JP2015161869A - 感光性樹脂および感光性導電性インキ - Google Patents
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Abstract
活性エネルギー線に対する感光性に優れ、希アルカリ水溶液による現像により微細なパターンが形成できるとともに、後硬化(ポストキュア)工程を経て得られる硬化塗膜の導電性や密着性が環境負荷試験を経ても低下しにくい感光性導電性インキ及びその硬化物、積層物の提供。
【解決手段】
エポキシ化合物(a)とフェノール化合物(b)とを反応させてなる、側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)と、脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物(d)と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを、反応させてなる、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)、導電性粒子(B)および光重合開始剤(C)を含む感光性導電性インキ。
【選択図】 なし
Description
前記感光性樹脂(A)が、
分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に少なくとも2個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物(b)とを反応させてなる、側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)と、
脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを、反応させてなる、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)である、感光性導電性インキに関する。
前記感光性樹脂(A)の酸価は10〜200mgKOH/gであることが好ましく、
前記感光性樹脂(A)のエチレン性不飽和基当量は300〜5000g/eqであることが好ましく、
前記感光性樹脂(A)の重量平均分子量は3000〜100000であることが好ましい。
側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)中のヒドロキシル基の一部と、脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)とを反応させて、側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)を生成し、
前記側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)中のヒドロキシル基と、
イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)中のイソシアネート基とを反応させてなる、感光性樹脂であるか、もしくは、
前記側鎖にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(g)中のヒドロキシル基と、
脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)とを反応させてなる、感光性樹脂であるか、もしくは
側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c) を側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)と、
側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f) を側鎖ヒドロキシル基カルボキシル基含有樹脂(f)と、
側鎖にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(g)を側鎖ヒドロキシル基含有感光性樹脂(g)と、
側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A) を側鎖カルボキシル基含有感光性樹脂(A)
あるいは「側鎖」を省略することもある。
感光性導電性インキは、感光性樹脂(A)、導電性粒子(B)、および光重合開始剤(C)を含有し、さらに熱硬化性化合物(D)、エチレン性不飽和化合物(E)等を含むことができる。
本発明の感光性導電性インキは、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)、導電性粒子(B)および光重合開始剤(C)を含むものである。
以下、感光性樹脂(A)について説明する。
感光性樹脂(A)は、分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に少なくとも2個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物(b)とを反応させてなる、側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)と、脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを、反応させてなる、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有するものである。
側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)は、前記エポキシ化合物(a)中のエポキシ基に前記フェノール化合物(b)中のフェノール性水酸基が付加反応し、エポキシ基が開環し、エーテル結合と二級のヒドロキシル基が生ずる。側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)における主鎖は、前記エポキシ化合物(a)に由来する構造と前記フェノール化合物(b)に由来する構造とがエーテル結合により連結されたものである。側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)におけるヒドロキシル基は、エーテル結合により連結された主鎖に対し、側鎖に位置する。
前記酸無水物基含有化合物(d)を用いることにより、生成するエステル結合基が嵩高い置換基で保護することができる。エステル結合基は一般に加水分解性に示すとされているが、嵩高い置換基で保護されることにより加水分解しにくくなる。
しかし、本発明の感光性樹脂(A)を含有する感光性導電性インキの場合、前記酸無水物基含有化合物(d)由来の嵩高い置換基によりエステル結合基が保護されるので、環境負荷試験を経ても抵抗値が変化し難く、密着性も維持できる。
高温高湿試験後においても良好な密着性と導電性とを同時に満足することができる。
まず、本発明の第一の工程で得られる側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)について説明する。
側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)は、分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に少なくとも2個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物(b)とを反応させることで得ることができる。エポキシ基とフェノール性水酸基は、エポキシ基:フェノール性水酸基=1:1〜1:2.5のモル比で反応させることが好ましい。前記エポキシ化合物(a)中のエポキシ基1モルに対し、前記フェノール化合物(b)中のフェノール性水酸基を1モル以上にすることで、適切な分子量にしやすくなり、耐熱性がより向上する。一方、前記フェノール化合物(b)中のフェノール性水酸基を2.5モル以下にすることで、末端エポキシ基の量をより適切にできるため、次工程で多塩基酸無水物(d)を反応させる際に反応制御がしやすくなる。
例えば、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゾフェノンジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシアントラセン型エポキシ樹脂、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスクレゾールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル、N,N−ジグリシジルアニリン等の芳香族エポキシ化合物、
さらに上記記載の芳香族エポキシ化合物の芳香環に水素が付加したもの(水素化エポキシ化合物ともいう)やヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の脂環式エポキシ化合物などが例示できる。
例えば、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(別名:ビスフェノールA)が代表例であり、その他にも、
ビス(4−ヒドロキシフェノル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等の中心炭素に水素原子が結合しているビスフェノール類;
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ヘプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−オクタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ノナン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−デカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン(通称ビスフェノールP)等の中心炭素に1つのメチル基が結合しているビスフェノール類;
2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン(通称ビスフェノールC)等の中心炭素に2つのメチル基が結合しているビスフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−ジフェニルメタン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−1,1−ジフェニルメタン等のジフェニルメタン誘導体であるビスフェノール類;
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(通称ビスフェノールZ)等のシクロヘキサン誘導体であるビスフェノール類;
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等の−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン誘導体であるビスフェノール類;
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のフルオレン誘導体であるビスフェノール類;
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロペンタン、等のシクロアルカン誘導体であるビスフェノール類;
4,4’−ビフェノール等の芳香族環が直接結合したビフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン等のスルホン誘導体であるビスフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル等のエーテル結合を有するビスフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド等のスルフィド結合を有するビスフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド等のスルホキシド誘導体であるビスフェノール類;
フェノールフタレイン等のヘテロ原子含有脂肪族環を有するビスフェノール類;
ビス(2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ジフルオロメタン等の炭素−フッ素結合を有するビスフェノール類等を挙げることができる。
さらに、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、メチルヒドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類;
1,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシナフタレン類等を挙げることができる。
前記エポキシ化合物(a)と前記フェノール化合物(b)との反応の際、前記エポキシ化合物(a)中のエポキシ基が残らないように、前記フェノール化合物(b)のフェノール性水酸基に対して前記エポキシ化合物(a)中のエポキシ基をやや少なく用いることが好ましい。例えば、前記フェノール化合物(b)のフェノール性水酸基1モルに対して、前記エポキシ化合物(a)中のエポキシ基を0.8〜0.99モルの範囲で反応させることが好ましい。
側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)の水酸基価は、50〜200mgKOH/gであることが好ましく、より好ましくは、70〜170mgKOH/gである。側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)の水酸基価が50〜200mgKOH/gであることにより、続く工程における側鎖変性の反応率を調整する自由度が高くなるため、優れた感光性、解像性、及び現像性を付与しやすくなる。
反応の順番は問わないが、前記側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)と、前記酸無水物基含有化合物(d)と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを反応させることによって、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)を得ることができる。
例えば、前記側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)中のヒドロキシル基の少なくとも一部と酸無水物基含有化合物(d)とを反応させ、側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)を得、次いで前記側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)中のヒドロキシル基の少なくとも一部と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを反応させて、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)を得る。
あるいは、前記側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)中のヒドロキシル基の少なくとも一部と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを反応させて、側鎖にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(g)を得、次いで前記側鎖にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(g)中のヒドロキシル基と酸無水物基含有化合物(d)とを反応させ、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)を得る。
あるいは、前記側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)中のヒドロキシル基の一部または全てを酸無水物基含有化合物(d)およびイソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)と反応させて、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)を作製することもできる。
メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ナジック酸、無水ナジック酸、水素化メチル無水ナジック酸、スチルエンドスチレンテトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等の脂環式二塩基酸無水物
水添トリメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物等の三塩基酸以上の脂環式多塩基酸無水物;
無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、無水トリメリット酸等の芳香族二塩基酸無水物;
無水ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の三塩基酸以上の芳香族多塩基酸無水物;
を挙げることができる。
本発明において、酸無水物基含有化合物(d)は、一種のみを単独で用いても良いし、複数を併用しても良い。
さらに、本発明の目的・効果を損なわない範囲で、無水コハク酸等の脂肪族二塩基酸無水物も使用することができる。
例えば、(メタ)アクリロイルイソシアネート、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート、あるいはこれらの変性体等を挙げることができる。
あるいは、フラスコに、酸素存在下、側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)および溶剤を仕込み、撹拌しながら25〜150℃で加熱した後、さらにフラスコに、酸素存在下、酸無水物基含有化合物(d)、および溶剤を仕込み、撹拌しながら25〜150℃で加熱することで感光性樹脂(A)を得ることができる。
なお、本発明でいう「エチレン性不飽和基当量」とは、樹脂の合成時に使用した原材料の重量から算出される理論値であって、樹脂の重量を、樹脂中に存在するエチレン性不飽和基の数で除したものであり、エチレン性不飽和基1モルあたりの樹脂の重量、すなわち、エチレン性不飽和基濃度の逆数に相当するものである。
なお、感光性樹脂(A)の重量平均分子量における側鎖部分の寄与は小さい。つまり、感光性樹脂(A)の重量平均分子量は、主鎖の重量平均分子量、即ち側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)の重量平均分子量とほぼ近しい値を示す。
例えば、スクリーン印刷により粗パターンを形成してからフォトリソ法により微細回路を形成する工程で使用する場合、スクリーン印刷工程において、溶剤乾燥によるスクリーンメッシュでのインキ固化を抑制する必要があるため、高沸点の溶剤を用いることが好ましい。この場合の高沸点溶剤としては、例えばエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルなどのジアルキレングリコールモノアルキレンエーテル化合物、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのトリアルキレングリコールモノアルキレンエーテル化合物が挙げられる。
本発明において、これらの溶剤は、必要に応じて一種のみを単独で用いても良いし、複数を併用しても良く、又、反応過程で脱溶剤を行ったり、脱溶剤後、新たに別の溶剤を添加したりしても良い。
本発明の導電性インキに用いる導電性粒子としては、例えば金、銀、銅、銀メッキ銅粉、銀−銅複合粉、銀−銅合金、アモルファス銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モルブテン、白金等の金属粉、これらの金属で被覆した無機物粉体、酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム等の金属酸化物の粉末、これらの金属酸化物で被覆した無機物粉末、おとびカーボンブラック、グラファイト等を用いることができる。これらの導電性粒子は、1種または2種以上組み合わせて用いても良い。これらの導電性粒子のなかでも、コスト、高導電性で酸化による抵抗率の上昇が少ないことから銀が好ましい。
本発明に係る導電性インキに用いられる導電性粒子のD50粒子径は0.5〜8μmであり、1〜5μmの範囲であることが好ましく、2〜4μmの範囲であることがさらに好ましい。
また、BET比表面積は0.3〜5m2/gであり、0.8〜2.3m2/gの範囲であることが好ましく、0.8〜2m2/gの範囲であることがさらに好ましい。
一方、D50粒子径が8μmを越えると、高精細パターンの印刷性が劣る可能性がある。
なお、導電性粒子のD50粒子径は、島津製作所社製レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」を用いて、体積粒度分布の累積粒度(D50)を測定した。
また、BET比表面積が5m2/gを超えると導電性粒子の表面を被覆するのに多くの樹脂を必要とするため、バインダー樹脂であるエポキシ樹脂に対する濡れが劣り、導電性インキにした場合の流動性が悪くなり印刷塗膜の表面のレベリング性が低下するので好ましくない。また、導電性粒子の表面を被覆するのに多くの樹脂を必要とするため、基材に対する導電パターンの密着性も低下する。
BET比表面積とは、粉体粒子表面に吸着占有面積の分かった分子を液体窒素の温度で吸着させ、その量から試料の比表面積を求める方法であり、不活性気体の低温低湿物理吸着を利用したものがBET法である。BET比表面積は、島津製作所製流動式比表面積測定装置「フローソーブII」を用いて測定した表面積を、以下の式(1)を用いて算出した値と定義する。
式(1) 比表面積(m2/g)=表面積(m2)/粉末質量(g)
光重合開始剤(C)は、活性エネルギー線により前記の感光性樹脂(A)を硬化させるために用いる。光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。活性エネルギー線としては紫外線が好ましい。
ル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
中でも、本発明において、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オンとチオキサントン類とを組み合わせて使用する場合は、安価でありながら感光性が非常に優れるため、特に好ましい。
これらは前記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、感光性樹脂(A)の乾燥重量の合計100質量部に対して1〜20質量部の範囲で添加されるのが好ましい。又、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。
熱架橋性化合物(D)は、耐熱性や塗膜耐性等を更に向上させる目的で用いることができる。熱架橋性化合物(D)としては、一般的に用いられる各種熱架橋性化合物を用いることができるが、特に好ましくは、エポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、ブロック化イソシアネート基含有化合物、キレート化合物およびβ−ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物をからなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることが出来る。
1分子内にエポキシ基を1個有する化合物としては、例えば、N−グリシジルフタルイミド、グリシドール、グリシジル(メタ)アクリレート等の化合物が挙げられる。
1分子内にエポキシ基を3個以上有する化合物としては、例えば、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートトリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリスフェノール型エポキシ化合物、テトラキスフェノール型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物等が挙げられる。
特に、テトラキスフェノール型エポキシ化合物は4官能であり、かつ、耐熱性に優れるため本発明において好ましい。
1分子中にイソシアネート基を1個有するイソシアネート基含有化合物としては、n−ブチルイソシアネート、イソプロピルイソシアネート、フェニルイソシアネート、ベンジルイソシアネート等が挙げられる。
1分子中にイソシアネート基を2個有するイソシアネート基含有化合物としては、例えば、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート等を挙げることができる。
チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタンアシレート化合物などの有機チタン化合物;
ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムアシレート化合物などの有機ジルコニウム化合物;
などが挙げられるが、特に限定されるものではない。
β−ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物を感光性樹脂(A)の硬化剤として用いた場合、反応時の副生成物は水のみであり、硬化物に与える影響も少なく、作業者や環境にはまったく影響がないメリットがある。
熱硬化時に硬化反応に直接的に寄与する化合物としては、アミノ樹脂、フェノール樹脂、多官能ポリカルボン酸無水物、多官能ビニルエーテル化合物、高分子量ポリカルボジイミド類、アジリジン化合物等が挙げられる。
熱硬化時に硬化反応に触媒的に寄与する化合物としては、3級アミンおよびその塩類、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド、イミダゾール類、ジアザビシクロ化合物類、ホスフィン類、ホスホニウム塩類を挙げることができ、これらを使用すると、より効率的に熱硬化反応が進行し、塗膜の耐性が優れるため好ましい。
本発明の感光性導電性インキに含有されるエチレン性不飽和化合物(E)は、前記感光性樹脂(A)以外のものであり、エチレン性不飽和二重結合を1個又は2個以上有する化合物であり、モノマー、オリゴマーを用いることができる。
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロプレングリコールポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、又はネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート等の二官能(メタ)アクリレート類;
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、又はジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の三官能以上の多官能(メタ)アクリレート類;あるいは、
1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、グリセロールジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ビスフェノールAジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ビスフェノールF型エポキシの(メタ)アクリル酸付加物、又はノボラック型エポキシの(メタ)アクリル酸付加物等のエポキシ(メタ)アクリレート類等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸、スチレン、又は酢酸ビニル等の単価能モノマー類;あるいは、
(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、又はアクリロニトリル等の窒素元素を有する単官能モノマー等も使用できる。
この他、本発明の感光性樹脂組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、更に溶剤、染料、顔料、難燃剤、酸化防止剤、重合禁止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、フィラー等を添加することができる。
具体的なプラスチックの種類としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。又、基材の形状としてはフィルムシート、板状パネル、レンズ形状、ディスク形状、ファイバー状の物が挙げられるが、特に制限されるものではない。
スクリーン版の種類としては、ポリエステルスクリーン、コンビネーションスクリーン、メタルスクリーン、ナイロンスクリーン等が挙げられる。また、高粘度なペースト状態のものを印刷する場合は、高張力ステンレススクリーンを使用することができる。
スクリーン印刷のスキージは丸形、長方形、正方形いずれの形状であっても良く、またアタック角度(印刷時の版とスキージの角度)を小さくするために研磨スキージも使用することができる。その他の印刷条件等は従来公知の条件を適宜設計すればよい。
ここで、本発明の導電性インキを抵抗膜方式のタッチスクリーンパネルに適用した場合の一例を図1及び図2を用いつつ説明する。なお、本図1、2は抵抗膜式タッチスクリーンパネルの簡易的な概念図であり、配線の本数、配線幅、配線と配線の間隔は概念図として表している。なお、図2では、三層の中間、粘着材5の位置に視点を置き、下部基板1側は見下ろす状態で、上部基板2側は見上げる状態で各基板側の積層状態を模式的に示した。
そして、下部基板1上の透明電極6の両端部には、導電性インキパターン層3からなる下側駆動電極13,14がそれぞれ形成されている。導電性インキ層3は、絶縁層4によって被覆されている。導電性インキパターン層3は、図1に示すように、基材1、ITO等の透明電極6、そして絶縁層4に接する。
同様に上部基板2上の透明導電7の両端部にも、導電性インキ層3からなる上部駆動電極9,10がそれぞれ形成されている。
そして、本来の目的である入力の時以外に透明電極6、7とが接触しないように、一定の間隔(例えば、10〜150μmの間隔)を開け(図1参照)、下部基板1側の絶縁層4と上部基板2、下部基板1と上部基板2、下部基板1と上部基板2側の絶縁層4が、それぞれ粘着材5により貼り合わされ、積層される。粘着材5は、額縁状に配置することができる。また、図2に示されるように、下部基板1側の駆動電極13,14と、前記上部基板2側の上側駆動電極9,10とは、平面視上において直交するように形成され得る。 更に、前記上部基板2側の駆動電極9,10には、接続電極11,12がそれぞれ導電性接着剤で接続されている。同様に、前記下部基板1側の駆動電極13,14には、接続電極15,16に導電性接着剤でそれぞれ接続されている。
<重量平均分子量(Mw)の測定>
Mwの測定は東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)「HPC−8020」を用いた。GPCは溶媒(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。本発明における測定は、カラムに「LF−604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で行い、重量平均分子量(Mw)の決定はポリスチレン換算で行った。
<分子量分布(Mw/Mn)>
分子量の分散度をあらわし、本発明においては、前記分子量の測定結果より、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)により求めた。
<酸価の測定>
共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、トルエン/エタノール(容量比:トルエン/エタノール=2/1)混合液100mlを加えて溶解する。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定し、指示薬が淡紅色を30秒間保持した時を終点とした。酸価は次式により求めた(単位:mgKOH/g)。
酸価(mgKOH/g)=(5.611×a×F)/S
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、アセチル化試薬(無水酢酸25gをピリジンで溶解し、容量100mlとした溶液)を正確に5ml加え、グリセリン浴中で約1時間攪拌する。放冷後、水1mlを加えて更に10分加熱し、放冷後エタノール5mlを加えた。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、0.5Nの水酸化カリウムエタノール溶液で滴定し、指示薬が淡紅色を30秒間保持した時を終点とした。
水酸基価は次式により求めた(単位:mgKOH/g)。
水酸基価(mgKOH/g)=[{(b−a)×F×28.05}/S]+D
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.5Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
b:空実験の0.5Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.5Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
D:酸価(mgKOH/g)
一方、感光性樹脂(A)のようにカルボキシル基とヒドロキシル基を両方有する樹脂の水酸基価は、アセチル化前の感光性樹脂(A)の中和に要した水酸化カリウムの量を引いて計算をしたものである。
本発明において、感光性樹脂(A)のエチレン性不飽和基当量は、次式により求めた。(単位:g/mol)
エチレン性不飽和基当量(g/mol)=原料のトータル固形分(g)/化合物(e)の仕込みモル数(mol)
[製造例1]
工程1
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、エポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物(a)として、jER825(三菱化学株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ化合物、エポキシ当量176g/eq)86.8部、フェノール性OH基を2個以上有するフェノール化合物(b)としてビスフェノールA84.5部、触媒としてトリフェニルホスフィン(以下、TPPという)1.71部、ジアザビシクロウンデンセン(以下、DBUという)1.71部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート100部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら80℃に昇温し12時間反応させ、水酸基価161.1mgKOH/gの側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)を得た。
次に、酸無水物基含有化合物(d)としてTH(テトラヒドロ無水フタル酸)37.5部(前記側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)中のヒドロキシル基の50モル%に相当する量)を投入し、80℃のまま8時間反応させた。FT−IR測定にて酸無水物基の吸収が消失しているのを確認後、室温まで冷却し側鎖ヒドロキシル基カルボキシル基含有樹脂(f)を得た。酸価は66.3mgKOH/gであった。
次に、このフラスコに、窒素導入管からの窒素を停止し乾燥空気の導入に切り替え、攪拌しながら、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)としてMOI(メタクリロイルオキシエチルイソシアネート38.3部(前記側鎖ヒドロキシル基カルボキシル基含有樹脂(f)中のヒドロキシル基の100モル%に相当する量)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.12部を投入し、40℃で8時間反応させた。反応終了後、この溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が50.0%になるように調整した。
感光性樹脂(A)のエチレン性不飽和基当量は1002g/eqであり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3300、樹脂固形分の酸価は56.0mgKOH/gであった。
表1に示す原料を用い、製造例1と同様な操作を行うことにより、製造例2〜14、比較製造例1〜6の感光性樹脂(A)を得た。各感光性樹脂(A)の質量平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価等を表1に示す。
・jER825:三菱化学株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ化合物、エポキシ当量176g/eq)
・EX931:ナガセケムテックス株式会社製、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル(エポキシ当量471g/eq)
・SR−16HL:阪本薬品株式会社製、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(エポキシ当量125g/eq)
・PG100:大阪ガス化学株式会社製、フルオレン系ジグリシジルエーテル(エポキシ当量214g/eq)
・BisA:ビスフェノールA:4、4’−(ジメチルメチレン)ジフェノール
・BisF:ビスフェノールF:4、4’−メチレンジフェノール
・TH:テトラヒドロ無水フタル酸(脂環式多塩基酸無水物)
・TMA:無水トリメリット酸(芳香族多塩基酸無水物)
・PA:無水フタル酸(芳香族多塩基酸無水物)
・SA:無水コハク酸(脂肪族二塩基酸)
<イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)>
・AOI:アクリロイルオキシエチルイソシアネート
・MOI:メタクリロイルオキシエチルイソシアネート
・BEI:ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート
<その他>
・TPP:トリフェニルホスフィン
・DBU: ジアザビシクロウンデセン
[実施例1]
製造例1で得られた感光性樹脂(A)の溶液20質量部(固形分10質量部)、導電性粒子(B)として球状銀粉(D50粒子径2.8μm、比表面積0.36m2/g)87質量部、光重合開始剤(C)としてIRGACURE 907(BASF株式会社製、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン)3質量部を溶解させたジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート6質量部、をディスパーにて混合後、3本ロールにより分散し、本発明の感光性導電性インキを得た。
得られた感光性導電性インキについて、後述する方法で、感度、現像性、解像性、ITOへの密着性、導電性(表面抵抗値、体積抵抗率)を評価した。結果を表3に示す。
表2に示した組成、および量(固形分)で、感光性樹脂(A)、導電性粒子(B)、光重合開始剤(C)、熱架橋性化合物(D)、エチレン性不飽和化合物(E)を用いた以外は、実施例101と同様にして、感光性導電性インキを得、同様に評価した。
・銀粉A:球状銀粉(D50粒子径2.8μm、比表面積0.36m2/g)
・銀粉B:フレーク銀粉(D50粒子径2.5μm、比表面積1.76m2/g)
・銀粉C:フレーク銀粉(D50粒子径6.3μm、比表面積0.31m2/g)
・開始剤A:BASF株式会社製、IRGACURE 907(2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン)
・開始剤B:BASF株式会社製、IRGACURE 379(2−ジメチルアミノ−2−(4−メチルベンジル)−1−(4−モルフォリン−4−イルーフェニル)−ブタン−1―オン)
・開始剤C:BASF株式会社製 IRGACURE OXE02(エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール-3-イル]−,1−(O−アセチルオキシム))
・硬化剤A:三菱化学株式会社製、Ep1031s(多官能グリシジルエーテル型エポキシ化合物)
・硬化剤B:三菱化学株式会社製、Ep828(ビスフェノールA型エポキシ化合物)
・硬化剤C:住化バイエルウレタン株式会社製、BL3175(HDIイソシアヌレート型ブロックイソシアネート)
・硬化剤D:エムスケミー株式会社製、XL552(N,N,N’,N’−テトラキス(ヒドロキシエチル)アジパミド)
・硬化剤E:川研ファインケミカル株式会社製、アルミキレートA(アルミニウム(トリス(アセチルアセトネート)))
・モノマーA:東亞合成株式会社製、アロニックスM310(トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート)
・モノマーB:日本化薬株式会社製、R167(1,6−ヘキサンジオールジエポキシアクリレート)
[感度]
感光性導電性インキをスクリーン印刷によりガラス基板に塗工した後、70℃で15分間乾燥し、塗膜を得た。膜厚を測定したところ、膜厚は8〜10μmであった。その後、超高圧水銀ランプを用い、L/S(ライン/スペース)=40μm/40μmのマスクパターンのフォトマスクを介して露光量(mJ/cm2)を変えて紫外線を照射した。0.5%炭酸ナトリウム水溶液を用い、スピン現像機にて、スプレー圧0.2MPa、現像時間30秒にて現像した後、イオン交換水を圧力0.05MPa、15秒間スプレーし、未露光部分を取り除いた。現像・水洗後の露光部分の膜厚を測定し、現像前の膜厚に対し95%以上の膜厚が得られる最小露光量(mJ/cm2)を感度とした。
なお、膜厚は、仙台ニコン社製MH−15M型測定器を用いて測定した。
感光性導電性インキを用い、感度測定の場合と同様にしてガラス板上に8〜10μmの厚みの塗膜を作成した。紫外線を照射せずに、感度測定の場合と同じ現像液を同じ条件にて未露光の塗膜にスプレーし、感光性導電性インキの乾燥塗膜が消失する時間を測定した。測定時間を測定膜厚で除し、単位膜厚当たりの時間(秒/μm)を現像速度とした。
感光性導電性インキを用い、感度測定の場合と同様にしてガラス板上に8〜10μmの厚みの塗膜を作成した。その後、超高圧水銀ランプを用い、L/S=20μm/20μm、30μm/30μm、40μm/40μmのマスクパターンのフォトマスクを介して露光量(mJ/cm2)を変えて紫外線を照射した。0.5%炭酸ナトリウム水溶液を用いスピン現像機にて、スプレー圧0.2MPa、現像時間30秒にて現像した後、イオン交換水を圧力0.05MPa、15秒間スプレー洗浄し、未露光部分を取り除いた。現像・水洗後の露光部分のそれぞれの幅のストライプパターンを目視で確認し、解像性を評価した。
○○:L/S=20/20μmのストライプパターンが形成できる。
○:L/S=30/30μmのストライプパターンが形成できる。
△:L/S=40/40μmのストライプパターンが形成できる。
×:L/S=40/40μmのストライプパターンが形成できない。
各感光性導電性インキをITO積層フィルム(日東電工社製、V270L−TEMP、75μm厚、エッチングによりITOが除去された部分と、ITOが残っている部分とを有する)に、15mm×30mmのパターン形状にスクリーン印刷を行った。その後、前記と同様の装置・照射条件でインキ層の全面に紫外線を露光し、同様の条件にて現像した後、135℃オーブンにて30分乾燥し、評価用試験片とした。
評価用試験片について、JIS K5600に準拠し、25℃、相対湿度50%の環境下で、ITO残存部分、ITOエッチング部分それぞれの領域上の導電インキ層に、幅1mm間隔に10マスX10マスの計100マス目をカッターで入れ、ニチバン製セロハンテープ(25mm幅)を印刷面に貼り付け、急激に剥離し、残ったマス目の状態にて評価を行った。
別途、85℃、相対湿度85%の環境下で120時間保存しておいた評価用試験片について、25℃、相対湿度50%の環境下で、ITO密着性試験を同様な手順で行い、高温高湿試験後のITO密着性を下記の基準で評価した。
○:高温高湿試験後の密着性が変化しない
△:高温高湿試験後の密着性がやや劣る(1〜9%剥離する)
×:高温高湿試験後の密着性が劣る(10%以上剥離する)
透明導電性フィルムからなる可動電極基板とガラス電極基板からなる固定電極基板を両面テープによる両面粘着層で貼り合わせて、前述の図1及び図2に示す構成の抵抗膜式タッチスクリーンパネルを作製した。
図2の駆動電極、取り回し回路、接続電極を、実施例1〜28、比較例1〜8の導電性インキを用い、ITO透明電極膜部およびITOをエッチングにより除去した基材上にスクリーン印刷、予備乾燥、露光、現像、乾燥工程を順番に行い形成した。次いで、上記駆動電極、取り回し回路上に、絶縁レジスト(トーヨーケム社製、リオレジストNSP−11)をスクリーン印刷にて印刷し、120℃で30分乾燥させた。完成した上下の電極基板を両面テープにて貼り合わせ、抵抗膜式タッチスクリーンパネルを作製した。なお、取り出し回路末端部は端子A、Bとするために、絶縁レジスト層を設けなかった(図示省略)。
○:環境保存試験後の端子間抵抗値の上昇率が10%未満
△:環境保存試験後の端子間抵抗値の上昇率が10%以上20%未満
×:環境保存試験後の端子間抵抗値の上昇率が20%以上
環境保存試験後の端子間抵抗値の上昇率が20%以下は、標準仕様のタッチスクリーンパネルでは実用上問題のないレベルである。
2:上部基板
3:導電性インキパターン層
4:絶縁層
5:粘着材(貼り合わせ)
6:下部基板の透明電極
7:上部基板の透明電極
8:ドットスペーサー
9,10:上部側駆動電極
11,12:上部側接続電極
13,14:下部側駆動電極
15,16:下部側接続電極
17:取り回し回路
前記感光性樹脂(A)が、
分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に少なくとも2個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物(b)とを反応させてなる、
側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)と、
脂環式多塩基酸の無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを、反応させてなる、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)である、感光性導電性インキに関する。
前記感光性樹脂(A)の酸価は10〜200mgKOH/gであることが好ましく、
前記感光性樹脂(A)のエチレン性不飽和基当量は300〜5000g/eqであることが好ましく、
前記感光性樹脂(A)の重量平均分子量は3000〜100000であることが好ましい。
側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)中のヒドロキシル基の一部と、脂環式多塩基酸の無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)とを反応させて、側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)を生成し、
前記側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)中のヒドロキシル基と、
イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)中のイソシアネート基とを反応させてなる、感光性樹脂であるか、もしくは、
前記側鎖にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(g)中のヒドロキシル基と、
脂環式多塩基酸の無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)とを反応させてなる、感光性樹脂であるか、もしくは
本発明の感光性導電性インキは、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)、導電性粒子(B)および光重合開始剤(C)を含むものである。
以下、感光性樹脂(A)について説明する。
感光性樹脂(A)は、分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に少なくとも2個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物(b)とを反応させてなる、側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)と、脂環式多塩基酸の無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを、反応させてなる、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有するものである。
側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)は、前記エポキシ化合物(a)中のエポキシ基に前記フェノール化合物(b)中のフェノール性水酸基が付加反応し、エポキシ基が開環し、エーテル結合と二級のヒドロキシル基が生ずる。側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)における主鎖は、前記エポキシ化合物(a)に由来する構造と前記フェノール化合物(b)に由来する構造とがエーテル結合により連結されたものである。側鎖ヒドロキシル基含有樹脂(c)におけるヒドロキシル基は、エーテル結合により連結された主鎖に対し、側鎖に位置する。
前記酸無水物基含有化合物(d)を用いることにより、生成するエステル結合基が嵩高い置換基で保護することができる。エステル結合基は一般に加水分解性に示すとされているが、嵩高い置換基で保護されることにより加水分解しにくくなる。
メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ナジック酸、無水ナジック酸、水素化メチル無水ナジック酸、スチルエンドスチレンテトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等の脂環式二塩基酸の無水物
水添トリメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物等の三塩基酸以上の脂環式多塩基の酸無水物;
無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、無水トリメリット酸等の芳香族二塩基酸無水物;
無水ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の三塩基酸以上の芳香族多塩基酸無水物;
を挙げることができる。
・TH:テトラヒドロ無水フタル酸(脂環式多塩基酸の無水物)
・TMA:無水トリメリット酸(芳香族多塩基酸無水物)
・PA:無水フタル酸(芳香族多塩基酸無水物)
・SA:無水コハク酸(脂肪族二塩基酸の無水物)
<イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)>
・AOI:アクリロイルオキシエチルイソシアネート
・MOI:メタクリロイルオキシエチルイソシアネート
・BEI:ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート
<その他>
・TPP:トリフェニルホスフィン
・DBU: ジアザビシクロウンデセン
Claims (8)
- 感光性樹脂(A)、導電性粒子(B)および光重合開始剤(C)を含む、感光性導電性インキであって、
前記感光性樹脂(A)が、
分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に少なくとも2個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物(b)とを反応させてなる、側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)と、
脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)とを、反応させてなる、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(A)である、感光性導電性インキ。 - 感光性樹脂(A)の酸価が10〜200mgKOH/gである、請求項1記載の感光性導電性インキ。
- 感光性樹脂(A)のエチレン性不飽和基当量が300〜5000g/eqである、請求項1または2記載の感光性導電性インキ。
- 感光性樹脂(A)の重量平均分子量が3000〜100000である、請求項1〜3いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。
- 側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)中のヒドロキシル基の一部と、脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)とを反応させて、側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)を生成し、
前記側鎖にヒドロキシル基とカルボキシル基とを有する樹脂(f)中のヒドロキシル基と、
イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)中のイソシアネート基とを反応させてなる、感光性樹脂(A)を含有する、
請求項1〜4いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。 - 側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)中のヒドロキシル基の一部と、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)中のイソシアネート基とを反応させて、側鎖にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(g)を生成し、
前記側鎖にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基とを有する感光性樹脂(g)中のヒドロキシル基と、
脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)とを反応させてなる、感光性樹脂(A)を含有する、
請求項1〜4いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。 - 側鎖にヒドロキシル基を有する樹脂(c)中のヒドロキシル基の一部または全てを、脂環式多塩基酸無水物または芳香族多塩基酸無水物の少なくともいずれか一方である酸無水物基含有化合物(d)およびイソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)中のイソシアネート基とを反応させてなる、感光性樹脂(A)を含有する、
請求項1〜4いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。 - インキ総固形分100質量%中に導電性粒子(B)を60〜95質量%含むことを特徴とする、請求項1〜7いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。
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