厚度。

第一、第二輻射線膜厚計14、15，係使用 Nanogray股份有限公司製之附有顯示器之認證機器的β射線膜厚計「SB-1100」(β射線源：Pm-147)。該β射線膜厚計係由使輻射線穿透光學膜時之衰減量來求出膜厚，線內之膜厚的測定精確度係設為約±0.1μm。以每個預先設定的測量間隔，測量被測定物的膜厚，且在同樣預先設定的測量次數時，對以上所測量之個別的膜厚值進行移動平均，並輸出此期間的平均膜厚，並且在預先設定的次數之測量值中，自動地排除判定為異常值之資料來輸出平均膜厚。

[實施例1]

(0)實驗所使用之材料

該例中，第一光學膜2係使用厚度40μm、寬度1330mm，且從輥所供給之由三乙酸纖維素所構成之雙軸配向性相位差膜「KC4FR-1」[從Konica Minolta Opto股份有限公司取得，折射率1.48]，第二光學膜3係使用厚度80μm、寬度1330mm，且仍是從輥所供給之三乙酸纖維素膜「KC8UX2MW」[從Konica Minolta Opto股份有限公司取得，折射率1.48]。偏光膜1與第一光學膜2的黏著時所使用之黏著劑，以及偏光膜1與第二光學膜3的黏著時所使用之黏著劑，均為含有環氧化合物與光聚合起始劑，且實質上不含溶劑之環氧系光硬化型黏著劑。

(A)塗佈步驟

將在聚乙烯醇吸附配向有碘之厚度25μm的偏光膜1、作為第一光學膜2之上述相位差膜、以及作為第二光學膜3之上述三乙酸纖維素膜，分別以15m/分的生產線速度且流動方向為相同之方式來供給。使用具備有凹版輥11之第一塗佈機10[富士機械股份有限公司製的「微刮刀座」]，將上述環氧系光硬化型黏著劑塗佈於經過後述測量步驟(B)的前半步驟(測量光學膜本身的厚度之步驟)之相位差膜2貼合於偏光膜1的貼合面。此外，使用具備有凹版輥13之第二塗佈機12[同樣為富士機械股份有限公司製的「微刮刀座」]，亦將上述環氧系光硬化型黏著劑塗佈於三乙酸纖維素膜3貼合於偏光膜1的貼合面。

設置於第一、第二塗佈機10、12之凹版輥 11、13係相對於膜的運送方向反向地旋轉。此外，在三乙酸纖維素膜3側的第二塗佈機12中，將該塗佈機12所具備之凹版輥13的旋轉周速度設為15m/分，並設定為以約4.5μm的厚度將黏著劑塗佈於膜上。此係由於在第二塗佈機12中未測量黏著劑的厚度，所以未進行該膜厚控制，而以幾乎不會顯現缺陷之厚度來塗佈黏著劑之故。於相位差膜2側，將第一塗佈機10所具備之凹版輥11的旋轉周速度初期設定為21m/分，並設定為以約2.5μm的厚度塗佈黏著劑。

(B)測量步驟

將第一輻射線膜厚計14配置在第一塗佈機10的上游側，將第二輻射線膜厚計15配置在第一塗佈機10的下游側。兩塗佈機之沿著膜流動方向之間隔係設為1.67μm。藉由第一輻射線膜厚計14，以0.2秒的間隔測量相位差膜2的厚度，並設定為對每個{(2²)²}²=2⁶=256次的連續測量值(約51.2秒)，依序輸出移動平均值(前半步驟)。

此外，藉由在經過上述塗佈步驟後所配置之第二輻射線膜厚計15，從相位差膜2之黏著劑塗佈面側，仍以0.2秒的間隔測量相位差膜2與黏著劑的合計膜厚，並設定為對每個256次的連續測量值(約51.2秒)依序輸出移動平均值(後半步驟之1)。因此，從開始至經過得到256次份的測量值之約51.2秒後，每隔0.2秒從第一輻射線膜厚計14輸出相位差膜2的厚度之移動平均值，並從第二輻射線膜厚計15輸出相位差膜2與黏著劑的合計膜厚之移動平均值，惟分別於每隔1秒抽選出該值，並將該時間點中之前者的值(相位差膜2的厚度之測量值=A)與後者的值(相位差膜2與黏著劑的合計膜厚之測量值=B)之差(B-A)，依序記錄為測量厚度X而設定(後半步驟之2)。因此，設置後述控制步驟(D)，一邊控制上述測量厚度X一邊進行約150分鐘的操作，以求出此期間所得之測量厚度X(資料數係以約150分鐘×60個/分計，約9000個)的平均值及標準差，結果如第1表所示。

(C)貼合步驟

將塗佈有黏著劑之相位差膜2及三乙酸纖維素膜3的各黏著劑貼合面重疊於偏光膜1，藉由貼合用軋輥20、21並以240N/cm的線壓予以夾持。通過軋輥20、21後之相位差膜2/偏光膜1/三乙酸纖維素膜3的積層體，係以使該三乙酸纖維素膜3側密接於設定在20℃之照射用捲繞輥26的外周面之方式，在長度方向施加600N的張力，並以與貼合前相同之生產線速度15m/分，一邊將來自紫外線照射裝置18之紫外線往相位差膜2側照射一邊運送。紫外線照射裝置18為GS Yuasa股份有限公司製，並從該裝置所具備之紫外線燈的「EHAN1700NAL高壓汞燈」的兩燈中照射紫外線。紫外線的積算光量，兩燈合計為330mJ/cm²。如此使黏著劑層硬化，而製作出在偏光膜1的單面貼合有相位差膜2，且在另一面貼合有三乙酸纖維素膜3之偏光板4，並捲取於捲取輥30。

(D)控制步驟

控制步驟中，當在上述測量步驟(B)中所求出之測量厚度X比設定厚度Y=2.5μm差距5%以上時，亦即|X-Y|≧0.125μm時，一邊以0.5m/分的單位對第一塗佈機10所設置之凹版輥11的旋轉周速度進行增減速，一邊控制黏著劑的塗佈厚度。

[比較例1]

實施例1中，係不設置控制步驟(D)，亦即，即使在測量步驟(B)中所求得之測量厚度X產生變化，亦不會改變第一塗佈機10所具備之凹版輥11的旋轉速度來製造積層體，接著同樣地進行紫外線照射而製作出偏光板。進行約150分鐘的操作後之測量厚度X的平均值及標準偏差，如第1表所示。

[比較例2]

實施例1中，係不設置第一輻射線膜厚計14，並且使用大塚電子股份有限公司製之分光波長區域設為230至800nm的反射分光膜厚計「FE-2900CCD」來取代第二輻射線膜厚計15，在測量步驟(B)中，藉由該反射分光膜厚計來嘗試直接測量該黏著劑的塗佈厚度，除此之外，其他與實施例1相同地製作出偏光板。然而，由於由用來作為第一光學膜2之三乙酸纖維素所構成之相位差膜的折射率(1.48)接近於黏著劑的折射率(1.49)，所以無法測量黏著劑的厚度，因此無法進行黏著劑的塗佈厚度控制。

[實施例2]

實施例1中，係將厚度38μm、寬度1330mm的雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二酯膜[從三菱樹脂股份有限公司取得，面內相位差值1000nm]用來作為第一光學膜2，來取代由三乙酸纖維素所構成之雙軸配向性相位差膜「KC4FR-1」，除此之外，其他與實施例1相同地製作出偏光板。進行約150分鐘的操作後之測量厚度X的平均值及標準偏差，如第1表所示。

[比較例3]

實施例2中，係不設置控制步驟(D)，亦即，即使在測量步驟(B)中所求得之測量厚度X產生變化，亦不會改變第一塗佈機10所具備之凹版輥11的旋轉速度來製造積層體，接著同樣地進行紫外線照射而製作出偏光板。進行約150分鐘的操作後之測量厚度X的平均值及標準偏差，如第1表所示。

[偏光板的缺陷評估試驗]

上述實施例及比較例中，在由寬度1330mm所得之偏光板中，分別扣除兩端的40mm寬度部分，以中央的1250mm寬度部分為有效寬度，對於在該有效寬度內涵蓋流動方向3300mm的長度之面(1.25m×3.3m≒4m²)，以經過目視觀察成為亮點之處作為標記，然後以放大倍率100倍的放大鏡來觀察該標記處並確認是否有氣泡，若為氣泡，則以下列要領來求出該大小。亦即，若所觀察的氣泡為虛擬橢圓形(包含圓形)，則以最長徑為氣泡的大小，若氣泡為線狀，則以該線的長度為氣泡的大小。算出大小為100μm以上的氣泡數，當該數目於每1m²少於0.3個時，亦即在所觀察之4m²的面積中為0個或1個時，判定為「OK」，該數目於每1m²為0.3個以上時、亦即在所觀察之4m²之面積中為2個以上時，判定為「NG」，並將結果與主要變數一同彙總於第1表中。

表中，位於光學膜的欄之「TAC」為三乙酸纖維素，「PET」為聚對苯二甲酸乙二酯。以放大鏡所觀察之100μm以上的大小之氣泡，係在以包含該氣泡之方式將膜裁切成40mm×40mm的大小並藉由顯微鏡來觀察時，可確認到皆位於偏光膜1與第一光學膜2之間所介置之黏著劑層。

如第1表所示，可得知未設置控制步驟(D) 之比較例1及比較例3，黏著劑的測量厚度會產生變動，且伴隨於此而在所得之偏光板中觀察到氣泡缺陷，相對於此，設置控制步驟(D)，且在黏著劑的測量厚度X比設定厚度Y差距5%以上時變更塗佈厚度之實施例1及2，係與設定厚度Y相比較可將測量厚度抑制在大致5%以內的變動，且氣泡缺陷亦少。另一方面，如比較例2般使用分光波長區域設為800nm以下的相對寬廣範圍之反射分光膜厚計時，當黏著劑的折射率與光學膜的折射率之差幾乎不存在差距時，乃無法測量黏著劑的塗佈厚度。