JP2015155362A - 合成石英ガラスの熱処理方法 - Google Patents
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Abstract
1150〜1060℃にて一定時間保持する第1の熱処理工程と、
第2の熱処理温度まで一定速度で冷却する冷却工程と、
1030〜950℃にて一定時間保持する第2の熱処理工程と、
−25〜−85℃/hrの速度で徐冷する工程と
を含む合成石英ガラスの熱処理方法であって、前記第2の熱処理工程時間が5時間以上である合成石英ガラスの熱処理方法。
【効果】本発明によれば、2段階の熱処理を行うことにより、ArFエキシマレーザ用光学部材としてレーザの照射を受ける有効範囲内において好適な低複屈折率の合成石英ガラスを得ることができる。
【選択図】なし
Description
〔1〕
OH基濃度の最大値と最小値の差(ΔOH)が350ppm未満である合成石英ガラスを
1150〜1060℃にて一定時間保持する第1の熱処理工程と、
第2の熱処理温度まで一定速度で冷却する冷却工程と、
1030〜950℃にて一定時間保持する第2の熱処理工程と、
−25〜−85℃/hrの速度で徐冷する工程と
を含む合成石英ガラスの熱処理方法であって、前記第2の熱処理工程時間が5時間以上である合成石英ガラスの熱処理方法。
〔2〕
第2の熱処理工程時間が5〜20時間である〔1〕記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
〔3〕
OH基濃度の最大値と最小値の差(ΔOH)が350ppm以上である合成石英ガラスを
1150〜1060℃にて一定時間保持する第1の熱処理工程と、
第2の熱処理温度まで一定速度で冷却する冷却工程と、
1030〜950℃にて一定時間保持する第2の熱処理工程と、
−25〜−85℃/hrの速度で徐冷する工程と
を含む合成石英ガラスの熱処理方法であって、前記第2の熱処理工程時間が10〜15時間である合成石英ガラスの熱処理方法。
〔4〕
第1の熱処理工程時間が0.5〜10時間である〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
〔5〕
前記第2の熱処理工程後に徐冷する工程が、第2の熱処理工程時の温度から850℃まで−25〜−45℃/hrの速度で徐冷する第1の徐冷工程と、
850〜500℃まで−25〜−85℃/hrの速度で徐冷する第2の徐冷工程と
を含む〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
〔6〕
前記第2の熱処理温度まで冷却する冷却工程が、−7〜−30℃/hrの速度で冷却する〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
〔7〕
熱処理を行う合成石英ガラスの中心部のOH基濃度が400〜600ppmである〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
〔8〕
合成石英ガラスのArFエキシマレーザの照射を受ける有効範囲における複屈折率を2nm/cm以下とする〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で10時間保持した。更に、850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で5時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で20時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で10時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で15時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出しラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で15時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で10時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示す中心部OH基濃度及びΔOHを有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で10時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて1100℃まで5時間で昇温後、4時間保持した。980℃まで−15℃/hrの速度で冷却後、980℃で20時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
表1に示すΔOH及び中心部OH基濃度を有する187mm×187mm×50mmの合成石英ガラスブロックを大気中、常圧の電気炉内にて980℃まで5時間で昇温後、15時間保持した。更に850℃まで−30℃/hrの速度で徐冷後、500℃まで−50℃/hrの速度で徐冷し、その後に電気炉の電源を落とし、室温まで冷却した。得られたブロックの中央部よりスライス基板を切り出し、ラッピング加工、研磨加工を通じて、6インチ角の厚み6.35mmの合成石英ガラス研磨基板を得た。
得られた研磨基板の193nmにおける複屈折率を複屈折率測定装置で測定した。その結果を表1に示す。
Claims (8)
- OH基濃度の最大値と最小値の差(ΔOH)が350ppm未満である合成石英ガラスを
1150〜1060℃にて一定時間保持する第1の熱処理工程と、
第2の熱処理温度まで一定速度で冷却する冷却工程と、
1030〜950℃にて一定時間保持する第2の熱処理工程と、
−25〜−85℃/hrの速度で徐冷する工程と
を含む合成石英ガラスの熱処理方法であって、前記第2の熱処理工程時間が5時間以上である合成石英ガラスの熱処理方法。 - 第2の熱処理工程時間が5〜20時間である請求項1記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
- OH基濃度の最大値と最小値の差(ΔOH)が350ppm以上である合成石英ガラスを
1150〜1060℃にて一定時間保持する第1の熱処理工程と、
第2の熱処理温度まで一定速度で冷却する冷却工程と、
1030〜950℃にて一定時間保持する第2の熱処理工程と、
−25〜−85℃/hrの速度で徐冷する工程と
を含む合成石英ガラスの熱処理方法であって、前記第2の熱処理工程時間が10〜15時間である合成石英ガラスの熱処理方法。 - 第1の熱処理工程時間が0.5〜10時間である請求項1〜3のいずれか1項記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
- 前記第2の熱処理工程後に徐冷する工程が、第2の熱処理工程時の温度から850℃まで−25〜−45℃/hrの速度で徐冷する第1の徐冷工程と、
850〜500℃まで−25〜−85℃/hrの速度で徐冷する第2の徐冷工程と
を含む請求項1〜4のいずれか1項記載の合成石英ガラスの熱処理方法。 - 前記第2の熱処理温度まで冷却する冷却工程が、−7〜−30℃/hrの速度で冷却する請求項1〜5のいずれか1項記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
- 熱処理を行う合成石英ガラスの中心部のOH基濃度が400〜600ppmである請求項1〜6のいずれか1項記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
- 合成石英ガラスのArFエキシマレーザの照射を受ける有効範囲における複屈折率を2nm/cm以下とする請求項1〜7のいずれか1項記載の合成石英ガラスの熱処理方法。
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