JPH11104562A - 硬化塗膜の製造方法及び硬化物 - Google Patents
硬化塗膜の製造方法及び硬化物Info
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- JPH11104562A JPH11104562A JP9271700A JP27170097A JPH11104562A JP H11104562 A JPH11104562 A JP H11104562A JP 9271700 A JP9271700 A JP 9271700A JP 27170097 A JP27170097 A JP 27170097A JP H11104562 A JPH11104562 A JP H11104562A
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- film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】紫外線硬化法において、連続して極薄膜の塗膜
を形成する際に、紫外線照射部分の酸素濃度を下げるこ
とにより、硬度や耐擦傷性に優れた硬化塗膜の製造方法
を提供すること。 【解決手段】支持体１上に塗布した膜厚０．００５〜１
μｍの紫外線硬化性塗膜をガイドロール２で紫外線照射
室４まで導き、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保った紫
外線照射室４内で硬化させることを特徴とする膜厚０．
００５〜１μｍの硬化塗膜の製造方法。
を形成する際に、紫外線照射部分の酸素濃度を下げるこ
とにより、硬度や耐擦傷性に優れた硬化塗膜の製造方法
を提供すること。 【解決手段】支持体１上に塗布した膜厚０．００５〜１
μｍの紫外線硬化性塗膜をガイドロール２で紫外線照射
室４まで導き、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保った紫
外線照射室４内で硬化させることを特徴とする膜厚０．
００５〜１μｍの硬化塗膜の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックフィ
ルム等の支持体に超薄膜の硬化塗膜を連続的に形成する
方法及び硬化物に関する。
ルム等の支持体に超薄膜の硬化塗膜を連続的に形成する
方法及び硬化物に関する。
【０００２】
【従来の技術】乾燥膜厚が１μｍ以下である超薄膜の硬
化塗膜を支持体に施すことにより、種々の機能を支持体
上に付与することが出来る。例えば、従来からプラスチ
ックフィルム等の支持体上に反射防止膜として固形分を
塗工し、乾燥膜厚約０．１μｍの塗膜を設けることによ
り、支持体の表面反射率を減少させることが行われてい
る。
化塗膜を支持体に施すことにより、種々の機能を支持体
上に付与することが出来る。例えば、従来からプラスチ
ックフィルム等の支持体上に反射防止膜として固形分を
塗工し、乾燥膜厚約０．１μｍの塗膜を設けることによ
り、支持体の表面反射率を減少させることが行われてい
る。
【０００３】この様な超薄膜の塗工は、現在、真空コー
ティング法、化学反応法（ＣＶＴ）、プラズマ重合法、
浸漬法、スピンコート法、ＬＢ膜法等で行われている。
しかしこれらの方法では大面積の支持体の塗工を行うこ
とが困難であり、連続生産も不可能であり生産性が低と
いう欠点があった。しかも、これらの従来法では、本発
明で目的としている１μｍ以下の膜厚の塗膜を作製する
上で、耐擦傷性や硬度などの物性的特性を満足する超薄
膜を得ることが困難であった。例えば、紫外線硬化法ま
たは電子線硬化法を用いて、連続的かつ非常に均一な膜
厚で超薄膜の塗工を行う場合、ラジカル反応が大気中の
酸素との競争反応となり、膜中の炭素−炭素二重結合の
反応速度が非常に遅いという欠点がある。この様な条件
下で耐擦傷性や硬度などの物性的特性を満足する超薄膜
を連続的に製造することはこれまで困難であった。
ティング法、化学反応法（ＣＶＴ）、プラズマ重合法、
浸漬法、スピンコート法、ＬＢ膜法等で行われている。
しかしこれらの方法では大面積の支持体の塗工を行うこ
とが困難であり、連続生産も不可能であり生産性が低と
いう欠点があった。しかも、これらの従来法では、本発
明で目的としている１μｍ以下の膜厚の塗膜を作製する
上で、耐擦傷性や硬度などの物性的特性を満足する超薄
膜を得ることが困難であった。例えば、紫外線硬化法ま
たは電子線硬化法を用いて、連続的かつ非常に均一な膜
厚で超薄膜の塗工を行う場合、ラジカル反応が大気中の
酸素との競争反応となり、膜中の炭素−炭素二重結合の
反応速度が非常に遅いという欠点がある。この様な条件
下で耐擦傷性や硬度などの物性的特性を満足する超薄膜
を連続的に製造することはこれまで困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、紫外
線硬化法において、連続して極薄膜の塗膜を形成する際
に、紫外線照射部分の酸素濃度を下げることにより、硬
度や耐擦傷性に優れた硬化塗膜を製造する方法を提供す
る事にある。
線硬化法において、連続して極薄膜の塗膜を形成する際
に、紫外線照射部分の酸素濃度を下げることにより、硬
度や耐擦傷性に優れた硬化塗膜を製造する方法を提供す
る事にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点に鑑み鋭意検討した結果、極薄膜の塗膜を形成する際
に、酸素濃度を下げることによって硬度や耐擦傷性の高
い塗膜が塗工可能である事を見いだし、本発明を完成し
た。すなわち本発明は、次の［１］〜［８］の硬化塗膜
の製造方法並びに硬化塗膜、及び反射防止性フィルムで
ある。 ［１］支持体上に塗布した膜厚０．００５〜１μｍの紫
外線硬化性塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って
紫外線により硬化させることを特徴とする膜厚０．００
５〜１μｍの硬化塗膜の製造方法。 ［２］塗布した膜厚０．００５〜１μｍの紫外線硬化性
塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って紫外線によ
り硬化させることを、単一の支持体上にｎ回繰り返して
行うことを特徴とする塗工膜厚ｎ×（０．００５〜１）
μｍの硬化塗膜の製造方法。 ［３］紫外線硬化性塗膜が、光反応性の重合性官能基を
持つ重合性単量体及び０．０１〜１５重量％の光重合開
始剤を必須成分として含んでいることを特徴とする上記
［１］又は［２］の硬化塗膜の製造方法。 ［４］重合性単量体が含フッ素アクリレートを含み、硬
化塗膜の屈折率が１．５以下であることを特徴とする上
記［３］の硬化塗膜の製造方法。 ［５］上記［１］〜［４］のいずれかの硬化塗膜の製造
方法により製造された硬化塗膜。 ［６］支持体にプラスチックフィルムを用いて上記
［４］の硬化塗膜の製造方法により得た屈折率１．５以
下の硬化塗膜を有することを特徴とする反射防止性フィ
ルム。 ［７］上記［２］の硬化塗膜の製造方法により、支持体
にプラスチックフィルムを用いて得た塗工膜厚ｎ×
（０．００５〜１）μｍの硬化塗膜を有するプラスチッ
クフィルムの硬化塗膜最外面に、含フッ素アクリレート
を含有する重合性単量体と０．０１〜１５重量％の光重
合開始剤とを必須成分として含む膜厚０．００５〜１μ
ｍの紫外線硬化性塗膜を塗布し、酸素濃度１０００ｐｐ
ｍ以下に保って紫外線により硬化させ、屈折率１．５以
下で膜厚０．００５〜１μｍの反射防止硬化塗膜を、塗
工膜厚ｎ×（０．００５〜１）μｍの硬化塗膜を有する
プラスチックフィルムの硬化塗膜最外面上に形成するこ
とを特徴とする反射防止性フィルムの製造方法。 ［８］上記［７］の製造方法により製造された反射防止
フィルム。
点に鑑み鋭意検討した結果、極薄膜の塗膜を形成する際
に、酸素濃度を下げることによって硬度や耐擦傷性の高
い塗膜が塗工可能である事を見いだし、本発明を完成し
た。すなわち本発明は、次の［１］〜［８］の硬化塗膜
の製造方法並びに硬化塗膜、及び反射防止性フィルムで
ある。 ［１］支持体上に塗布した膜厚０．００５〜１μｍの紫
外線硬化性塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って
紫外線により硬化させることを特徴とする膜厚０．００
５〜１μｍの硬化塗膜の製造方法。 ［２］塗布した膜厚０．００５〜１μｍの紫外線硬化性
塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って紫外線によ
り硬化させることを、単一の支持体上にｎ回繰り返して
行うことを特徴とする塗工膜厚ｎ×（０．００５〜１）
μｍの硬化塗膜の製造方法。 ［３］紫外線硬化性塗膜が、光反応性の重合性官能基を
持つ重合性単量体及び０．０１〜１５重量％の光重合開
始剤を必須成分として含んでいることを特徴とする上記
［１］又は［２］の硬化塗膜の製造方法。 ［４］重合性単量体が含フッ素アクリレートを含み、硬
化塗膜の屈折率が１．５以下であることを特徴とする上
記［３］の硬化塗膜の製造方法。 ［５］上記［１］〜［４］のいずれかの硬化塗膜の製造
方法により製造された硬化塗膜。 ［６］支持体にプラスチックフィルムを用いて上記
［４］の硬化塗膜の製造方法により得た屈折率１．５以
下の硬化塗膜を有することを特徴とする反射防止性フィ
ルム。 ［７］上記［２］の硬化塗膜の製造方法により、支持体
にプラスチックフィルムを用いて得た塗工膜厚ｎ×
（０．００５〜１）μｍの硬化塗膜を有するプラスチッ
クフィルムの硬化塗膜最外面に、含フッ素アクリレート
を含有する重合性単量体と０．０１〜１５重量％の光重
合開始剤とを必須成分として含む膜厚０．００５〜１μ
ｍの紫外線硬化性塗膜を塗布し、酸素濃度１０００ｐｐ
ｍ以下に保って紫外線により硬化させ、屈折率１．５以
下で膜厚０．００５〜１μｍの反射防止硬化塗膜を、塗
工膜厚ｎ×（０．００５〜１）μｍの硬化塗膜を有する
プラスチックフィルムの硬化塗膜最外面上に形成するこ
とを特徴とする反射防止性フィルムの製造方法。 ［８］上記［７］の製造方法により製造された反射防止
フィルム。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明で用いられる支持体は、目
的に応じ適宜選択でき、通常支持体として用いることが
できるものであれば無機ガラスや金属薄板、木板、石
板、プラスチック等、制限はないが、例えばポリエステ
ル、ポリアクリル、ポリウレタン、ポリオレフィン、ポ
リカーボネート、トリアセチルセルロース、ジアセチル
セルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエ
ーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメ
チルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリアクリロニト
リルなどの素材からなるプラスチックフィルムやプラス
チックシート等が特に好ましく用いられる。
的に応じ適宜選択でき、通常支持体として用いることが
できるものであれば無機ガラスや金属薄板、木板、石
板、プラスチック等、制限はないが、例えばポリエステ
ル、ポリアクリル、ポリウレタン、ポリオレフィン、ポ
リカーボネート、トリアセチルセルロース、ジアセチル
セルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエ
ーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメ
チルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリアクリロニト
リルなどの素材からなるプラスチックフィルムやプラス
チックシート等が特に好ましく用いられる。
【０００７】支持体の厚さは目的に応じて適宜選択され
るが、本発明を利用して硬化塗膜を有するフィルムを製
造する場合には、支持体の厚さは１μｍ以上５００μｍ
以下であることが好ましく、更には１０μｍ以上２５０
μｍ以下の厚さであることが好ましい。また硬化塗膜を
有するシートを製造する場合には、支持体の厚さは１μ
ｍ以上１０ｃｍ以下であることが好ましい。
るが、本発明を利用して硬化塗膜を有するフィルムを製
造する場合には、支持体の厚さは１μｍ以上５００μｍ
以下であることが好ましく、更には１０μｍ以上２５０
μｍ以下の厚さであることが好ましい。また硬化塗膜を
有するシートを製造する場合には、支持体の厚さは１μ
ｍ以上１０ｃｍ以下であることが好ましい。
【０００８】本発明の紫外線硬化性塗膜は通常紫外線照
射によって重合が可能な成分を含む塗工液であればいか
なるものでもかまわないが、好ましくは重合性単量体、
光重合開始剤等の固形分と、溶媒等を場合により適量混
合してなるものである。勿論、本発明の紫外線硬化性塗
膜には、この他、本発明に示される特徴を妨げない範囲
で、他の如何なる素材、試薬、物品などを配合して用い
てもよい。
射によって重合が可能な成分を含む塗工液であればいか
なるものでもかまわないが、好ましくは重合性単量体、
光重合開始剤等の固形分と、溶媒等を場合により適量混
合してなるものである。勿論、本発明の紫外線硬化性塗
膜には、この他、本発明に示される特徴を妨げない範囲
で、他の如何なる素材、試薬、物品などを配合して用い
てもよい。
【０００９】尚、本発明において紫外線硬化性塗膜と
は、紫外線硬化前の塗膜又は紫外線硬化性の塗工液を呼
称するものであり、硬化塗膜とは、紫外線硬化後の塗膜
を呼称するものである。
は、紫外線硬化前の塗膜又は紫外線硬化性の塗工液を呼
称するものであり、硬化塗膜とは、紫外線硬化後の塗膜
を呼称するものである。
【００１０】本発明の紫外線硬化性塗膜に含まれる重合
性単量体としては、紫外線硬化の可能な重合性単量体で
あり塗膜成分として適した物であればいかなる物を用い
てもよく、単官能性単量体又は多官能性重合性単量体の
いずれであっても用いることができる。好ましくは（メ
タ）アクリル酸とそのアルキルエステルや、フマル酸、
マレイン酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、
テトラヒドロフタル酸等の不飽和多塩基酸及びそれらの
アルキルエステル、或いは脂肪酸のビニルエステルや、
スチレン類、ビニルアルキルエーテル、ビニルアルキル
ケトン類等を用いることが出来る。特に好ましくは（メ
タ）アクリル酸メチル、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）ア
クリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）
アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレ
ート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、
１，１，１−トリス（アクリロイルオキシエトキシエト
キシ）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロイルオキ
シエトキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキ
シル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロイルオキ
シエトキシエトキシフェニル）メタン、ネオペンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、水添ジシクロペンタ
ジエニルジ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシ
エチル）イソシアヌレートトリアクリレート、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、イ
ソボルニルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリ
コールジ（メタ）アクリレートや、フマル酸ジイソプロ
ピル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、α
−メチルスチレン、酢酸アリル、ドデシルビニルエーテ
ル、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等を用い
ることが出来る。重合性単量体の含量は適宜定められる
が、紫外線硬化性塗膜の塗工液全量に対し、およそ５重
量％〜１００重量％であることが好ましい。
性単量体としては、紫外線硬化の可能な重合性単量体で
あり塗膜成分として適した物であればいかなる物を用い
てもよく、単官能性単量体又は多官能性重合性単量体の
いずれであっても用いることができる。好ましくは（メ
タ）アクリル酸とそのアルキルエステルや、フマル酸、
マレイン酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、
テトラヒドロフタル酸等の不飽和多塩基酸及びそれらの
アルキルエステル、或いは脂肪酸のビニルエステルや、
スチレン類、ビニルアルキルエーテル、ビニルアルキル
ケトン類等を用いることが出来る。特に好ましくは（メ
タ）アクリル酸メチル、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）ア
クリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）
アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレ
ート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、
１，１，１−トリス（アクリロイルオキシエトキシエト
キシ）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロイルオキ
シエトキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキ
シル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロイルオキ
シエトキシエトキシフェニル）メタン、ネオペンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、水添ジシクロペンタ
ジエニルジ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシ
エチル）イソシアヌレートトリアクリレート、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、イ
ソボルニルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリ
コールジ（メタ）アクリレートや、フマル酸ジイソプロ
ピル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、α
−メチルスチレン、酢酸アリル、ドデシルビニルエーテ
ル、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等を用い
ることが出来る。重合性単量体の含量は適宜定められる
が、紫外線硬化性塗膜の塗工液全量に対し、およそ５重
量％〜１００重量％であることが好ましい。
【００１１】本発明の紫外線硬化性塗膜に含まれる光重
合開始剤としては、通常使用される光重合開始剤であれ
ば如何なるものでもかまわないが、使用する重合性単量
体の種類や紫外線照射装置の分光波長等により適宜選択
することができる。例えば、好ましくはベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン化合物
や、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ミヒラーズケト
ン等のカルボニル化合物、或いはアゾビスイソブチロニ
トリル、アゾジベンゾベンゾイルなどのアゾ化合物や、
アルキルチオキサントン類、αジケトンと三級アミンの
混合物等を用いることが出来る。光重合開始剤は混合し
て用いてもよい。紫外線硬化性塗膜中の光重合開始剤の
含量は、塗工条件に応じて適宜定めてもよいが、好まし
くは塗工液中の全固形分量のうち０．０１〜１５重量％
を用いることができ、さらに好ましくは０．１〜１０重
量％を用いることができる。
合開始剤としては、通常使用される光重合開始剤であれ
ば如何なるものでもかまわないが、使用する重合性単量
体の種類や紫外線照射装置の分光波長等により適宜選択
することができる。例えば、好ましくはベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン化合物
や、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ミヒラーズケト
ン等のカルボニル化合物、或いはアゾビスイソブチロニ
トリル、アゾジベンゾベンゾイルなどのアゾ化合物や、
アルキルチオキサントン類、αジケトンと三級アミンの
混合物等を用いることが出来る。光重合開始剤は混合し
て用いてもよい。紫外線硬化性塗膜中の光重合開始剤の
含量は、塗工条件に応じて適宜定めてもよいが、好まし
くは塗工液中の全固形分量のうち０．０１〜１５重量％
を用いることができ、さらに好ましくは０．１〜１０重
量％を用いることができる。
【００１２】本発明の紫外線硬化性塗膜は溶媒を必要と
しない場合もあるが、必要に応じて溶媒を加えることも
できる。本発明の紫外線硬化性塗膜に使用される溶媒と
しては、通常一般に使用する溶媒として適当な物なら特
に限定されないが、紫外線硬化性塗膜の成分等に応じて
適宜選択することができる。例えば、溶媒による紫外線
硬化性塗膜の固形分の溶解性又は分散性や、支持体に対
する濡れ性、或いは塗布する際の乾燥条件等を指標にし
て選択することができる。
しない場合もあるが、必要に応じて溶媒を加えることも
できる。本発明の紫外線硬化性塗膜に使用される溶媒と
しては、通常一般に使用する溶媒として適当な物なら特
に限定されないが、紫外線硬化性塗膜の成分等に応じて
適宜選択することができる。例えば、溶媒による紫外線
硬化性塗膜の固形分の溶解性又は分散性や、支持体に対
する濡れ性、或いは塗布する際の乾燥条件等を指標にし
て選択することができる。
【００１３】特に好ましい溶媒としては、ヘキサン、ト
ルエン、キシレン、ベンゾトリフルオリド、ジイソプロ
ピルエーテル、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、
酢酸ブチル、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢
酸プロピル、メチルイソブチルケトン等を用いることが
できる。溶媒の含量は、紫外線硬化性塗膜の塗工液とし
ての性状を損なわない範囲で適宜定めることができる
が、好ましくは溶媒に対し固形分濃度が０．１重量％〜
９９重量％になる範囲内で含められる。
ルエン、キシレン、ベンゾトリフルオリド、ジイソプロ
ピルエーテル、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、
酢酸ブチル、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢
酸プロピル、メチルイソブチルケトン等を用いることが
できる。溶媒の含量は、紫外線硬化性塗膜の塗工液とし
ての性状を損なわない範囲で適宜定めることができる
が、好ましくは溶媒に対し固形分濃度が０．１重量％〜
９９重量％になる範囲内で含められる。
【００１４】本発明の紫外線硬化性塗膜を、膜厚０．０
０５〜１μｍの厚さで支持体に塗布する塗工方法として
は、紫外線硬化性塗膜の塗工液を支持体上に連続的に塗
布する方法であり、かつ膜厚０．００５〜１μｍの塗工
膜厚を形成する方法であれば、通常行われるいかなる方
法を用いても良い。特にグラビアロールを用いた塗工方
法は薄膜形成が容易なため、硬化塗膜を有するフィルム
を製造する場合に好ましく用いられる。グラビアロール
法としては、直接塗工液を支持体に塗布するダイレクト
方式や、グラビアロールと支持体との間にオフセットロ
ールを配置するオフセット方式等の方法が好ましく用い
られる。またディップコート法やスピンコート法等の塗
工方法を、硬化塗膜を有するシートを製造する場合に用
いてもよい。またその他の最適な塗工方法を支持体の種
類に応じて適宜試みることも一向にかまわない。
０５〜１μｍの厚さで支持体に塗布する塗工方法として
は、紫外線硬化性塗膜の塗工液を支持体上に連続的に塗
布する方法であり、かつ膜厚０．００５〜１μｍの塗工
膜厚を形成する方法であれば、通常行われるいかなる方
法を用いても良い。特にグラビアロールを用いた塗工方
法は薄膜形成が容易なため、硬化塗膜を有するフィルム
を製造する場合に好ましく用いられる。グラビアロール
法としては、直接塗工液を支持体に塗布するダイレクト
方式や、グラビアロールと支持体との間にオフセットロ
ールを配置するオフセット方式等の方法が好ましく用い
られる。またディップコート法やスピンコート法等の塗
工方法を、硬化塗膜を有するシートを製造する場合に用
いてもよい。またその他の最適な塗工方法を支持体の種
類に応じて適宜試みることも一向にかまわない。
【００１５】本発明における硬化塗膜は、酸素濃度を１
０００ｐｐｍ以下に保った条件で、支持体上に塗布した
膜厚０．００５〜１μｍの紫外線硬化性塗膜を紫外線照
射により重合硬化することにより得ることができる。よ
り詳細には、例えば図１に示される紫外線照射式硬化装
置を用いて、支持体１上に塗布した膜厚０．００５〜１
μｍの紫外線硬化性塗膜を、ガイドロール２で紫外線照
射室４まで導き、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保った
紫外線照射室４内で紫外線照射により硬化させることで
膜厚０．００５〜１μｍの硬化塗膜を得ることができ
る。
０００ｐｐｍ以下に保った条件で、支持体上に塗布した
膜厚０．００５〜１μｍの紫外線硬化性塗膜を紫外線照
射により重合硬化することにより得ることができる。よ
り詳細には、例えば図１に示される紫外線照射式硬化装
置を用いて、支持体１上に塗布した膜厚０．００５〜１
μｍの紫外線硬化性塗膜を、ガイドロール２で紫外線照
射室４まで導き、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保った
紫外線照射室４内で紫外線照射により硬化させることで
膜厚０．００５〜１μｍの硬化塗膜を得ることができ
る。
【００１６】この時、酸素濃度１０００ｐｐｍを越えた
条件で紫外線照射を行った場合は、紫外線硬化性塗膜の
硬化度が不足し、そのため硬化塗膜の耐擦傷性、硬度、
耐久性の欠如、紫外線硬化性塗膜にタックが生じること
による裏写り等が発生しやすい。また多層塗りの場合に
は、硬化が不完全であれば、溶媒による下層の溶解など
の原因により、硬化塗膜の性能に大幅な低下を引き起こ
すことがあるため、酸素濃度を低く保つことは一層重要
である。
条件で紫外線照射を行った場合は、紫外線硬化性塗膜の
硬化度が不足し、そのため硬化塗膜の耐擦傷性、硬度、
耐久性の欠如、紫外線硬化性塗膜にタックが生じること
による裏写り等が発生しやすい。また多層塗りの場合に
は、硬化が不完全であれば、溶媒による下層の溶解など
の原因により、硬化塗膜の性能に大幅な低下を引き起こ
すことがあるため、酸素濃度を低く保つことは一層重要
である。
【００１７】紫外線照射時に紫外線照射室の酸素濃度を
１０００ｐｐｍ以下に保つには、紫外線硬化性塗膜や支
持体に重大な影響を与えない範囲で、種々の方法を用い
ることができる。例えば、紫外線照射室中に窒素ガスや
アルゴンガス等の不活性ガスを常時導入し、充満する方
法等を好ましく用いることができる。このとき、紫外線
照射室の室内体積は極力少なくして気密性を高めておく
とよい。また、紫外線硬化性塗膜の紫外線照射を受ける
部位が、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の低酸素雰囲気に
維持されるならば、例えば照射室を含む装置周辺部分全
体を完全気密化して、真空ポンプで減圧する等の手段を
用いることもできる。このうち、特に紫外線照射部分近
傍に窒素ガスを通気する方法は、減圧装置など特殊な設
備を必要とせず簡便であることから好ましく行われ、例
えば図１に示す構造の紫外線照射式硬化装置を好ましく
用いることができる。
１０００ｐｐｍ以下に保つには、紫外線硬化性塗膜や支
持体に重大な影響を与えない範囲で、種々の方法を用い
ることができる。例えば、紫外線照射室中に窒素ガスや
アルゴンガス等の不活性ガスを常時導入し、充満する方
法等を好ましく用いることができる。このとき、紫外線
照射室の室内体積は極力少なくして気密性を高めておく
とよい。また、紫外線硬化性塗膜の紫外線照射を受ける
部位が、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の低酸素雰囲気に
維持されるならば、例えば照射室を含む装置周辺部分全
体を完全気密化して、真空ポンプで減圧する等の手段を
用いることもできる。このうち、特に紫外線照射部分近
傍に窒素ガスを通気する方法は、減圧装置など特殊な設
備を必要とせず簡便であることから好ましく行われ、例
えば図１に示す構造の紫外線照射式硬化装置を好ましく
用いることができる。
【００１８】本発明で用いられる紫外線照射装置として
は特に限定されないが、一般に使用される紫外線照射装
置を好ましく用いることができる。例えば波長２００ｎ
ｍ〜５００ｎｍの紫外線を照射可能な超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ等を好ましく用
いることができる。
は特に限定されないが、一般に使用される紫外線照射装
置を好ましく用いることができる。例えば波長２００ｎ
ｍ〜５００ｎｍの紫外線を照射可能な超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ等を好ましく用
いることができる。
【００１９】本発明の紫外線硬化性塗膜を塗布した支持
体を、紫外線照射のために紫外線照射室に導く方法とし
ては、例えば支持体がフィルムやシートの場合には、塗
工の行程から紫外線照射式硬化装置の間にガイドロール
等を設置し、紫外線照射式硬化装置の紫外線照射室内に
支持体を連続的に導く等の工夫をして行うことができ
る。このように支持体を紫外線照射室に連続的に導き、
紫外線照射を行うことは作業の簡便化の上から特に好ま
しい。
体を、紫外線照射のために紫外線照射室に導く方法とし
ては、例えば支持体がフィルムやシートの場合には、塗
工の行程から紫外線照射式硬化装置の間にガイドロール
等を設置し、紫外線照射式硬化装置の紫外線照射室内に
支持体を連続的に導く等の工夫をして行うことができ
る。このように支持体を紫外線照射室に連続的に導き、
紫外線照射を行うことは作業の簡便化の上から特に好ま
しい。
【００２０】この様にして製造される膜厚０．００５〜
１μｍの硬化塗膜は、単層で形成しても多層で形成して
も良い。多層にする場合は一度硬化した硬化塗膜上に、
再度紫外線硬化性塗膜を塗工し、更に紫外線照射して硬
化することで行われる。この行程は必要なだけ複数回反
復することもできる。多層で形成される場合、膜厚はｎ
回の塗工につきｎ×（０．００５〜１）μｍの厚さとな
る。各層の紫外線硬化性塗膜の組成は同一であっても異
なっていてもよい。
１μｍの硬化塗膜は、単層で形成しても多層で形成して
も良い。多層にする場合は一度硬化した硬化塗膜上に、
再度紫外線硬化性塗膜を塗工し、更に紫外線照射して硬
化することで行われる。この行程は必要なだけ複数回反
復することもできる。多層で形成される場合、膜厚はｎ
回の塗工につきｎ×（０．００５〜１）μｍの厚さとな
る。各層の紫外線硬化性塗膜の組成は同一であっても異
なっていてもよい。
【００２１】本発明の方法で反射防止フィルムを製造す
る場合、支持体にプラスチックフィルムを用い、表面に
紫外線硬化性塗膜を反射防止効果が現れるように塗布し
て、これを本発明の方法で重合硬化することにより、反
射防止硬化塗膜を形成して得ることができる。
る場合、支持体にプラスチックフィルムを用い、表面に
紫外線硬化性塗膜を反射防止効果が現れるように塗布し
て、これを本発明の方法で重合硬化することにより、反
射防止硬化塗膜を形成して得ることができる。
【００２２】本発明の紫外線硬化性塗膜には、含フッ素
アクリレートを任意量含むことができる。含フッ素アク
リレートとしては、溶液、分散液、コロイド溶液（ゾ
ル）、又はこれらが混在した状態で安定であり、塗工が
可能である液体として存在する等の条件を満たし、本発
明の範囲内で使用できるならば、従来公知のいかなるも
のを用いてもよいが、特に好ましくは、２−ペルフルオ
ロヘキシル−１−（ヒドロキシメチル）エチル＝２−ビ
ス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオナー
ト、２−ペルフルオロヘキシル−１−（（メタ）アクリ
ロイルオキシ）エチル＝２−（（メタ）アクリロイルオ
キシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）プロピオナー
ト、２−ペルフルオロオクチル−１−（ヒドロキシメチ
ル）エチル＝２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメ
チル）プロピオナート、２−ペルフルオロオクチル−１
−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル＝２−
（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−（ヒドロ
キシメチル）プロピオナート、３−ペルフルオロヘキシ
ル−２−ヒドロキシプロピル＝２−ビス（（メタ）アク
リロイルオキシメチル）プロピオナート、３−ペルフル
オロヘキシル−２−（（メタ）アクリロイルオキシ）プ
ロピル＝２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−
２−（ヒドロキシメチル）プロピオナート、３−ペルフ
ルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル＝２−ビス
（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオナー
ト、３−ペルフルオロオクチル−２−（（メタ）アクリ
ロイルオキシ）プロピル＝２−（（メタ）アクリロイル
オキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）プロピオナ
ート、（メタ）アクリル酸−２，２，２−トリフルオロ
エチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３−ペ
ンタフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、（メタ）
アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノ
ナフルオロペンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオ
ロヘプチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタ
デカフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデ
カフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、
（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプ
タデカフルオロデシル、（メタ）アクリル酸−２−トリ
フルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、
（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチル−４，
４，４−トリフルオロブチル、（メタ）アクリル酸−１
−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピ
ル、（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，
３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、ジ（メタ）ア
クリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルエチレング
リコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタ
フルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリ
ル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフル
オロペンチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル
酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウ
ンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレ
ングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペ
ンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−
ノナデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３−テトラフルオロブタ
ンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４−ヘキサフルオロペンタジオール、ジ（メタ）ア
クリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフ
ルオロヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，
２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロヘ
プタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロ
オクタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テ
トラデカフルオロノナンジオール、ジ（メタ）アクリル
酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカンジオー
ル、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０
−オクタデカフルオロウンデカンジオール、ジ（メタ）
アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１
−エイコサフルオロドデカンジオール等の含フッ素二官
能（メタ）アクリル酸エステルや、テトラ（メタ）アク
リル酸−４，４，５，５−テトラフルオロオクタン−
１，２，７，８−テトラオール、テトラ（メタ）アクリ
ル酸−４，４，５，５，６，６−ヘキサフルオロノナン
−１，２，８，９−テトラオ−ル、テトラ（メタ）アク
リル酸−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフル
オロデカン−１，２，９，１０−テトラオール、テトラ
（メタ）アクリル酸−４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８−デカフルオロウンデカン−１，２，１０，
１１−テトラオール、テトラ（メタ）アクリル酸−４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ドデカ
フルオロドデカン−１，２，１１，１２−テトラオール
等の含フッ素四官能（メタ）アクリル酸エステル等を用
いることが出来る。含フッ素アクリレートは単独で用い
ても混合物として用いてもどちらでもよく、分量や組成
比も目的に応じ適宜定めることが出来る。
アクリレートを任意量含むことができる。含フッ素アク
リレートとしては、溶液、分散液、コロイド溶液（ゾ
ル）、又はこれらが混在した状態で安定であり、塗工が
可能である液体として存在する等の条件を満たし、本発
明の範囲内で使用できるならば、従来公知のいかなるも
のを用いてもよいが、特に好ましくは、２−ペルフルオ
ロヘキシル−１−（ヒドロキシメチル）エチル＝２−ビ
ス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオナー
ト、２−ペルフルオロヘキシル−１−（（メタ）アクリ
ロイルオキシ）エチル＝２−（（メタ）アクリロイルオ
キシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）プロピオナー
ト、２−ペルフルオロオクチル−１−（ヒドロキシメチ
ル）エチル＝２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメ
チル）プロピオナート、２−ペルフルオロオクチル−１
−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル＝２−
（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−（ヒドロ
キシメチル）プロピオナート、３−ペルフルオロヘキシ
ル−２−ヒドロキシプロピル＝２−ビス（（メタ）アク
リロイルオキシメチル）プロピオナート、３−ペルフル
オロヘキシル−２−（（メタ）アクリロイルオキシ）プ
ロピル＝２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−
２−（ヒドロキシメチル）プロピオナート、３−ペルフ
ルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル＝２−ビス
（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオナー
ト、３−ペルフルオロオクチル−２−（（メタ）アクリ
ロイルオキシ）プロピル＝２−（（メタ）アクリロイル
オキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）プロピオナ
ート、（メタ）アクリル酸−２，２，２−トリフルオロ
エチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３−ペ
ンタフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、（メタ）
アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノ
ナフルオロペンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオ
ロヘプチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタ
デカフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデ
カフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、
（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプ
タデカフルオロデシル、（メタ）アクリル酸−２−トリ
フルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、
（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチル−４，
４，４−トリフルオロブチル、（メタ）アクリル酸−１
−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピ
ル、（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，
３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、ジ（メタ）ア
クリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルエチレング
リコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタ
フルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリ
ル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフル
オロペンチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル
酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウ
ンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレ
ングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペ
ンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−
ノナデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３−テトラフルオロブタ
ンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４−ヘキサフルオロペンタジオール、ジ（メタ）ア
クリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフ
ルオロヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，
２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロヘ
プタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロ
オクタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テ
トラデカフルオロノナンジオール、ジ（メタ）アクリル
酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカンジオー
ル、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０
−オクタデカフルオロウンデカンジオール、ジ（メタ）
アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１
−エイコサフルオロドデカンジオール等の含フッ素二官
能（メタ）アクリル酸エステルや、テトラ（メタ）アク
リル酸−４，４，５，５−テトラフルオロオクタン−
１，２，７，８−テトラオール、テトラ（メタ）アクリ
ル酸−４，４，５，５，６，６−ヘキサフルオロノナン
−１，２，８，９−テトラオ−ル、テトラ（メタ）アク
リル酸−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフル
オロデカン−１，２，９，１０−テトラオール、テトラ
（メタ）アクリル酸−４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８−デカフルオロウンデカン−１，２，１０，
１１−テトラオール、テトラ（メタ）アクリル酸−４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ドデカ
フルオロドデカン−１，２，１１，１２−テトラオール
等の含フッ素四官能（メタ）アクリル酸エステル等を用
いることが出来る。含フッ素アクリレートは単独で用い
ても混合物として用いてもどちらでもよく、分量や組成
比も目的に応じ適宜定めることが出来る。
【００２３】本発明の反射防止性フィルムは、反射防止
能を発現させるために単層で形成しても、多層で形成し
てもよい。また多層で形成される場合、各層の紫外線硬
化性塗膜の組成は同一であっても異なっていてもいずれ
でもよい。このとき硬化塗膜の屈折率は１．５以下であ
ることが好ましく、更に好ましくは１．４６以下であ
る。
能を発現させるために単層で形成しても、多層で形成し
てもよい。また多層で形成される場合、各層の紫外線硬
化性塗膜の組成は同一であっても異なっていてもいずれ
でもよい。このとき硬化塗膜の屈折率は１．５以下であ
ることが好ましく、更に好ましくは１．４６以下であ
る。
【００２４】
【実施例】本発明を参考例、実施例、比較例を用いて更
に詳細に説明する。 参考例１ 図１の模式図に示した構成の紫外線照射式硬化装置を以
下の要領で作成した。ステンレス板で囲んだ紫外線照射
室４を工作し、接合部分をエポキシ樹脂でシールした。
塗工フィルム１が、照射室前のガイドロール２を通り照
射室に入れる様に、照射室入り口部分１０に５ｍｍのギ
ャップを開けた。照射室内部には、予め照射室入り口部
分１０と照射室出口部分１１及び、照射室内壁面にステ
ンレスパイプを設置し、通気孔を設けて窒素供給部分３
とした。これによりステンレスパイプに窒素を通気する
事で紫外線照射室４内を窒素雰囲気にし、窒素通気流量
を調節することで酸素濃度を制御できる様にした。この
照射室４内部には取り込み口９を設け、ここから内部気
体を吸引することにより、酸素濃度センサで酸素濃度が
測定できる様にした。紫外線照射装置室５内には紫外線
照射装置として空冷式超高圧水銀灯（１６０Ｗ／ｃｍ、
ラインスピードが１０ｍ／分の時の照射紫外線量は４０
０ｍＪ／ｃｍ2、岩崎電気社製）を設置した。紫外線照
射装置室５は照射により加熱されるので、照射装置後方
から冷却空気を照射装置室５内に送れるようにした。更
にこの照射装置室５から照射室４への冷却空気の流入を
防ぐために、間に石英ガラス６を設置した。また紫外線
照射室４も照射により加熱されるので、冷却ロール８を
設けた。これにより塗工フィルムは冷却ロール８上で紫
外線照射されるので加熱の影響を低減できた。紫外線照
射後のフィルムは照射室出口部分１１から排出され巻き
取られる構造にした。
に詳細に説明する。 参考例１ 図１の模式図に示した構成の紫外線照射式硬化装置を以
下の要領で作成した。ステンレス板で囲んだ紫外線照射
室４を工作し、接合部分をエポキシ樹脂でシールした。
塗工フィルム１が、照射室前のガイドロール２を通り照
射室に入れる様に、照射室入り口部分１０に５ｍｍのギ
ャップを開けた。照射室内部には、予め照射室入り口部
分１０と照射室出口部分１１及び、照射室内壁面にステ
ンレスパイプを設置し、通気孔を設けて窒素供給部分３
とした。これによりステンレスパイプに窒素を通気する
事で紫外線照射室４内を窒素雰囲気にし、窒素通気流量
を調節することで酸素濃度を制御できる様にした。この
照射室４内部には取り込み口９を設け、ここから内部気
体を吸引することにより、酸素濃度センサで酸素濃度が
測定できる様にした。紫外線照射装置室５内には紫外線
照射装置として空冷式超高圧水銀灯（１６０Ｗ／ｃｍ、
ラインスピードが１０ｍ／分の時の照射紫外線量は４０
０ｍＪ／ｃｍ2、岩崎電気社製）を設置した。紫外線照
射装置室５は照射により加熱されるので、照射装置後方
から冷却空気を照射装置室５内に送れるようにした。更
にこの照射装置室５から照射室４への冷却空気の流入を
防ぐために、間に石英ガラス６を設置した。また紫外線
照射室４も照射により加熱されるので、冷却ロール８を
設けた。これにより塗工フィルムは冷却ロール８上で紫
外線照射されるので加熱の影響を低減できた。紫外線照
射後のフィルムは照射室出口部分１１から排出され巻き
取られる構造にした。
【００２５】実施例１ 次の手順により硬化塗膜を作成し、耐溶媒性試験、耐擦
傷性試験、密着性評価試験を行い性能を評価した。まず
塗液として、重合性単量体であるジアクリル酸（ペルフ
ルオロオクチル）メチルエチレングリコール４００ｇ
と、光重合開始剤「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」（商品
名、チバガイギー社製）８ｇと、トリフルオロメチルベ
ンゼン４６００ｇを混合して固形分濃度８．１重量％の
塗工液Ａを調整した。次に塗工液Ａを用いて、市販のポ
リエチレンテレフタレートフィルムを支持体にして塗工
を行った。塗工はグラビアロール法で行い、グラビアロ
ールコーターとして「マイクログラビアコーター」（商
品名、康井精機社製）を用い、グラビアロールとして
「マイクログラビアローラー」（商品名、康井精機社
製、メッシュ１１０／ｉｎｃｈ）を使用した。塗工速度
は１０ｍ／分に調整し、マイクログラビアロールの回転
速度は２．５ｍ／分に調整して塗工方向に対して逆方向
に回転させ塗工した。塗工後は１００℃に設定した工程
長さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶媒を乾燥させ、乾燥
膜厚約１００ｎｍの紫外線硬化性塗膜を有するフィルム
を得た。更に紫外線硬化性塗膜を硬化させるため、窒素
通気により紫外線照射室内の酸素濃度を２００ｐｐｍに
した参考例１の紫外線照射式硬化装置を通過させ、硬化
塗膜を得た。
傷性試験、密着性評価試験を行い性能を評価した。まず
塗液として、重合性単量体であるジアクリル酸（ペルフ
ルオロオクチル）メチルエチレングリコール４００ｇ
と、光重合開始剤「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」（商品
名、チバガイギー社製）８ｇと、トリフルオロメチルベ
ンゼン４６００ｇを混合して固形分濃度８．１重量％の
塗工液Ａを調整した。次に塗工液Ａを用いて、市販のポ
リエチレンテレフタレートフィルムを支持体にして塗工
を行った。塗工はグラビアロール法で行い、グラビアロ
ールコーターとして「マイクログラビアコーター」（商
品名、康井精機社製）を用い、グラビアロールとして
「マイクログラビアローラー」（商品名、康井精機社
製、メッシュ１１０／ｉｎｃｈ）を使用した。塗工速度
は１０ｍ／分に調整し、マイクログラビアロールの回転
速度は２．５ｍ／分に調整して塗工方向に対して逆方向
に回転させ塗工した。塗工後は１００℃に設定した工程
長さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶媒を乾燥させ、乾燥
膜厚約１００ｎｍの紫外線硬化性塗膜を有するフィルム
を得た。更に紫外線硬化性塗膜を硬化させるため、窒素
通気により紫外線照射室内の酸素濃度を２００ｐｐｍに
した参考例１の紫外線照射式硬化装置を通過させ、硬化
塗膜を得た。
【００２６】得られた硬化塗膜に次の１〜３の評価試験
を行った。 １．耐溶媒性試験 硬化塗膜表面にメタノール、エタノール、酢酸エチル、
トルエン、アセトンから選択される溶媒０．５ｍｌを滴
下し、室温で１分間静置後、溶媒をふき取り硬化塗膜の
状態を調べた。このとき硬化塗膜に変化がなければ耐溶
媒性良好と見なし○とした。硬化塗膜層が溶解して消失
する等の異変があれば耐溶媒性不良と見なし×とした。
結果を表１に示した。 ２．耐擦傷性試験 硬化塗膜表面を加重１Ｋｇ／ｃｍ2かけた「キムテック
ス」（商品名、クレシア社製）で、長さ２ｃｍにわたり
１０往復擦った後、硬化塗膜の状態を調べた。このとき
全く傷が付かず硬化塗膜に変化がなければ、耐擦傷性良
好と見なし○とした。１０本未満の傷が付いた場合は
△、１０本以上の著しい傷が付いたり硬化塗膜層が完全
に剥離した場合は、耐擦傷性不良と見なし×とした。結
果を表１に示した。 ３．密着性試験 ＪＩＳ Ｋ５４００の試験法に準拠して碁盤目剥離試験
を行い、硬化塗膜の密着性を評価した。結果を表１に示
した。
を行った。 １．耐溶媒性試験 硬化塗膜表面にメタノール、エタノール、酢酸エチル、
トルエン、アセトンから選択される溶媒０．５ｍｌを滴
下し、室温で１分間静置後、溶媒をふき取り硬化塗膜の
状態を調べた。このとき硬化塗膜に変化がなければ耐溶
媒性良好と見なし○とした。硬化塗膜層が溶解して消失
する等の異変があれば耐溶媒性不良と見なし×とした。
結果を表１に示した。 ２．耐擦傷性試験 硬化塗膜表面を加重１Ｋｇ／ｃｍ2かけた「キムテック
ス」（商品名、クレシア社製）で、長さ２ｃｍにわたり
１０往復擦った後、硬化塗膜の状態を調べた。このとき
全く傷が付かず硬化塗膜に変化がなければ、耐擦傷性良
好と見なし○とした。１０本未満の傷が付いた場合は
△、１０本以上の著しい傷が付いたり硬化塗膜層が完全
に剥離した場合は、耐擦傷性不良と見なし×とした。結
果を表１に示した。 ３．密着性試験 ＪＩＳ Ｋ５４００の試験法に準拠して碁盤目剥離試験
を行い、硬化塗膜の密着性を評価した。結果を表１に示
した。
【００２７】
【表１】
【００２８】以上の評価試験結果から、酸素濃度２００
ｐｐｍで硬化した硬化塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着
性に関して良好な性能を持つことを確認した。
ｐｐｍで硬化した硬化塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着
性に関して良好な性能を持つことを確認した。
【００２９】実施例２ 紫外線照射室内の酸素濃度を１０００ｐｐｍにした以外
は、実施例１と同様にして硬化塗膜を得た。更に実施例
１と同様の評価試験を行い、結果を表１に示した。表１
の評価試験結果から、酸素濃度１０００ｐｐｍで硬化し
た硬化塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好
な性能を持つことを確認した。
は、実施例１と同様にして硬化塗膜を得た。更に実施例
１と同様の評価試験を行い、結果を表１に示した。表１
の評価試験結果から、酸素濃度１０００ｐｐｍで硬化し
た硬化塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好
な性能を持つことを確認した。
【００３０】比較例１ 紫外線照射室内の酸素濃度を２０００ｐｐｍにした以外
は、実施例１と同様にして硬化塗膜を得た。更に実施例
１と同様の評価試験を行い、結果を表１に示した。表１
の評価試験結果から、酸素濃度２０００ｐｐｍで硬化し
た硬化塗膜は酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って硬化
した硬化塗膜に比較し、耐擦傷性、密着性に関して劣る
ことを確認した。
は、実施例１と同様にして硬化塗膜を得た。更に実施例
１と同様の評価試験を行い、結果を表１に示した。表１
の評価試験結果から、酸素濃度２０００ｐｐｍで硬化し
た硬化塗膜は酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って硬化
した硬化塗膜に比較し、耐擦傷性、密着性に関して劣る
ことを確認した。
【００３１】比較例２ 紫外線照射室内に窒素通気を行わなかった以外は、実施
例１と同様にして硬化塗膜を得た。更に実施例１と同様
の評価試験を行い、結果を表１に示した。表１の評価試
験結果から、窒素通気を行わず硬化した硬化塗膜は、耐
溶媒性、耐擦傷性、密着性のいずれにおいても不良であ
ることを確認した。
例１と同様にして硬化塗膜を得た。更に実施例１と同様
の評価試験を行い、結果を表１に示した。表１の評価試
験結果から、窒素通気を行わず硬化した硬化塗膜は、耐
溶媒性、耐擦傷性、密着性のいずれにおいても不良であ
ることを確認した。
【００３２】実施例３ 次の手順により多層の硬化塗膜を作成し、耐溶媒性試
験、耐擦傷性試験、密着性評価試験を行い性能を評価し
た。まず塗液として、塗工液Ｂ、Ｃ、Ｄを調整した。塗
工液Ｂは、重合性単量体であるジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート（日立化成工業社製）１３５０ｇ
と、ポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化
学社製）９００ｇ、光重合開始剤「Ｉｒｇａｃｕｒ １
８４」（商品名、チバガイギー社製）４５ｇと、イソプ
ロパノール１０００ｇを混合して固形分濃度７０重量％
に調整した。塗工液Ｃは、重合性単量体であるジペンタ
エリスリトールトリアクリレート（共栄社油脂社製）８
４ｇと、「ＺＳ−３００」（商品名、住友大阪セメント
社製、３０％酸化亜鉛微粒子トルエン分散液）７２０
ｇ、光重合開始剤「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」（商品
名、チバガイギー社製）６ｇと、イソプロパノール２９
４０ｇを混合して固形分濃度８重量％に調整した。塗工
液Ｄは、重合性単量体であるテトラアクリル酸−４，
４，５，５，６，６−ヘキサフルオロノナン−１，２，
８，９−テトラオール８０ｇと、「ＸＢＡ−ＳＴシリカ
ゾル」（商品名、日産化学社製、コロイダルシリカ３０
％：キシレン４５％：ｎ−ブタノール２５％）２７０
ｇ、光重合開始剤「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」（商品
名）６ｇと、イソプロパノール２８５０ｇを混合して固
形分濃度５重量％に調整した。
験、耐擦傷性試験、密着性評価試験を行い性能を評価し
た。まず塗液として、塗工液Ｂ、Ｃ、Ｄを調整した。塗
工液Ｂは、重合性単量体であるジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート（日立化成工業社製）１３５０ｇ
と、ポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化
学社製）９００ｇ、光重合開始剤「Ｉｒｇａｃｕｒ １
８４」（商品名、チバガイギー社製）４５ｇと、イソプ
ロパノール１０００ｇを混合して固形分濃度７０重量％
に調整した。塗工液Ｃは、重合性単量体であるジペンタ
エリスリトールトリアクリレート（共栄社油脂社製）８
４ｇと、「ＺＳ−３００」（商品名、住友大阪セメント
社製、３０％酸化亜鉛微粒子トルエン分散液）７２０
ｇ、光重合開始剤「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」（商品
名、チバガイギー社製）６ｇと、イソプロパノール２９
４０ｇを混合して固形分濃度８重量％に調整した。塗工
液Ｄは、重合性単量体であるテトラアクリル酸−４，
４，５，５，６，６−ヘキサフルオロノナン−１，２，
８，９−テトラオール８０ｇと、「ＸＢＡ−ＳＴシリカ
ゾル」（商品名、日産化学社製、コロイダルシリカ３０
％：キシレン４５％：ｎ−ブタノール２５％）２７０
ｇ、光重合開始剤「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」（商品
名）６ｇと、イソプロパノール２８５０ｇを混合して固
形分濃度５重量％に調整した。
【００３３】次に塗工液Ｂを用いて、市販のトリアセチ
ルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）を支持体にし
て塗工を行った。塗工はグラビアロール法で行い、グラ
ビアロールコーターとして「マイクログラビアコータ
ー」（商品名、康井精機社製）を用い、グラビアロール
として「マイクログラビアローラー」（商品名、康井精
機社製、メッシュ１８０／ｉｎｃｈ）を使用した。塗工
速度は１０ｍ／分に調整し、マイクログラビアロールの
回転速度は２０ｍ／分に調整して塗工方向に対して逆方
向に回転させ塗工した。塗工後は８０℃に設定した工程
長さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶媒を乾燥させ、乾燥
膜厚約４μｍの紫外線硬化性塗膜を有するフィルムを得
た。この紫外線硬化性塗膜を硬化させるため、窒素通気
により紫外線照射室内の酸素濃度を２００ｐｐｍにした
参考例１の紫外線照射式硬化装置を通過させ、硬化塗膜
（ＨＣ硬化塗膜層と呼称）を得た。これにより表面にＨ
Ｃ硬化塗膜層を有するＨＣ−ＴＡＣフィルムを得た。更
に塗工液Ｃを用いて、ＨＣ−ＴＡＣフィルムを支持体に
してＨＣ硬化塗膜層上に塗工を行った。塗工はグラビア
ロール法で行い、グラビアロールコーターとして「マイ
クログラビアコーター」（商品名、康井精機社製）を用
い、グラビアロールとして「マイクログラビアローラ
ー」（商品名、康井精機社製、メッシュ１８０／ｉｎｃ
ｈ）を使用した。塗工速度は１０ｍ／分に調整し、マイ
クログラビアロールの回転速度は３ｍ／分に調整して塗
工方向に対して逆方向に回転させ塗工した。塗工後は８
０℃に設定した工程長さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶
媒を乾燥させ、乾燥膜厚約１００ｎｍの紫外線硬化性塗
膜を有するフィルムを得た。この紫外線硬化性塗膜を硬
化させるため、窒素通気により紫外線照射室内の酸素濃
度を２００ｐｐｍにした参考例１の紫外線照射式硬化装
置を通過させ、硬化塗膜（Ｈ硬化塗膜層と呼称）を得
た。これにより最外面にＨ硬化塗膜層を有するＨ−ＨＣ
−ＴＡＣフィルムを得た。最後に塗工液Ｄを用いて、Ｈ
−ＨＣ−ＴＡＣフィルムを支持体にしてＨ硬化塗膜層上
に塗工を行った。塗工はグラビアロール法で行い、グラ
ビアロールコーターとして「マイクログラビアコータ
ー」（商品名、康井精機社製）を用い、グラビアロール
として「マイクログラビアローラー」（商品名、康井精
機社製、メッシュ１１０／ｉｎｃｈ）を使用した。塗工
速度は１０ｍ／分に調整し、マイクログラビアロールの
回転速度は２ｍ／分に調整して塗工方向に対して逆方向
に回転させ塗工した。塗工後は８０℃に設定した工程長
さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶媒を乾燥させ、乾燥膜
厚約１００ｎｍの紫外線硬化性塗膜を有するフィルムを
得た。この紫外線硬化性塗膜を硬化させるため、窒素通
気により紫外線照射室内の酸素濃度を２００ｐｐｍにし
た参考例１の紫外線照射式硬化装置を通過させ、硬化塗
膜（Ｌ硬化塗膜層と呼称）を得た。この様にしてＬ硬化
塗膜層、Ｈ硬化塗膜層、ＨＣ硬化塗膜層を重層したＬ−
Ｈ−ＨＣ−ＴＡＣフィルムを得た。
ルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）を支持体にし
て塗工を行った。塗工はグラビアロール法で行い、グラ
ビアロールコーターとして「マイクログラビアコータ
ー」（商品名、康井精機社製）を用い、グラビアロール
として「マイクログラビアローラー」（商品名、康井精
機社製、メッシュ１８０／ｉｎｃｈ）を使用した。塗工
速度は１０ｍ／分に調整し、マイクログラビアロールの
回転速度は２０ｍ／分に調整して塗工方向に対して逆方
向に回転させ塗工した。塗工後は８０℃に設定した工程
長さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶媒を乾燥させ、乾燥
膜厚約４μｍの紫外線硬化性塗膜を有するフィルムを得
た。この紫外線硬化性塗膜を硬化させるため、窒素通気
により紫外線照射室内の酸素濃度を２００ｐｐｍにした
参考例１の紫外線照射式硬化装置を通過させ、硬化塗膜
（ＨＣ硬化塗膜層と呼称）を得た。これにより表面にＨ
Ｃ硬化塗膜層を有するＨＣ−ＴＡＣフィルムを得た。更
に塗工液Ｃを用いて、ＨＣ−ＴＡＣフィルムを支持体に
してＨＣ硬化塗膜層上に塗工を行った。塗工はグラビア
ロール法で行い、グラビアロールコーターとして「マイ
クログラビアコーター」（商品名、康井精機社製）を用
い、グラビアロールとして「マイクログラビアローラ
ー」（商品名、康井精機社製、メッシュ１８０／ｉｎｃ
ｈ）を使用した。塗工速度は１０ｍ／分に調整し、マイ
クログラビアロールの回転速度は３ｍ／分に調整して塗
工方向に対して逆方向に回転させ塗工した。塗工後は８
０℃に設定した工程長さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶
媒を乾燥させ、乾燥膜厚約１００ｎｍの紫外線硬化性塗
膜を有するフィルムを得た。この紫外線硬化性塗膜を硬
化させるため、窒素通気により紫外線照射室内の酸素濃
度を２００ｐｐｍにした参考例１の紫外線照射式硬化装
置を通過させ、硬化塗膜（Ｈ硬化塗膜層と呼称）を得
た。これにより最外面にＨ硬化塗膜層を有するＨ−ＨＣ
−ＴＡＣフィルムを得た。最後に塗工液Ｄを用いて、Ｈ
−ＨＣ−ＴＡＣフィルムを支持体にしてＨ硬化塗膜層上
に塗工を行った。塗工はグラビアロール法で行い、グラ
ビアロールコーターとして「マイクログラビアコータ
ー」（商品名、康井精機社製）を用い、グラビアロール
として「マイクログラビアローラー」（商品名、康井精
機社製、メッシュ１１０／ｉｎｃｈ）を使用した。塗工
速度は１０ｍ／分に調整し、マイクログラビアロールの
回転速度は２ｍ／分に調整して塗工方向に対して逆方向
に回転させ塗工した。塗工後は８０℃に設定した工程長
さ５ｍの乾燥機内を通過させて溶媒を乾燥させ、乾燥膜
厚約１００ｎｍの紫外線硬化性塗膜を有するフィルムを
得た。この紫外線硬化性塗膜を硬化させるため、窒素通
気により紫外線照射室内の酸素濃度を２００ｐｐｍにし
た参考例１の紫外線照射式硬化装置を通過させ、硬化塗
膜（Ｌ硬化塗膜層と呼称）を得た。この様にしてＬ硬化
塗膜層、Ｈ硬化塗膜層、ＨＣ硬化塗膜層を重層したＬ−
Ｈ−ＨＣ−ＴＡＣフィルムを得た。
【００３４】得られたＬ−Ｈ−ＨＣ−ＴＡＣフィルムの
硬化塗膜に、次の１〜４の評価試験を行った。 １．耐溶媒性試験 硬化塗膜表面にメタノール、エタノール、酢酸エチル、
トルエン、アセトンから選択される溶媒０．５ｍｌを滴
下し、室温で１分間静置後、溶媒をふき取り硬化塗膜の
状態を調べた。このとき硬化塗膜に変化がなければ耐溶
媒性良好と見なし○とした。硬化塗膜層が溶解して消失
する等の異変があれば耐溶媒性不良と見なし×とした。
結果を表２に示した。 ２．耐擦傷性試験Ａ 硬化塗膜表面を加重１Ｋｇ／ｃｍ2かけた「キムテック
ス」（商品名、クレシア社製）で、長さ２ｃｍにわたり
１０往復擦った後、硬化塗膜の状態を調べた。このとき
全く傷が付かず硬化塗膜に変化がなければ、耐擦傷性良
好と見なし○とした。１０本未満の傷が付いた場合は
△、１０本以上の著しい傷が付いたり硬化塗膜層が完全
に剥離した場合は、耐擦傷性不良と見なし×とした。結
果を表２に示した。 ３．耐擦傷性試験Ｂ 硬化塗膜表面を５０ｇ／ｃｍ2、１００ｇ／ｃｍ2、１５
０ｇ／ｃｍ2、２５０ｇ／ｃｍ2、５００ｇ／ｃｍ2から
選択される加重をかけた「キムテックス」（商品名、ク
レシア社製）で、長さ２ｃｍにわたり１０往復擦った
後、硬化塗膜の状態を調べた。このとき１０本以上の著
しい傷が付いたり硬化塗膜層が完全に剥離した場合の加
重を調べた。結果を表２に示した。 ４．密着性試験 ＪＩＳ Ｋ５４００の試験法に準拠して碁盤目剥離試験
を行い、硬化塗膜の密着性を評価した。結果を表２に示
した。
硬化塗膜に、次の１〜４の評価試験を行った。 １．耐溶媒性試験 硬化塗膜表面にメタノール、エタノール、酢酸エチル、
トルエン、アセトンから選択される溶媒０．５ｍｌを滴
下し、室温で１分間静置後、溶媒をふき取り硬化塗膜の
状態を調べた。このとき硬化塗膜に変化がなければ耐溶
媒性良好と見なし○とした。硬化塗膜層が溶解して消失
する等の異変があれば耐溶媒性不良と見なし×とした。
結果を表２に示した。 ２．耐擦傷性試験Ａ 硬化塗膜表面を加重１Ｋｇ／ｃｍ2かけた「キムテック
ス」（商品名、クレシア社製）で、長さ２ｃｍにわたり
１０往復擦った後、硬化塗膜の状態を調べた。このとき
全く傷が付かず硬化塗膜に変化がなければ、耐擦傷性良
好と見なし○とした。１０本未満の傷が付いた場合は
△、１０本以上の著しい傷が付いたり硬化塗膜層が完全
に剥離した場合は、耐擦傷性不良と見なし×とした。結
果を表２に示した。 ３．耐擦傷性試験Ｂ 硬化塗膜表面を５０ｇ／ｃｍ2、１００ｇ／ｃｍ2、１５
０ｇ／ｃｍ2、２５０ｇ／ｃｍ2、５００ｇ／ｃｍ2から
選択される加重をかけた「キムテックス」（商品名、ク
レシア社製）で、長さ２ｃｍにわたり１０往復擦った
後、硬化塗膜の状態を調べた。このとき１０本以上の著
しい傷が付いたり硬化塗膜層が完全に剥離した場合の加
重を調べた。結果を表２に示した。 ４．密着性試験 ＪＩＳ Ｋ５４００の試験法に準拠して碁盤目剥離試験
を行い、硬化塗膜の密着性を評価した。結果を表２に示
した。
【００３５】
【表２】
【００３６】以上の評価試験結果から、硬化塗膜は耐溶
媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性能を持つこと
を確認した。
媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性能を持つこと
を確認した。
【００３７】実施例４ Ｌ硬化塗膜層を硬化させる時の紫外線照射室内の酸素濃
度を１０００ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様にし
て硬化塗膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行
い、結果を表２に示した。表２の評価試験結果から硬化
塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性能
を持つことを確認した。
度を１０００ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様にし
て硬化塗膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行
い、結果を表２に示した。表２の評価試験結果から硬化
塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性能
を持つことを確認した。
【００３８】実施例５ Ｈ硬化塗膜層を硬化させる時の紫外線照射室内の酸素濃
度を１０００ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様にし
て硬化塗膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行
い、結果を表２に示した。表２の評価試験結果から硬化
塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性能
を持つことを確認した。
度を１０００ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様にし
て硬化塗膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行
い、結果を表２に示した。表２の評価試験結果から硬化
塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性能
を持つことを確認した。
【００３９】実施例６ ＨＣ硬化塗膜層を硬化させる時の紫外線照射室内の酸素
濃度を１０００ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様に
して硬化塗膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を
行い、結果を表２に示した。表２の評価試験結果から硬
化塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性
能を持つことを確認した。
濃度を１０００ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様に
して硬化塗膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を
行い、結果を表２に示した。表２の評価試験結果から硬
化塗膜は耐溶媒性、耐擦傷性、密着性に関して良好な性
能を持つことを確認した。
【００４０】比較例３ Ｌ硬化塗膜層を硬化させる時に紫外線照射室内に窒素通
気を行わなかった以外は、実施例３と同様にして硬化塗
膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行い、結果
を表２に示した。表２の評価試験結果から硬化塗膜は耐
溶媒性、耐擦傷性、密着性のいずれにおいても不良であ
ることを確認した。
気を行わなかった以外は、実施例３と同様にして硬化塗
膜を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行い、結果
を表２に示した。表２の評価試験結果から硬化塗膜は耐
溶媒性、耐擦傷性、密着性のいずれにおいても不良であ
ることを確認した。
【００４１】比較例４ ＨＣ硬化塗膜層、Ｈ硬化塗膜層、Ｌ硬化塗膜層のそれぞ
れを硬化させる時の紫外線照射室内の酸素濃度を２００
０ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様にして硬化塗膜
を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行い、結果を
表２に示した。表２の評価試験結果から硬化塗膜は耐擦
傷性に関して劣ることを確認した。
れを硬化させる時の紫外線照射室内の酸素濃度を２００
０ｐｐｍにした以外は、実施例３と同様にして硬化塗膜
を得た。更に実施例３と同様の評価試験を行い、結果を
表２に示した。表２の評価試験結果から硬化塗膜は耐擦
傷性に関して劣ることを確認した。
【００４２】比較例５ ＨＣ硬化塗膜層、Ｈ硬化塗膜層、Ｌ硬化塗膜層のそれぞ
れを硬化させる時に紫外線照射室内に窒素通気を行わな
かった以外は、実施例３と同様にして硬化塗膜を得た。
更に実施例３と同様の評価試験を行い、結果を表２に示
した。表２の評価試験結果から硬化塗膜は耐溶媒性、耐
擦傷性、密着性のいずれにおいても不良であることを確
認した。
れを硬化させる時に紫外線照射室内に窒素通気を行わな
かった以外は、実施例３と同様にして硬化塗膜を得た。
更に実施例３と同様の評価試験を行い、結果を表２に示
した。表２の評価試験結果から硬化塗膜は耐溶媒性、耐
擦傷性、密着性のいずれにおいても不良であることを確
認した。
【００４３】
【発明の効果】本発明の硬化塗膜の製造方法では、膜厚
０．００５〜１μｍの硬化塗膜を連続的に製造するにあ
たり、酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下に保って紫外線硬
化を行うことで、耐擦傷性、硬度、耐久性が非常に良好
であり、工業的に非常に有用な硬化塗膜を得ることがで
きた。
０．００５〜１μｍの硬化塗膜を連続的に製造するにあ
たり、酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下に保って紫外線硬
化を行うことで、耐擦傷性、硬度、耐久性が非常に良好
であり、工業的に非常に有用な硬化塗膜を得ることがで
きた。
【図１】側面から見た紫外線照射式硬化装置の模式図。
【図２】正面から見た紫外線照射式硬化装置の模式図。
（１）塗工フィルム （２）ガイドロール （３）ステンレスパイプおよび窒素供給口部分 （４）紫外線照射室 （５）紫外線照射装置室 （６）石英ガラス （７）冷却空気入り口 （８）水冷式冷却ロール （９）取り込み口および酸素濃度センサ （１０）照射室入り口部分 （１１）照射室出口部分
Claims (8)
- 【請求項１】支持体上に塗布した膜厚０．００５〜１μ
ｍの紫外線硬化性塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に
保って紫外線により硬化させることを特徴とする膜厚
０．００５〜１μｍの硬化塗膜の製造方法。 - 【請求項２】塗布した膜厚０．００５〜１μｍの紫外線
硬化性塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って紫外
線により硬化させることを、単一の支持体上にｎ回繰り
返して行うことを特徴とする塗工膜厚ｎ×（０．００５
〜１）μｍの硬化塗膜の製造方法。 - 【請求項３】紫外線硬化性塗膜が、光反応性の重合性官
能基を持つ重合性単量体及び０．０１〜１５重量％の光
重合開始剤を必須成分として含んでいることを特徴とす
る請求項１又は請求項２に記載の硬化塗膜の製造方法。 - 【請求項４】重合性単量体が含フッ素アクリレートを含
み、硬化塗膜の屈折率が１．５以下であることを特徴と
する請求項３に記載の硬化塗膜の製造方法。 - 【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載される硬化
塗膜の製造方法により製造された硬化塗膜。 - 【請求項６】支持体にプラスチックフィルムを用いて請
求項４に記載の硬化塗膜の製造方法により得た屈折率
１．５以下の硬化塗膜を有することを特徴とする反射防
止フィルム。 - 【請求項７】請求項２に記載の硬化塗膜の製造方法によ
り、支持体にプラスチックフィルムを用いて得た塗工膜
厚ｎ×（０．００５〜１）μｍの硬化塗膜（ｎは塗工回
数を示す）を有するフィルムの硬化塗膜最外面に、含フ
ッ素アクリレートを含有する重合性単量体と０．０１〜
１５重量％の光重合開始剤とを必須成分として含む膜厚
０．００５〜１μｍの紫外線硬化性塗膜を塗布し、酸素
濃度１０００ｐｐｍ以下に保って紫外線により硬化さ
せ、屈折率１．５以下で膜厚０．００５〜１μｍの反射
防止硬化塗膜を、塗工膜厚ｎ×（０．００５〜１）μｍ
の硬化塗膜（ｎは塗工回数を示す）を有するフィルムの
硬化塗膜最外面上に形成することを特徴とする反射防止
フィルムの製造方法。 - 【請求項８】請求項７の製造方法により製造された反射
防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27170097A JP4144052B2 (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 反射防止フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27170097A JP4144052B2 (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 反射防止フィルムの製造方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006300147A Division JP4360396B2 (ja) | 2006-11-06 | 2006-11-06 | 紫外線照射式硬化装置 |
| JP2007302659A Division JP4867900B2 (ja) | 2007-11-22 | 2007-11-22 | 反射防止フィルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11104562A true JPH11104562A (ja) | 1999-04-20 |
| JP4144052B2 JP4144052B2 (ja) | 2008-09-03 |
Family
ID=17503635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27170097A Expired - Fee Related JP4144052B2 (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 反射防止フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4144052B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8936837B2 (en) | 2011-03-04 | 2015-01-20 | Fujifilm Corporation | Anti-glare film manufacturing method |
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| CN115400907A (zh) * | 2022-09-16 | 2022-11-29 | 四川汇利实业有限公司 | 一种制备镭射pvc的工艺和设备 |
| CN115400907B (zh) * | 2022-09-16 | 2024-05-07 | 四川汇利实业有限公司 | 一种制备镭射pvc的工艺和设备 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4144052B2 (ja) | 2008-09-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040428 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
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|
| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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