JP2015162325A - 透明導電フィルムの製造方法及び転写用導電シートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の透明導電フィルムは、100℃以上の耐熱性を有する転写用基材の上面に透明導電性粒子と分散媒とを含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、透明導電膜を照射エネルギー密度0.5〜30J/cm2で加熱処理し転写用導電シートを形成する工程と、転写用導電シートの前記透明導電膜に接着剤を塗布する工程と、転写用導電シートの前記透明導電膜に前記接着剤を介して透明基材シートを貼り付ける工程と、転写用基材を転写用導電シートの前記透明導電膜から剥離する工程とを含む。
【選択図】図1
Description
分散媒のエタノール40.0gにITO粉末10gを添加し、超音波ホモジェナイザーで30分間分散し、ITO導電膜形成用塗料を調製した。このITO導電膜形成用塗料を前述した透明導電膜の製造方法に従って、100×300mm□のポリイミドフィルム(東レ・デュポン(株)社製、製品名:カプトン200EN)の上に、スロットダイコーターを用いて成膜し、25℃の大気中で5分間乾燥を行った。この膜にロール圧力1000kg/cm、送り出し速度1m/分で圧力を加えることで、ITO導電膜を得た。得られたITO導電膜の蛍光X線を用いて測定した重量換算膜厚は300nmであった。上記で作製したITO導電膜を50×50mm□に切り出し、このITO導電膜に対して光焼成装置(NOVACENTRIX(株)社製、製品名:PULSFORGE3300)を用いて、照射エネルギー0.5J/cm2で、フラッシュランプアニール処理を行った。照射後のITO導電膜にアクリル樹脂を塗布し、易接着層としてウレタンがコートされたPETフィルムを貼り付け、UV硬化を行った。UV硬化にはエポキシアクリレートUV硬化樹脂(日立化成(株)社製、製品名:ヒタロイド7663)を用い、これを固形分25%にメチルイソブチルケトンで希釈した。また、開始剤(BASF(株)社製、製品名:イルガキュア184)を樹脂に対して1%添加した。転写後のITO透明導電フィルムの表面抵抗は170.1Ω/□であった。なお、ここで用いた塗布液の200℃〜400℃の重量減少率は0.5%未満であった。
実施例1で作製した分散液を使用し、表1に示す条件以外、実施例1と同様に行った。
実施例1で作製したITO導電膜を50×50mm□に切り出した後、フラッシュランプアニール処理を行わずに、実施例1と同様に転写工程を施してITO透明導電フィルムを作製し、表面抵抗の測定を行った。表面抵抗は1373.3Ω/□であった。
実施例1で作製したITO導電膜を50×50mm□に切り出した後、このITO導電膜に対して光焼成装置(NOVACENTRIX(株)社製、製品名:PULSFORGE3300)を用いて、照射エネルギー5J/cm2で、フラッシュランプアニール処理を行った。表面抵抗は75.9Ω/□であったが、転写を行っていないため、ポリイミド特有の褐色を有しており、無色透明ではなかった。
分散媒のエタノール39.5gにポリビニルピロリドン0.5gを添加し、よく攪拌した。ここに、ITO粉末10.0gを添加し、超音波ホモジェナイザーで30分間分散し、ITO導電膜形成用塗料を調製した。このITO導電膜形成用塗料を前述した透明導電膜の製造方法に従って、100×300mm□のステンレス箔上に、スロットダイコーターを用いて成膜し、この膜にロール圧力1000kg/cm、送り出し速度1m/分で圧力を加えることで、ITO導電膜を得た。得られたITO導電膜の蛍光X線を用いて測定した重量換算膜厚は300nmであった。このITO導電膜を50×50mm□に切り出し、このITO導電膜に対して光焼成装置(NOVACENTRIX(株)社製、製品名:PULSFORGE3300)を用いて、照射エネルギー5J/cm2で、フラッシュランプアニール処理を行ったところ、ITO膜がステンレス箔から剥離してしまい、評価できなかった。なお、ここで用いた塗布液の200℃〜400℃の重量減少率は2.6%であった。
実施例1で作製した導電シートを50×50mm□に切り出し、このITO導電膜に対して光焼成装置(NOVACENTRIX(株)社製、製品名:PULSFORGE3300)を用いて、照射エネルギー35J/cm2で、フラッシュランプアニール処理を行ったところ、ITO導電膜がポリイミドフィルムから剥離してしまい、評価できなかった。
分散媒のエタノール39.5gにSOLSPERSE 40000(日本ルーブリゾール社製の分散剤)0.5gを添加し、よく攪拌した。ここに、ITO粉末10.0gを添加し、超音波ホモジェナイザーで30分間分散し、ITO導電膜形成用塗料を調製した。このITO導電膜形成用塗料を前述した透明導電膜の製造方法に従って、100×300mm□のポリイミドフィルム上に、スロットダイコーターを用いて成膜し、この膜にロール圧力1000kg/cm、送り出し速度1m/分で圧力を加えることで、ITO導電膜を得た。得られたITO導電膜の蛍光X線を用いて測定した重量換算膜厚は300nmであった。このITO導電膜を50×50mm□に切り出し、このITO導電膜に対して光焼成装置(NOVACENTRIX(株)社製、製品名:PULSFORGE3300)を用いて、照射エネルギー15J/cm2で、フラッシュランプアニール処理を行ったところ、剥離は生じなかったが、ITO導電膜にクラックが入ってしまい、転写後の表面抵抗8744.0Ω/□と高くなった。なお、ここで用いた塗布液の200℃〜400℃の重量減少率は4.1%であった。
分散媒のエタノール40.0gにITO粉末10gを添加し、超音波ホモジェナイザーで30分間分散し、ITO導電膜形成用塗料を調製した。このITO導電膜形成用塗料を前述した透明導電膜の製造方法に従って、100×300mm□の厚さ50μmのステンレス箔(日新製鋼(株)製、製品名:SUS304 H−TA)の箔上に、スロットダイコーターを用いて成膜し、この膜にロール圧力1000kg/cm、送り出し速度1m/分で圧力を加えることで、ITO導電膜を得た。得られたITO導電膜の蛍光X線を用いて測定した重量換算膜厚は300nmであった。
実施例1の分散媒をN,N,ジメチルホルムアミドに変更して作製した分散液を使用し、100×300mm□のポリイミドフィルム(東レ・デュポン(株)社製、製品名:カプトン200EN)の上に、スロットダイコーターを用いて成膜し、N,N,ジメチルホルムアミド(分散媒)の沸点(153℃)より85℃低い68℃で3分間保持することにより乾燥を行い、乾燥が不完全な状態で、ロール圧力1000kg/cm、送り出し速度1m/分で圧力を加えることで、ITO導電膜を得た。得られたITO導電膜の蛍光X線を用いて測定した重量換算膜厚は300nmであった。
実施例1〜8では、それぞれ分散液の重量0.5%となり、照射エネルギー0.5〜30J/cm2の範囲で、転写後のシートの状態も無色で良好であり、表面抵抗率が63.9〜170.1Ω/□と良好な結果となった。
102 塗布液
104 透明導電膜
106 フラッシュランプ
107 転写用導電シート
108 接着剤
110 透明基材シート
111 透明導電フィルム
Claims (11)
- 100℃以上の耐熱性を有する転写用基材の上面に透明導電性粒子と分散媒とを含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、
前記透明導電膜を照射エネルギー密度0.5〜30J/cm2で加熱処理し転写用導電シートを形成する工程と、
前記転写用導電シートの前記透明導電膜に接着剤を塗布する工程と、
前記転写用導電シートの前記透明導電膜に前記接着剤を介して透明基材シートを貼り付ける工程と、
前記転写用基材を前記転写用導電シートの前記透明導電膜から剥離する工程とを含む透明導電フィルムの製造方法。 - 前記塗布液は200℃〜400℃まで加熱したときの質量減少が2%以下である請求項1記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 前記加熱処理する前に前記分散媒を除去するように前記透明導電膜を乾燥させる工程を含む請求項1又は2記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 前記乾燥が前記分散媒の沸点より5〜70℃低い温度範囲で0.5〜10分間行う請求項1ないし3いずれか1項に記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 前記加熱処理がフラッシュランプアニール処理である請求項1ないし4いずれか1項に記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 前記透明導電性粒子がITO粒子である請求項1ないし5いずれか1項に記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 前記透明導電膜の乾燥工程と前記透明導電膜の加熱処理工程の間に前記透明導電膜を前記転写用基材の上面に加圧する工程を含む請求項1ないし6いずれか1項に記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 前記透明基材シートの上面が前記接着剤の接着を容易にする処理が施されている請求項1ないし7いずれか1項に記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 前記塗布液を塗布する前記転写用基材の上面が前記透明導電膜から容易に剥離可能な処理が施されている請求項1ないし8いずれか1項に記載の透明導電フィルムの製造方法。
- 100℃以上の耐熱性を有する転写用基材の上面に透明導電性粒子と分散媒とを含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、
前記透明導電膜を照射1回当たりの照射エネルギー密度0.5〜30J/cm2で加熱処理し転写用導電シートを形成する工程とを含む転写用導電シートの製造方法。 - 前記転写用導電シートの上面に接着剤を塗布して接着剤層を形成する工程と、
前記接着剤層の上面に離型紙を貼り付ける工程とを含む請求項10記載の転写用導電シートの製造方法。
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CN109509574A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-03-22 | 电子科技大学中山学院 | 一种高均匀性纳米银线柔性透明导电电极的制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02174011A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Reiko Co Ltd | 透明導電性部品の製造方法及びそれに使用する透明導電膜転写材料 |
JPH06103839A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電性基板の製造方法 |
JP2013206722A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Fujifilm Corp | 液状組成物、金属銅膜、及び導体配線、並びに金属銅膜の製造方法 |
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2014
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JPH02174011A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Reiko Co Ltd | 透明導電性部品の製造方法及びそれに使用する透明導電膜転写材料 |
JPH06103839A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電性基板の製造方法 |
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