JP2015158672A - アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル及びその実装方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】耐候性に優れ、平坦度のよいアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル及びその実装方法を提供する。【解決手段】アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2は、基板21と、互いに間隔をあけて基板21上に設けられている複数の薄膜電界効果トランジスタ22と、基板21及び薄膜電界効果トランジスタ22の上方を覆い、基板21に対向する表面に、複数の薄膜電界効果トランジスタ22に対応して設けられた複数の溝231と、隣り合う溝231同士の間に位置する複数の間隔部232とが形成されており、各々の溝231内には、それぞれ、対応する各薄膜電界効果トランジスタ22のそれぞれが位置し、複数の間隔部232のそれぞれは、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ22同士の間に位置するカバー23と、間隔部232と基板21とを連結する封着層25とを備える。【選択図】図4
Description
本発明は半導体デバイスの製造分野に関し、特に、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル及びその実装方法に関する。
近年、CRTやLCD表示装置の代わりに、有機エレクトロルミネッセンス(Electro Luminescence、以下、「有機EL」と称する)モジュールの有機EL表示装置の利用が注目されている。現在、例えば、当該有機ELモジュールを駆動する薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、「TFT」と称する)を備える有機EL表示装置が研究開発されている。
有機ELモジュール(即ち、有機発光ダイオード(OLED))は、ITO(Indium Tin Oxide、インジウムスズ酸化物)などの透明電極により形成されたアノードと、MTDATA(4、4−2(3−メチルフェニルベンゼンアミノ)ビフェニル)などの第1の正孔伝送層及びTPD(4、4、4−3(3 -メチルフェニルベンゼンアミノ)トリフェニルアミン)などの第2の正孔伝送層から構成された正孔伝送層と、キナクリドン(Quinacridone)誘導体がを含む含まれたBebq2(10− [h] キノリノールベリリウム錯体(10−benzo[h]quinolinol−beryllium complex))により形成された発光層と、Bebq2により形成された電子伝送層と、アルミニウム合金により形成されたカソードとが、順に積層されて形成されている構成である。
前記のような有機ELモジュールは、当該有機ELモジュールを駆動する駆動用TFTから供給された電力によって、発光する。即ち、アノードからの正孔及びカソードからの電子が発光層内部で再び結合して、発光層を形成するための有機分子を励起することにより、励起子(exdton)を形成する。当該励起子が失活を発射する過程において、発光層により発光し、当該光が透明のアノードから透明のアノード及びガラス基板などの絶縁性基板を介して外部へ出射することにより、発光する。
アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル(AMOLED)は、有機発光ダイオード(OLED)技術の一種として、蒸着に使われる材料が水、酸素に極めて敏感であり、蒸着後に密封性に優れた実装が必要となる。しかしながら、エポキシ樹脂フレーム接着剤の方法では、絶縁性に劣るため、内部に乾燥剤を貼り付ける必要があり、頂発射構造に対して、設計困難を招いた。
現在の主な実装方法としては、2枚のガラスの間を接着させるのに用いられる封止材を、ガラスを使って製作することである。図1は、従来のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの縦断面構造を示す図である。具体的には、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル1には、基板11と、薄膜電界効果トランジスタ12と、カバー13と、封止材14とを含む。基板11は、薄膜電界効果トランジスタ12を載せるものであり、図1に示すように、複数の薄膜電界効果トランジスタ12が並んで基板11に固定されている。カバー13は、基板11及び薄膜電界効果トランジスタ12の上を覆う。複数の封止材14は、カバー13と基板11との間に位置し、各封止材14は、隣り合う2つの薄膜電界効果トランジスタ12同士の間に位置する。好ましくは、封止材14が、ガラス材料により形成され、水や酸素が基板11とカバー13との間に侵入することを防ぎ、密封の効果を奏する。塗布、焼き、焼結の3つの製造工程を経て、基板11及びカバー13を接着させる。封止材14は絶縁性が優れるため、乾燥剤を加えなくてもよい。
図2は、従来技術に係るアクティブマトリクス有機発光ダイオードの縦断面構造を示す図である。基板11とカバー13とを貼り付ける際に負圧環境で行われなければならず、基板の貼り付けられる面に対して、封止材フレーム接着材シール剤の接触面積が小さく、かつ、カバー13及び基板11が中空構造であるため、貼り付けの際に平坦度を制御しにくいという問題がある。図2に示すように、貼り付けた後のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル1には、平坦度不良という課題があり、さらに後工程にも影響が及んでいる。しかも、従来のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル1の完成品は、厚さが大きいという課題もある。
従来技術における欠陥を解決するために、本発明は、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの平坦度を容易に制御することができる、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル及びその実装方法を提供することを目的とする。
本発明の一様態によれば、基板と、互いに間隔をあけて前記基板上に設けられている複数の薄膜電界効果トランジスタと、前記基板及び前記薄膜電界効果トランジスタの上方を覆い、前記基板に対向する表面に、前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応して設けられた複数の溝と、隣り合う溝同士の間に位置する複数の間隔部とが形成されており、各々の前記溝内には、それぞれ、対応する各前記薄膜電界効果トランジスタのそれぞれが位置し、前記複数の間隔部のそれぞれは、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するカバーと、前記間隔部と前記基板とを連結する封着層とを備えるアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルを提供する。
好ましくは、前記封着層は、レーザ吸収材にレーザ焼結を施して形成される。
好ましくは、前記レーザ吸収材は、酸化ホウ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化モリブデン、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、或は、酸化スズからなる。
好ましくは、前記レーザ吸収材は、酸化ホウ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化モリブデン、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、或は、酸化スズからなる。
好ましくは、前記溝の縦断面形状は矩形である。
好ましくは、前記封着層の厚さは、6μm以下である。
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好ましくは、前記溝の深さは、10μm以下である。
好ましくは、前記間隔部の幅は、3mm以下である。
好ましくは、前記間隔部の幅は、3mm以下である。
好ましくは、前記カバーと前記基板は、ガラス材料から形成される。
本発明の他の様態によれば、複数の薄膜電界効果トランジスタが互いに間隔があけて設けられている基板を用意する工程と、封着材をカバーの表面に塗布する工程と、露光現像エッチングによって、前記カバーの表面に塗布された封着材の一部を除去し、エッチングによって、前記カバー上の前記封着材が除去された部分に、前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応し、且つそれぞれの間に間隔部が形成されている複数の溝を形成する工程と、前記複数の薄膜電界効果トランジスタが、対応する前記複数の溝内に位置し、前記複数の間隔部のそれぞれが、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するように、前記カバーを前記基板に貼り付ける工程と、前記複数の間隔部と前記基板との間の封着材に対して封着処理を行う工程とを含むアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法を提供する。
本発明の他の様態によれば、複数の薄膜電界効果トランジスタが互いに間隔があけて設けられている基板を用意する工程と、封着材をカバーの表面に塗布する工程と、露光現像エッチングによって、前記カバーの表面に塗布された封着材の一部を除去し、エッチングによって、前記カバー上の前記封着材が除去された部分に、前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応し、且つそれぞれの間に間隔部が形成されている複数の溝を形成する工程と、前記複数の薄膜電界効果トランジスタが、対応する前記複数の溝内に位置し、前記複数の間隔部のそれぞれが、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するように、前記カバーを前記基板に貼り付ける工程と、前記複数の間隔部と前記基板との間の封着材に対して封着処理を行う工程とを含むアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法を提供する。
好ましくは、前記露光現像エッチング工程は、フォトレジストを、前記カバー上の封着材の表面に塗布するステップと、所定のパターンを有するフォトマスクを用いて、フォトレジストを露光させて現像させるステップと、前記フォトレジストにより遮蔽されていない封着材を、前記カバーの表面が露出されるまでエッチングするステップと、露出された前記カバーの表面をエッチングして、前記複数の溝と前記複数の間隔部とを形成するステップとを含む。
好ましくは、前記フォトレジストは、正フォトレジストである。
好ましくは、前記封着材は、レーザ吸収材であり、前記封着処理は、レーザ焼結である。
好ましくは、前記封着材は、レーザ吸収材であり、前記封着処理は、レーザ焼結である。
好ましくは、前記レーザ吸収材は、酸化ホウ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化モリブデン、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、或は、酸化スズからなる。
好ましくは、前記レーザ焼結は、前記基板と前記カバーとを位置合わせした後、前記カバーの間隔部と前記基板とが固定連結されるように、レーザを利用して、予め設定された焼結経路に沿って、前記複数の間隔部上のレーザ吸収材にレーザ焼結を施して封着層を形成するステップを含む。
好ましくは、前記露光現像エッチングの工程の前に、前記カバー表面に塗布された前記封着材に対しベーク処理を行うステップをさらに、含む。
また、本発明のさらに他の様態によれば、基板の表面に封着材を塗布する工程と、露光現像エッチングによって、前記基板表面に塗布された封着材の一部であって互いに間隔をあけている封着材の一部を除去する工程と、前記基板上の前記封着材が除去された部分に、薄膜電界効果トランジスタを設ける工程と、前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応し、且つそれぞれの間に間隔部を形成された複数の溝が、エッチングによって形成された前記カバーを用意する工程と、前記複数の薄膜電界効果トランジスタが、対応する前記複数の溝内に位置し、前記複数の間隔部のそれぞれが、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するように、前記カバーを前記基板上に貼り付ける工程と、前記複数の間隔部と前記基板との間の封着材に対して封着処理を行う工程とを含むアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法を提供する。
本発明により提供するアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルは、カバーの構造を変更することによって、基板に対向する表面に、薄膜電界効果トランジスタに対応する溝と、隣り合う溝同士の間の間隔部とが形成され、間隔部に対応する封着層を用いて前記カバーと前記基板とが連結されている。上記の構成によれば、カバーと基板との貼り付けされる接触面積が大きくて平坦になり、貼り付けの平坦度が大幅に向上され、その後のレーザ焼結に役に立ちになり、さらに完成品の厚さも従来技術よりも薄くなる。
本発明により提供するアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法において、例えば半導体工程を適用して、薄膜工程によって、カバー上に、レーザ吸収材が採用された封着層が塗布し、露光現像エッチング循環工程によって、逐次に必要のない封着層が除去し、エッチングによって薄膜電界効果トランジスタに対応する溝を形成する。或は、基板とカバーとが別々で塗布や露光現像によって、TFT及び封着層を有する基板と、溝及び間隔部を有するカバーとを形成し、さらに基板とカバーとを対応させて封着する。
前記実装方法の優れた効果は、以下のとおりである。
(1)貼り付けた後の平坦度が向上され、レーザ焼結の不良影響が改善された。
(1)貼り付けた後の平坦度が向上され、レーザ焼結の不良影響が改善された。
(2)カバーと基板との間の接触面において、全面的に、例えばレーザ吸収材が採用された封着層が塗布するため、全面的にレーザ焼結を行うことができる。したがって、レーザ焼結場所について、レーザ経路を調整するだけでよく、スクリーンやコーティングのレイアウトを変更する必要がない。また、レーザ焼結幅について、レーザスボットの大きさを調整するだけでよく、スクリーンやコーティング針を変更する必要がない。また、プリントまたはコーティングに対して、一方向における、フォトマスク設計上の2点間の距離と、実際に生産した基板の測定された2点間の距離との差の変異問題もない。
以下の図面を参照しながら、限定性のない実施例について詳細に説明することによって、本発明のその他の特徴、目的、メリットをもっと明らかにする。
以下、図面及び実施例に基づいて、本発明の技術内容を説明する。
図3は、本発明の第1の実施例に係るアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの縦断面構造を示す図である。図4は、本発明の第1の実施例に係るアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの貼り付けた後の縦断面構造を示す図である。図3及び図4に示すように、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2は、基板21と、複数の薄膜電界効果トランジスタ22と、カバー23とを含む。基板21は、薄膜電界効果トランジスタ22を載せるためのものであり、好ましくは、ガラス材から形成される。複数の薄膜電界効果トランジスタ22同士は、間隔をあけて基板21上に設けられている。
図3は、本発明の第1の実施例に係るアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの縦断面構造を示す図である。図4は、本発明の第1の実施例に係るアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの貼り付けた後の縦断面構造を示す図である。図3及び図4に示すように、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2は、基板21と、複数の薄膜電界効果トランジスタ22と、カバー23とを含む。基板21は、薄膜電界効果トランジスタ22を載せるためのものであり、好ましくは、ガラス材から形成される。複数の薄膜電界効果トランジスタ22同士は、間隔をあけて基板21上に設けられている。
カバー23は、基板21及び複数の薄膜電界効果トランジスタ22の上方に貼り付けられる。好ましくは、カバー23は、ガラス材から形成される。さらに、前記基板に対向するカバー23の表面には、複数の薄膜電界効果トランジスタ22に対応する複数の溝231と、複数の溝231同士の間に形成されている複数の間隔部232とが設けられている。各薄膜電界効果トランジスタ22は、いずれも対応する各溝231内に位置し、複数の間隔部232のそれぞれは、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ22同士の間に位置する。好ましくは、各溝231の深さは、いずれも10μm以下である。薄膜電界効果トランジスタ22が基板21に緊密に配列されている場合には、各溝231の間の距離(即ち、間隔部232の幅)は、3mm以下である。
図3に示す好ましい例において、カバー23上における各溝231の縦断面形状は、いずれも矩形であるが、これに限定されない。例えば、変形例において、溝231の縦断面形状は、正方形でもよい。また、他の変形例において、溝231の縦断面形状は、半円形でもよい。当業者であれば、上述の変化例がいずれも実現できることが理解できるので、ここで省略する。
図3に示すように、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2は、間隔部232と基板21とを連結する封着層25をさらに含む。前記封着層25は、間隔部232と基板21との間に位置するレーザ吸収材に、レーザ焼結を施して形成する。
好ましくは、封着層25の厚さは6μm以下である。好ましくは、封着層25は、酸化ホウ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化モリブデン、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、酸化スズなどのレーザ吸収材のいずれか一つを封着材として形成されている。
本発明のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの第1の実施例において、従来技術における封止材を用いた密封構造の代わりに、カバー23には溝231と間隔部とが設けられ、且つ間隔部232及び基板21の間に封着層25を有するため、基板とカバーとの中空構造を回避することができる。したがって、貼り付けた後のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルにおける基板とカバーとの間の接触面積が大きくなり、平坦度が大幅に向上され、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの厚さも従来技術よりも薄くなる。
以下、図5〜図13に基づいて、本発明のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法について説明する。
図5は、図4に示すアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法の実施例1のフローチャートである。具体的には、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2の実装方法は、以下のステップ310〜ステップ340を含む。
ステップ310において、封着材(例えば、レーザ吸収材)をカバーの表面に塗布する。好ましくは、前記レーザ吸収材は、酸化ホウ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化モリブデン、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、酸化スズなどのいずれか1つである。前記カバーは、ガラス材から形成されることが好ましい。
ステップ320において、露光現像エッチングによって、カバー表面に塗布されたレーザ吸収材の一部を除去し、エッチングによって、カバー上のレーザ吸収材が除去された後の部分に溝を形成することによって、隣り合う溝同士の間に複数の間隔部を形成し、かつ、各間隔部の上に一層のレーザ吸収材を保留させる。ここで、レーザ吸収材が一部除去された位置は、薄膜電界効果トランジスタに対応する基板上の予め設定された位置(図3及び図4に示す薄膜電界効果トランジスタ120の位置を参照)である。
ステップ330において、基板の上に、前記カバーを覆う。前記基板上には、複数の薄膜電界効果トランジスタ同士が間隔をあけて設けられている。前記薄膜電界効果トランジスタは、前記溝に対応して位置させられ、複数の間隔部のそれぞれは、隣り合う複数の薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置させられている。前記基板はガラス材から形成されることが好ましい。
ステップ340において、前記間隔部と基板との間に位置するレーザ吸収材にレーザ焼結を施す(即ち、封着材を用いて封着処理を行う)。このようにして、カバーの間隔部と基板とを連結する封着部が形成される。
図6は、図5に示す実装方法における露光現像エッチング循環工程のステップのフローチャットである。具体的には、ステップ320の露光現像エッチング循環工程のステップは、以下のサブステップを含む。
ステップ321において、カバー上に、レーザ又は薄膜を使用して位置合わせマークを作成する。ここで、前記位置合わせマークは、前記基板における薄膜電界効果トランジスタの位置に対応する。
ステップ322において、カバー上のレーザ吸収材の表面にフォトレジストを塗布する。
ステップ323において、ステップ321にて作成された位置合わせマークを利用して、所定のパターンを有するフォトマスクに対して位置合わせを行った後、フォトレジストを露光させる。その後、前記フォトマスクを取り除き、現像させて、露光させたフォトレジストを取り除く。
ステップ324において、フォトレジストにより遮蔽されていないレーザ吸収材を、カバーの表面が露出されるまでエッチングする。
ステップ325において、封着層及びカバーの表面に再びフォトレジストを塗布する。
ステップ326において、前記ステップ321及びステップ323の前記フォトマスクを用いて位置合わせを行ってから、フォトレジストを繰り返し露光現像する。
ステップ326において、前記ステップ321及びステップ323の前記フォトマスクを用いて位置合わせを行ってから、フォトレジストを繰り返し露光現像する。
ステップ327において、フォトレジストにより遮蔽されていないカバーを、溝が形成されるまでエッチングする。
ステップ328において、カバー上のフォトレジストを取り除いて、溝と、上にレーザ吸収材が有する間隔部とを有するカバーを得る。
さらに、当業者は、変形例において、露光現像エッチング工程において、カバーに対するエッチングによって形成しようとするパターンと、レーザ吸収材に対するエッチングによって形成しようとするパターンとが一致する場合には、ステップ325及びステップ326の2回目の露光現像を省略することができることを、理解できる。即ち、レーザ吸収材をエッチングして除去した後、カバーに対して直接にエッチングする。前記2回目の露光現像は、カバー上のエッチングしようとする溝のパターンを調整することを目的とする。
なお、前記実装方法における主なステップに対応するカバーの縦断面構造については、以下の図7〜図11の詳細説明を参照する。
図7は、レーザ吸収材を塗布した後のカバーの縦断面構造を示す図であり、図5のステップ310に対応する。具体的には、図7に示すように、レーザ吸収材25’は、全面的にカバー23に塗布され、塗布されたレーザ吸収材25’の厚さは、6μm以下であることが好ましい。
図8は、フォトレジストが塗布された後のカバーの縦断面構造を示す図であり、図6のステップ322に対応される。具体的には、図8に示すように、レーザ吸収材25’がカバー23の表面に塗布された後、フォトレジスト26を、全面的にレーザ吸収材25’の上に塗布する。好ましくは、フォトレジスト26として、正フォトレジストが使用する。
図9は、1回目の露光現像エッチング後のカバーの縦断面構造を示す図であり、図6のステップ323及び324に対応する。具体的には、図9に示すように、フォトレジスト26を塗布した後、予め作成した位置合わせマークを用いて、レーザ吸収材25’とフォトレジスト26とを有するカバー23の上方に、フォトマスクを位置合わせする。前記フォトマスクに遮蔽されていないフォトレジスト26は、露光現像された後に、レーザ吸収材25’が露出される。さらに、露出されたレーザ吸収材25’をエッチングして除去した後、図9に示すカバー23が得られる。
図10は、再びフォトレジストが塗布されたカバーの縦断面構造を示す図であり、図6のステップ325に対応する。具体的には、図10に示すように、一部のレーザ吸収材25’をエッチングによって除去した後、再び、レーザ吸収材25’及びカバー23の表面に、全面的にフォトレジスト26を塗布する。フォトレジスト26は、正フォトレジストであることが好ましい。
図11は、再び露光現像エッチングした後のカバーの縦断面構造を示す図であり、図6のステップ326及びステップ327に対応する。具体的には、図11に示すように、前回の露光現像する時に使われたフォトマスクを使用して、繰り返して位置合わせをしてから、露光させる。前記フォトマスクに遮蔽されていないフォトレジスト26が露光現像された後、カバー23の表面が露出され、さらに、フォトレジストによって遮蔽されていないカバー23をエッチングして、溝231及び間隔部232を形成することにより、図11に示すカバー23を得る。溝231の深さは10μm以下であることが好ましい。
図11に示すカバー23は、フォトレジスト26が除去された後、薄膜電界効果トランジスタ22が載せている基板21の上方を覆う。そして、カバー23の間隔部232上のレーザ吸収材25’に、レーザ焼結を施して、封着層25を形成することにより、最終的に、図4に示すアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2を得る。レーザ吸収材25’が、間隔部232と基板21との間に全面的に塗布されたため、レーザ吸収材25’が塗布されているすべての領域に、レーザ焼結を施すことができる。さらに、レーザ焼結しようとする部分に対してレーザ経路を調整するだけでよく、スクリーンやコーティングのレイアウトを変更する必要がない。且つ、レーザ焼結の幅については、レーザスボットの大きさを調整するだけでよく、スクリーンやコーティング針を変更する必要がない。また、プリントまたはコーティングに対して、一方向における、フォトマスク設計上の2点間の距離と、実際に生産した基板の測定された2点間の距離との差の変異問題もない。
図12は、図5に示す実装方法における焼結のステップのフローチャートである。具体的には、レーザ焼結のステップ340は、以下のサブステップを含む。
ステップ341において、カバーにおける前記位置合わせマークを利用して、基板とカバーとを位置合わせさせる。
ステップ342において、レーザを利用して、予め設定されたフレーム接着材焼結経路の沿って、間隔部上のレーザ吸収材25’にレーザ焼結を施して封着層25を形成することにより、カバーの間隔部と基板とを固定連結させて、前記アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルを密封する効果を奏する。
図13は、本発明の図4に示すアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法の第2の実施例のフローチャートである。図13を、上記の図5の変形例として理解できる。具体的には、上記の図5に示す実装方法と比較すると、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2の実装方法(2)は、封着材に対しベーク処理を行うステップ350をさらに含むことだけが差異である。ステップ350は、ステップ320の露光現像エッチング循環工程の前に行われる。さらに具体的には、均一に塗布するために、一般的には、封着層として採用する材料に溶剤を混合して、液体を形成する。それで、上記封着層に対しベーク処理を行うステップは、乾燥定型の効果を奏し、上記封着層を上記カバーの表面によりよく貼り付けさせることができる。
図14は、本発明の図4に示すアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法の第3の実施例のフローチャートである。上記の図5に示す実装方法(1)と比較すると、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル2の実装方法(3)は、封着材としてのレーザ吸収層を、カバーに塗布しなく、基板に塗布することが差異である。当該実装方法(3)は、主に、以下のステップ510〜ステップ560を含む。
ステップ510において、前記基板上にレーザ吸収材を塗布する。
ステップ520において、位置合わせマークを作成し、フォトレジストを塗布する処理等の、露光現像エッチングに類似するステップによって、所定のパターンに従って、基板表面のレーザ吸収材の一部を除去する。
ステップ520において、位置合わせマークを作成し、フォトレジストを塗布する処理等の、露光現像エッチングに類似するステップによって、所定のパターンに従って、基板表面のレーザ吸収材の一部を除去する。
ステップ530において、前記レーザ吸収材が除去された部分に、薄膜電界効果トランジスタを設置する。
ステップ540において、カバーの表面において、同様に、露光現像エッチングのステップによって、前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応する溝をエッチングによって形成して、隣り合う溝同士の間にいずれも間隔部を形成する。
ステップ550において、前記複数の薄膜電界効果トランジスタが、対応する前記複数の溝内に位置し、前記複数の間隔部のそれぞれが、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するように、前記カバーを前記基板上に貼り付ける。
ステップ560において、前記レーザ吸収材に対して封着処理を行うことによって、図3及び図4の構造と同様なアクティブマトリクス有機発光ダイオードを形成する。
本実施例において、封着材は、レーザ吸収材であり、前記封着処理は、レーザ焼結処理である。当該レーザ焼結処理は、以下のステップを含む。即ち、前記基板と前記カバーとを位置合わせした後、前記カバーの間隔部と前記基板とが固定連結されるように、レーザを利用して、予め設定された焼結経路に沿って、前記複数の間隔部上のレーザ吸収材にレーザ焼結を施して封着層を形成する。
以上のことから、当業者は、従来技術と比較すると、本発明によって提供するアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル及びその実装方法は、以下の有利な技術効果を奏することが理解できる。
(1)前記アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルは、カバーの構造を変更した。カバーに対して、例えば半導体工程を適用して、薄膜工程によってレーザ吸収材が塗布し、露光現像エッチング循環工程によって、逐次エッチングして、必要のないレーザ吸収材が除去することにより、薄膜電界効果トランジスタに対応する溝と、レーザ吸収材に覆われた間隔部とを形成する。前記の構成によって、カバーは、基板に貼り付けられると、接触面積が大きくて平坦になるため、貼り付けの平坦度が大幅に向上されて、その後のレーザ焼結に大きな役に立ちになり、かつ、完成品の厚さも従来技術よりも薄くなる。前記アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルについて、貼り付けた後の平坦度が向上されて、レーザ焼結に対する不良影響が改善された。
(2)カバーと基板との間の接触面には、レーザ吸収材が塗布されているので、全面的にレーザ焼結を行うことができる。したがって、レーザ焼結部分について、レーザ経路を調整するだけでよく、スクリーンやコーティングのレイアウトを変更する必要がない。また、レーザ焼結幅について、レーザスボットの大きさを調整するだけでよく、スクリーンやコーティング針を変更する必要がない。また、プリントまたはコーティングに対して、一方向における、フォトマスク設計上の2点間の距離と、実際に生産した基板の測定された2点間の距離との差の変異問題もない。
上記のように、本発明の好ましい実施例を説明した。しかしながら、本発明は上記の記載に限定されない。当業者であれば、本発明の思想及び範囲内において、各種の変更及び補正を行うことができる。したがって、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で定めた範囲を規準とする。
Claims (7)
- 基板と、
互いに間隔をあけて前記基板上に設けられている複数の薄膜電界効果トランジスタと、
前記基板及び前記薄膜電界効果トランジスタの上方を覆い、前記基板に対向する表面に、前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応して設けられた複数の溝と、隣り合う溝同士の間に位置する複数の間隔部とが形成されており、各々の前記溝内には、それぞれ、対応する各前記薄膜電界効果トランジスタのそれぞれが位置し、前記複数の間隔部のそれぞれは、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するカバーと、
前記間隔部と前記基板とを連結する封着層と
を備えることを特徴とするアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル。 - 前記封着層は、レーザ吸収材にレーザ焼結を施して形成され、
前記レーザ吸収材は、酸化ホウ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化モリブデン、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、或は酸化スズからなる
ことを特徴とする請求項1に記載のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル。 - 前記溝の縦断面形状は矩形である
ことを特徴とする請求項1または2に記載のアクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル。 - アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法において、
複数の薄膜電界効果トランジスタが互いに間隔をあけて設けられている基板を用意する工程と、
封着材をカバーの表面に塗布する工程と、
露光現像エッチングによって、前記カバーの表面に塗布された封着材の一部を除去し、エッチングによって、前記カバー上の前記封着材が除去された部分に、前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応し、且つそれぞれの間に間隔部が形成されている複数の溝を形成する工程と、
前記複数の薄膜電界効果トランジスタが、対応する前記複数の溝内に位置し、前記複数の間隔部のそれぞれが、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するように、前記カバーを前記基板に貼り付ける工程と、
前記複数の間隔部と前記基板との間の封着材に対して封着処理を行う工程と
を含むことを特徴とする実装方法。 - 前記露光現像エッチング工程は、
フォトレジストを、前記カバー上の封着材の表面に塗布するステップと、
所定のパターンを有するフォトマスクを用いて、フォトレジストを露光させて現像させるステップと、
前記フォトレジストにより遮蔽されていない封着材を、前記カバーの表面が露出されるまでエッチングするステップと、
露出された前記カバーの表面をエッチングして、前記複数の溝と前記複数の間隔部とを形成するステップと
を含むことを特徴とする請求項4に記載の実装方法。 - 前記封着材は、レーザ吸収材であり、前記封着処理は、レーザ焼結であり、
前記レーザ吸収材は、酸化ホウ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化モリブデン、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、或は酸化スズからなり、
前記レーザ焼結は、前記基板と前記カバーとを位置合わせした後、前記カバーの間隔部と前記基板とが固定連結されるように、レーザを利用して、予め設定された焼結経路に沿って、前記複数の間隔部上のレーザ吸収材にレーザ焼結を施して封着層を形成するステップを含む
ことを特徴とする請求項4または5に記載の実装方法。 - アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネルの実装方法において、
基板の表面に封着材を塗布する工程と、
露光現像エッチングによって、前記基板表面に塗布された封着材の一部であって互いに間隔をあけている封着材の一部を除去する工程と、
前記基板上の前記封着材が除去された部分に、薄膜電界効果トランジスタを設ける工程と、
前記複数の薄膜電界効果トランジスタに対応し、且つそれぞれの間に間隔部が形成された複数の溝が、エッチングによって形成されたカバーを用意する工程と、
前記複数の薄膜電界効果トランジスタが、対応する前記複数の溝内に位置し、前記複数の間隔部のそれぞれが、隣り合う薄膜電界効果トランジスタ同士の間に位置するように、前記カバーを前記基板上に貼り付ける工程と、
前記複数の間隔部と前記基板との間の封着材に対して封着処理を行う工程と
を含み
前記封着材は、レーザ吸収材であり、前記封着処理は、レーザ焼結であり、
前記レーザ焼結は、前記基板と前記カバーとを位置合わせした後、前記カバーの間隔部と前記基板とが固定連結されるように、レーザを利用して、予め設定された焼結経路に沿って、前記複数の間隔部上のレーザ吸収材にレーザ焼結を施して封着層を形成するステップを含む
ことを特徴とする実装方法。
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