JP2015146677A - 電源装置及び電源装置の制御方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】直流電源装置において、環境が極低温から高温の広範囲に亘って変動しても、小さな変換損失で安定して電力変換することができないという問題があった。
【解決手段】制御手段14はヒートシンク温度Thが低温閾値Tth_low以下の時、半導体スイッチング素子4をオン状態にして、加熱用抵抗3の導通損失による発熱により、半導体スイッチング素子8a,8bを加熱する。その後、ヒートシンク温度Thが高温閾値Tth_high以上の時は、半導体スイッチング素子4をオフ状態して、半導体スイッチング素子8a,8bの加熱を停止する。
【選択図】図1

Description

この発明は、ワイドバンドギャップ半導体を用いた半導体素子を有する電源装置であって、交流電源を直流電源へ変換するコンバータ動作、又は直流電源を交流電源へ変換するインバータ動作を行う電源装置に関するものである。
従来の電源装置には、入力電流の力率の改善及び出力電圧の昇圧の為に、リアクタとダイオードと半導体スイッチング素子を有した昇圧回路を用いてコンバータ動作を行うものがある(例えば、昇圧チョッパ回路を用いたコンバータ装置)。また、この電源装置の発展形としてインターリーブ方式による力率改善回路を備えた電源装置がある。インターリーブ方式の電源装置では、入力端の高電圧側を2つ以上の電流経路に分岐させ、分岐したそれぞれの経路にリアクタと半導体スイッチング素子とダイオードからなる回路を接続し、それらの半導体スイッチング素子を交互にスイッチング動作させることで、高調波ノイズ電流を抑制するようにしている(例えば特許文献1、2)。
このインターリーブ方式の電源装置では、半導体スイッチング素子のスイッチング周波数を高くするほど電流のリプル成分を減らすことができ、リアクタの小型化が可能になる。しかしながら、スイッチング周波数の上昇は半導体スイッチング素子における電力損失の増加をもたらしてしまうという問題がある。この為、半導体スイッチング素子として、Si(シリコン)半導体によって形成されたIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor,絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)やMOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, 電界効果トランジスタ)ではなく、SiC(炭化珪素)等のワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子(例えばMOSFET)を用いることで、半導体スイッチング素子における電力損失を抑制しつつ半導体スイッチング素子の高周波駆動を可能にすることが考えられる。
特開平11−289766号公報 特開2007−195282号広報
SiC半導体によって形成されたMOSFET(SiC−MOSFETと記す)はチャネル移動度がSi−MOSFETのチャネル移動度よりも低いというデバイス特性をもつために、SiC−MOSFETのチャネル部の抵抗がSi−MOSFETのチャネル部の抵抗よりも高くなることが知られている。このため、前述したような電源装置の半導体スイッチング素子としてSiC−MOSFETを用いた場合、半導体スイッチング素子のゲート電圧をSi−MOSFETのゲート電圧よりも高く設定することでMOSFETのチャネル部の抵抗を低減させることが考えられる。
しかしながら、一般にMOSFETはゲートの耐電圧性能が低い為、ゲート電圧を上げることが困難な場合が多い。また、SiC−MOSFETのゲート電圧を上げる為には、SiC−MOSFET以外の回路素子用の直流電圧源(例えば15V)とは別にSiC−MOSFETのゲート電圧用により高電圧の直流電圧源(例えば18V)を追加したり、直流電圧を高める為の回路の追加を行ったりすることが必要になる。この為、電子基板の基板面積上の制約がある場合、新たな電源等の追加ができない為に、ゲート電圧の高電圧化が実現できないケースも生じてしまう。
SiC−MOSFETをこのようなゲート電圧が高電圧でない状況(例えばゲート電圧が15Vを下回る状態)で、かつ極端な低温(例えば−50℃)の動作温度環境で使用した場合、SiC−MOSFETのチャネル移動度が異常に低くなるため、導通抵抗が激増し、急激な発熱が生じてMOSFET素子が破壊される可能性があった。この為、このような厳しい低温環境下で動作する電源装置を実現することが難しかった。
本発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、半導体スイッチング素子にSiC−MOSFETを使用し、かつ低温環境でも動作可能な電源装置を得ることである。
本発明の電源装置は、1つ以上の第1の半導体スイッチング素子を有し、交流電力を直流電力に変換するコンバータ動作、若しくは直流電力を交流電力に変換するインバータ動作を行う電力変換手段と、前記第1の半導体スイッチング素子を加熱する為の加熱用抵抗と、該加熱用抵抗の導通を制御する第2の半導体スイッチング素子と、前記第1の半導体スイッチング素子の放熱用に設けたヒートシンクの温度若しくは外気温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段が検出した温度を用いて、前記第1の半導体スイッチング素子及び前記第2の半導体スイッチング素子をオン・オフ制御する駆動信号を生成する制御手段と、を備えたことを特徴とするものである。
本発明の電源装置は、電力変換手段を構成する半導体スイッチング素子の駆動可能な温度領域を拡張させることができるので、より低温環境での使用に耐えうる電源装置を提供することができる。
実施の形態1における電源装置の構成図。 実施の形態1における制御動作を説明する動作フロー図。 実施の形態2における電源装置の構成図。 実施の形態2における制御動作を説明する動作フロー図。 実施の形態2における通電時間閾値データの構成を示す図。 実施の形態1における電源装置の構成図(変形例)。 実施の形態1における電源装置の構成図(変形例)。 実施の形態3における電源装置の構成図。 実施の形態3における制御動作を説明する動作フロー図。
実施の形態1.
実施の形態1における電源装置について、図に基づいて構成及び動作を説明する。図1に交流電力を直流電力に変換するコンバータ動作を行う電源装置(コンバータ装置)の構成図を示す。図1に示す電源装置において、単相交流電源である交流電源1はダイオードD1〜D4からなるブリッジ回路(全波整流回路)である整流手段2に接続され、整流手段2の正極側出力端子と負極側出力端子間に加熱用抵抗3とシリコン半導体で形成した半導体スイッチング素子4(例えば、シリコン−n型MOSFET)が直列に接続されている。ブリッジ回路2の高電位出力端子には、昇圧手段5a、昇圧手段5bが並列に接続され、昇圧手段5a、昇圧手段5bの出力端子が平滑手段(出力コンデンサ)6に接続されている。インバータなどの直流負荷11が平滑手段6の端子間に並列接続される。直流負荷11は平滑手段6から電力の供給を受けて動作する。
昇圧手段5aは、昇圧リアクタとして機能するリアクタ7a、半導体スイッチング素子8a、逆流防止ダイオード9a、及びシャント抵抗10aで構成する。昇圧手段5bも昇圧手段5aと同様な構成を有し、昇圧リアクタとして機能するリアクタ7b、半導体スイッチング素子8b、逆流防止ダイオード9b、及びシャント抵抗10bとで構成されている。なお、整流手段2、昇圧手段5a、5b、平滑手段6とでコンバータ動作を行う電力変換手段を構成する。
半導体スイッチング素子8aは、炭化珪素(SiC)、窒化ガリウム(GaN)系材料又はダイヤモンド等のワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子(例えばSiC−n型MOSFET)で構成され、コレクタまたはドレインがリアクタ7aと逆流防止ダイオード9aの間に接続され、エミッタまたはソースがシャント抵抗10aを介して整流手段2の負極側出力端子と平滑手段6の負極側端子に接続されている。同様に、半導体スイッチング素子8bは、SiC等のワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子で構成され、コレクタまたはドレインがリアクタ7bと逆流防止ダイオード9bの間に接続され、エミッタまたはソースがシャント抵抗10bを介して整流手段2の負極側出力端子と平滑手段6の負極側端子に接続されている。
逆流防止ダイオード9aは、アノードがリアクタ7aと半導体スイッチング素子8aに接続され、カソードが平滑手段6に接続されている。逆流防止ダイオード9bは、アノードが、リアクタ7bと半導体スイッチング素子8bに接続され、カソードが平滑手段6に接続されている。
出力電圧検出手段15は平滑手段6の両端に接続され、平滑手段6の端子間の直流電圧を検出する。また、ヒートシンク温度検出手段16はサーミスタ等で構成され、半導体スイッチング素子8a,8bの各素子の放熱用に設けたヒートシンク(図示せず)の周囲に設置するか、若しくはヒートシンクに直接接触させて設置して、ヒートシンクの温度を検出する。また、電流検出手段17a,17bはシャント抵抗10a,10bの両端電圧に基づいてシャント抵抗10a,10bを流れる電流をそれぞれ検出する。
制御手段14は出力電圧検出手段15が検出した平滑手段6の両端電圧と電流検出手段17a,17bが検出したシャント抵抗10a,10bを流れる電流値とヒートシンク温度検出手段16が検出したヒートシンク温度に基づいて半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bをそれぞれオン・オフ制御する駆動信号を生成して、駆動回路12a,12b及び駆動回路13に出力する。なお、制御手段14は具体的にはマイクロコンピュータやDSP(Digital signal Processor)等のマイクロプロセッサで実現するが、それ以外の演算回路を組み合わせた構成でもよい。
半導体スイッチング素子8a,8bのゲート端子には駆動回路12a、12bがそれぞれ接続され、半導体スイッチング素子4のゲート端子には駆動回路13が接続される。駆動回路12a,12b及び駆動回路13は制御手段14が出力する駆動信号に基づいて半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bのゲート端子を駆動するゲート制御信号を生成し、半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bをそれぞれ駆動制御する。
次にこのように構成された電源装置の動作について説明する。制御手段14は図2の動作フローに従って半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bのスイッチング動作を制御する。以下、動作フロー図に従って動作を説明する。
制御手段14は最初に、半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bをオフ状態にする駆動信号を駆動回路13及び駆動回路12a、12bにそれぞれ出力することで、電源装置を電力変換動作(コンバータ動作)開始前の初期状態に設定する(ステップS1)。
次に、電源装置が電力変換動作に移行するに際して、制御手段14はヒートシンク温度検出手段16によってヒートシンク温度Thを検出し(ステップS2)、予め電源装置に設定されている閾値温度である低温閾値Tth_lowと検出したヒートシンク温度Thとを比較する(ステップS3)。
ここで低温閾値Tth_lowの値は、半導体スイッチング素子8a,8bで使用するワイドバンドギャップ半導体素子の導通を許可する下限温度を意味し、SiC−MOSFETの場合には例えばTth_low=−50℃に設定すればよい。また、ヒートシンクの温度は半導体スイッチング素子8a,8bを構成するワイドバンドギャップ半導体素子の温度よりも低くなるため、ヒートシンク温度Thが低温閾値Tth_lowよりも大きい状態では、半導体スイッチング素子8a,8bを構成するデバイス素子の温度も低温閾値Tth_lowより大きい状態であるとみなすことができる。
ヒートシンク温度Thが低温閾値Tth_lowよりも大きい時(ステップS3:No)は、制御手段14は半導体スイッチング素子4のオフ状態を維持するとともに、半導体スイッチング素子8a,8bのインターリーブ動作を開始する。これにより電源装置の電力変換動作(力率改善コンバータ動作)が実現される(ステップS7)。
ここで、半導体スイッチング素子8a,8bのインターリーブ動作について説明する。インターリーブ動作では、半導体スイッチング素子8aをオン状態にしてリアクタ7aに電磁エネルギーを蓄積させ、その後半導体スイッチング素子8aをオフ状態にすることでこの電磁エネルギーを出力電流として逆流防止ダイオード9a経由で平滑手段6に供給する。半導体スイッチング素子8bも半導体スイッチング素子8aと同様に、リアクタ7bに蓄えた電磁エネルギーを逆流防止ダイオード9b経由で平滑手段6に供給する。
制御手段14は、電流検出手段17aが検出したシャント抵抗10aでの電流値と電流検出手段17bが検出したシャント抵抗10bでの電流値と出力電圧検出手段15が検出した平滑手段6の端子間直流電圧値とに基づいて半導体スイッチング素子8a,8bのオン状態の継続時間とオフ状態の継続時間の比(オン/オフ比)、及びオン/オフタイミングの位相を調整することでインターリーブ動作を行う。このように、半導体スイッチング素子8a,8bをインターリーブ動作させることにより、スイッチング動作に起因する高調波ノイズ電流を抑制することができる。
ヒートシンク温度Thが低温閾値Tth_low以下の時(ステップS3:Yes)は、制御手段14は半導体スイッチング素子4をオン状態にする。これにより加熱用抵抗3が通電し、加熱用抵抗3の導通損失による発熱により、半導体スイッチング素子8a,8bが加熱され(加熱動作)、半導体スイッチング素子8a,8bの温度が上昇する。なお、半導体スイッチング素子8a,8bはオフ状態を維持し、スイッチング動作は行わせない(ステップS4)。
なお、半導体スイッチング素子8a,8bの加熱をより効果的に行うために、加熱用抵抗3を半導体スイッチング素子8a,8bの近傍に配置するか、又は半導体スイッチング素子8a,8bに接触させて配置するのが望ましい。
次に、制御手段14は、ヒートシンク温度検出手段16によってヒートシンク温度Thを検出し(ステップS5)、この検出したヒートシンク温度Thと予め電源装置に設定されている閾値温度である高温閾値Tth_highとを比較する(ステップS6)。
ここで高温閾値Tth_highの値は、低温閾値Tth_lowより大きい温度を設定する(Tth_high>Tth_low)。SiC−MOSFETの場合には例えばTth_high=−20℃に設定すればよい。高温閾値Tth_highと低温閾値Tth_lowの温度差ΔTが小さいと、ヒートシンク温度検出手段16の検出誤差等で制御が不安定になってしまう恐れがあるため、制御の安定性を確保するためには、温度差ΔTをある程度大きくすることが望ましい。
ヒートシンク温度Thが高温閾値Tth_highよりも小さい時(ステップS6:No)はステップS5に戻り、引き続きヒートシンク温度を検出し、検出したヒートシンク温度Thと高温閾値Tth_highとの比較を継続する。半導体スイッチング素子8a,8bが加熱されて半導体スイッチング素子8a,8bの温度が上昇すると、半導体スイッチング素子8a,8bに取り付けられたヒートシンク自体の温度も上昇していく。この為、ヒートシンク温度Thを継続的に確認することで、半導体スイッチング素子8a,8bの温度上昇を推定することができる。
ヒートシンク温度Thが高温閾値Tth_high以上の時(ステップS6:Yes)は、制御手段14は半導体スイッチング素子4をオフ状態にして、加熱用抵抗3への通電を停止する。これにより、半導体スイッチング素子8a,8bに対する加熱動作が停止する。また、半導体スイッチング素子8a,8bのスイッチングのインターリーブ動作を開始する。これにより電源装置の電力変換動作(力率改善コンバータ動作)が実現される(ステップS7)。
半導体スイッチング素子8a,8bが正常にスイッチング動作を開始できれば、スイッチング動作により生ずる自己発熱により、半導体スイッチング素子8a,8bの温度はゆっくりと上昇していくので、半導体スイッチング素子8a,8bの温度は熱破壊が懸念される低温領域まで低下することはない。その後は、ヒートシンクと冷却ファン(図示せず)による冷却機能により、半導体スイッチング素子8a,8bを適正な温度範囲で継続動作させることができる。
以上の説明では、半導体スイッチング素子8a,8bは両方ともワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子であったが、これに限らず半導体スイッチング素子8a,8bのいずれか一方のみをワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子とし、他方をSi半導体によって形成された半導体スイッチング素子としてもよい。
また、以上の説明では昇圧手段を2つ(昇圧手段5a,5b)備えた2相構成であったが、これに限らず、昇圧手段は1つ(昇圧手段5a)でもよいし、昇圧手段5aと昇圧手段5bの他にさらに昇圧手段を数段並列接続することで昇圧手段をさらに多相化するようにしてもよい。一例として、昇圧手段を1つにした場合の構成を図6に示す。図6では図1の構成にはあった昇圧手段5b、電流検出手段17b、駆動回路12bを削除することで昇圧手段を1相構成とし、制御手段14は出力電圧検出手段15が検出した平滑手段6の両端電圧とヒートシンク温度検出手段16が検出したヒートシンク温度に基づいて半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8aをそれぞれ制御することで電力変換(コンバータ動作)を行う。制御手段14の動作フローは電力変換動作がインターリーブ動作を用いない昇圧コンバータ動作である点を除き図2と基本的に同じであるので説明を省略する。
また、以上の説明では交流電源1は単相交流電源であったが、図7に示すように、三相交流電源20を用いるようにしてもよい。この場合、整流手段はダイオードD1〜D6からなるブリッジ回路である整流手段21となる。その他の回路構成及び回路動作は図1及び図2で説明したものと同一であるので説明を省略する。
以上のように本実施の形態における電源装置は、電源装置で使用するSiC(シリコンカーバイド)等のワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子の素子温度が安定な動作が保証できない低温領域にある場合には、加熱用抵抗を通電させて生じる発熱により半導体スイッチング素子を加熱して、半導体スイッチング素子の温度が安定動作可能な温度領域まで変化させるようにした。そして、半導体スイッチング素子の温度が安定動作可能な温度領域まで変化したことを確認した上で、半導体スイッチング素子のスイッチング動作制御を行うようにしたので、低温環境下での電源装置の起動時でも半導体スイッチング素子が熱破壊されることを防止でき、電源装置の通電開始可能な温度領域を拡大することができるという効果が得られる。
実施の形態2.
実施の形態1の電源装置は、制御手段14が行う制御の際にヒートシンク温度検出手段16が検出したヒートシンク温度を用いるようにしていたが、実施の形態2の電源装置は、電源装置を屋外に設置した場合を想定してヒートシンクの温度の代わりに、外気温度を用いて制御するようにしたものである。
以下、実施の形態2における電源装置について、図に基づいて構成及び動作を説明する。図3にコンバータ動作を行う実施の形態2の電源装置(コンバータ装置)の構成図を示す。図3において、外気温度検出手段18はサーミスタ等で構成され、電源装置が設置されている周囲の外気温度を検出する。なお、電源装置が屋外設置の電気機器に組み込まれる場合には、電気機器が既に外気温度検出手段を他の目的で有している場合があり、その際にはその外気温度検出手段を外気温度検出手段18として流用することができる。
データ記憶手段19は外気温度ごとの加熱用抵抗3の通電時間閾値をデータとして予め記憶しておくものであり、データ内容については後述する。
制御手段14は出力電圧検出手段15が検出した平滑手段6の両端電圧と電流検出手段17a,17bが検出したシャント抵抗10a,10bを流れる電流値と外気温度検出手段18が検出した外気温度に基づいて半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bをそれぞれオン・オフ制御する駆動信号を生成して、駆動回路12a,12b及び駆動回路13に出力する。なお、その他の構成部分は実施の形態1(図1)の構成と同一であるので、同一符号を付し、説明を省略する。
以下、制御手段14は図4の動作フローに従って半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bのスイッチング動作を制御する。以下、動作フロー図に従って動作を説明する。
制御手段14は最初に、半導体スイッチング素子4及び半導体スイッチング素子8a,8bをオフ状態にするゲート制御信号を駆動回路13及び駆動回路12a、12bにそれぞれ出力することで、電源装置を電力変換動作(コンバータ動作)開始前の初期状態に設定する(ステップS11)。
次に、電源装置が電力変換動作に移行するに際して、制御手段14は外気温度検出手段18によって外気温度Toを検出し(ステップS12)、予め電源装置に設定されている閾値温度である低温閾値Tth_lowと検出した外気温度Toとを比較する(ステップS13)。
ここで低温閾値Tth_lowの値は、実施の形態1の場合と同様に半導体スイッチング素子8a,8bで使用するワイドバンドギャップ半導体素子の導通を許可する下限温度を意味するものである。実施の形態2では電源装置を屋外に設置した場合を想定している。例えば、電源装置を空気調和機の室外機に搭載した場合がこのケースに該当する。この場合、室外機始動前の室外機内の電子部品の温度は、外気温度と同じかそれよりも高くなると考えられるため、外気温度Toが低温閾値Tth_lowよりも大きい状態では、半導体スイッチング素子8a,8bの温度も低温閾値Tth_lowより大きい状態であるとみなすことができる。
外気温度Toが低温閾値Tth_lowよりも大きい時(ステップS13:No)は、制御手段14は半導体スイッチング素子4のオフ状態を維持するとともに、半導体スイッチング素子8a,8bのインターリーブ動作を開始する。これにより電源装置の電力変換動作(力率改善コンバータ動作)が実現される(ステップS16)。
外気温度Toが低温閾値Tth_low以下の時(ステップS13:Yes)は、制御手段14は、加熱動作を行う(ステップS14)。具体的には下記の手順で行う。まず、データ記憶手段19に予め保持されている外気温度に対応した所定時間である加熱用抵抗3の通電時間データ(閾値時間)を読み出して、外気温度Toに対応した通電時間閾値Tsを設定する。ここで、通電時間閾値Tsは、外気温度Toが所定の温度若しくは所定の温度範囲にある時に、半導体スイッチング素子8a,8bの熱破壊の懸念がなくなる所定の温度まで加熱するのに必要な加熱用抵抗3の通電時間を意味する。この通電時間閾値Tsは実験等で予め調査した値でもよいし、計算機シミュレーションで事前に算出した値を用いてもよい。
図5にデータ記憶手段19に保持されている通電時間データのデータ内容を示す。通電時間データは、外気温度Toの範囲ごとに対応する通電時間閾値Tsが対応するように構成されている。例えば、外気温度ToがT5≦To<T6である時の通電時間閾値TsはTs5である。
通電時間閾値Tsを設定後、半導体スイッチング素子4をオン状態にする。これにより加熱用抵抗3が通電し、加熱用抵抗3の導通損失による発熱により、半導体スイッチング素子8a,8bが加熱され(加熱動作)、半導体スイッチング素子8a,8bの温度が上昇する。なお、半導体スイッチング素子8a,8bはオフ状態を維持し、スイッチング動作は行わせない。また、制御手段14内に設けた通電時間計測用のタイマ−TmでTm=0からカウント動作を開始させることで、通電時間を計測する。
加熱用抵抗3への通電が行われると半導体スイッチング素子8a,8bの温度が上昇する。一方、外気温度は半導体スイッチング素子の温度変化と無関係な為、加熱用抵抗3への通電の終了タイミングを外気温度に基づいて判断するわけにはいかない。そこで、制御手段14は、通電時間計測用タイマ−Tm値と通電時間閾値Tsとを比較することで、加熱用抵抗3への通電経過時間を把握し、加熱用抵抗3への通電の終了タイミングを判断する(ステップS15)。
通電時間計測用タイマ−Tm値が通電時間閾値Tsより小さい時(ステップS15:No)は、引き続き通電時間計測用タイマ−Tm値と通電時間閾値Tsとの比較を継続する。
一方、通電時間計測用タイマ−Tm値が通電時間閾値Ts以上の時(ステップS15:Yes)は、制御手段14は半導体スイッチング素子4をオフ状態にして、加熱用抵抗3への通電を停止する。これにより、半導体スイッチング素子8a,8bに対する加熱動作が停止する。また、半導体スイッチング素子8a,8bのスイッチングのインターリーブ動作を開始する。これにより電源装置の電力変換動作(力率改善コンバータ動作)が実現される(ステップS16)。
以上のように本実施の形態における電源装置は、加熱用抵抗の通電による加熱動作を外気温度検出手段が検出した外気温度と、データ記憶手段に予め保持した外気温度ごとの加熱用抵抗の通電時間データとに基づいて行うようにしたので、既存の外気温度検出手段を流用することで低温環境下での電源装置の起動制御を低コストで実現することができるという効果が得られる。
なお、以上の説明における制御手段14は、データ記憶手段に保持した加熱用抵抗の通電時間データを用いて制御するようにしたが、外気温度から加熱用抵抗の通電時間データを算出する計算式を予め制御手段14に組み込んでおき、この計算式に基づいて外気温度に対応した通電時間閾値Tsを算出するように変形してもよい。
実施の形態3.
実施の形態1〜2での電源装置はコンバータ動作を行う装置(コンバータ装置)であったが、実施の形態3では直流電力を交流電力に変換するインバータ動作を行う電源装置(インバータ装置)である場合について説明する。図8にインバータ動作を行う電源装置(インバータ装置)の構成図を示す。図8に示す電源装置において、直流電源22はGND(接地)を電位基準として直流電圧を直流母線正側Pと負側N間に出力する。インバータ主回路23は上アームの半導体スイッチング素子24a〜24c及び下アームの半導体スイッチング素子24d〜24fと、半導体スイッチング素子24a〜24fをそれぞれ駆動する駆動回路25a〜25fとで構成され、半導体スイッチング素子24a〜24fはSiC(シリコンカーバイド)等のワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子(例えばSiC−n型MOSFET)である。電流検出手段26は、直流電源22とインバータ主回路23間の直流母線負側Nに設けたシャント抵抗27に流れる直流電流を検出する。また、直流母線正側Pと負側N間に加熱用抵抗28とシリコン半導体で形成した半導体スイッチング素子29(例えば、シリコン−n型MOSFET)が直列に接続されている。半導体スイッチング素子29は駆動回路30でオン/オフ駆動される。なお、直流電源22、インバータ主回路23とでインバータ動作を行う電力変換手段を構成する。
ヒートシンク温度検出手段31はサーミスタ等で構成され、半導体スイッチング素子24a〜24fの各素子の放熱用に設けたヒートシンク(図示せず)の周囲に設置するか、若しくはヒートシンクに直接接触させて設置して、ヒートシンクの温度を検出する。
制御手段32は電流検出手段26が検出した直流電流とヒートシンク温度検出手段31が検出したヒートシンク温度、及び図示していない運転指令値に基づいて半導体スイッチング素子24a〜24f及び半導体スイッチング素子29をそれぞれオン・オフ制御する駆動信号を生成して、駆動回路25a〜25f及び駆動回路30に出力する。
インバータ主回路23の負荷装置としては3相モータ33がU,V,Wの3相結線で接続される。なお、負荷装置としてはインバータ主回路23で駆動可能なものであればよく、3相モータ33に限定されない。
次にこのように構成された電源装置の動作について説明する。制御手段32は図9の動作フローに従って半導体スイッチング素子29及び半導体スイッチング素子24a〜24fのスイッチング動作を制御する。以下、動作フロー図に従って動作を説明する。
制御手段32は最初に、半導体スイッチング素子29及び半導体スイッチング素子24a〜24fをオフ状態にする駆動信号を駆動回路30及び駆動回路25a〜25fにそれぞれ出力することで、電源装置を電力変換動作(インバータ動作)開始前の初期状態に設定する(ステップS21)。
次に、電源装置が電力変換動作に移行するに際して、制御手段32はヒートシンク温度検出手段31によってヒートシンク温度Thを検出し(ステップS22)、予め電源装置に設定されている閾値温度である低温閾値Tth_lowと検出したヒートシンク温度Thとを比較する(ステップS23)。なお、低温閾値Tth_lowは実施の形態1で説明したようにワイドバンドギャップ半導体素子の導通を許可する下限温度として設定すればよい。
ヒートシンク温度Thが低温閾値Tth_lowよりも大きい時(ステップS23:No)は、制御手段32は半導体スイッチング素子29のオフ状態を維持するとともに、半導体スイッチング素子24a〜24fのインバータ動作を開始する。これにより直流電源22からの直流電力が3相交流電力に変換され、モータ33が駆動される。このようにして電源装置の電力変換動作(インバータ動作)が実現される(ステップS27)
制御手段32は、電流検出手段26が検出した直流電流とヒートシンク温度検出手段31が検出したヒートシンク温度、及び図示していない運転指令値に基づいて、ベクトル制御等の公知のインバータ制御技術を用いて、電力変換動作(インバータ動作)を行う。
ヒートシンク温度Thが低温閾値Tth_low以下の時(ステップS23:Yes)は、制御手段32は半導体スイッチング素子29をオン状態にする。これにより加熱用抵抗28が通電し、加熱用抵抗28の導通損失による発熱により、半導体スイッチング素子24a〜24fが加熱され(加熱動作)、半導体スイッチング素子24a〜24fを構成する半導体スイッチング素子の温度が上昇する。なお、半導体スイッチング素子24a〜24fはオフ状態を維持し、スイッチング動作は行わせない(ステップS24)。
なお、半導体スイッチング素子24a〜24fの加熱をより効果的に行うために、加熱用抵抗3を半導体スイッチング素子24a〜24fの近傍に配置するか、又は半導体スイッチング素子24a〜24fに接触させて配置するのが望ましい。
次に、制御手段32は、ヒートシンク温度検出手段31によってヒートシンク温度Thを検出し(ステップS25)、この検出したヒートシンク温度Thと予め電源装置に設定されている閾値温度である高温閾値Tth_highとを比較する(ステップS26)。ここで高温閾値Tth_highの値は、実施の形態1で説明した考え方に基づいて設定すればよい。
ヒートシンク温度Thが高温閾値Tth_highよりも小さい時(ステップS26:No)はステップS25に戻り、引き続きヒートシンク温度を検出し、検出したヒートシンク温度Thと高温閾値Tth_highとの比較を継続する。半導体スイッチング素子24a〜24fが加熱されて半導体スイッチング素子24a〜24fの温度が上昇すると、半導体スイッチング素子24a〜24fに取り付けられたヒートシンク自体の温度も上昇していく。この為、ヒートシンク温度Thを継続的に確認することで、半導体スイッチング素子24a〜24fの温度上昇を推定することができる。
ヒートシンク温度Thが高温閾値Tth_high以上の時(ステップS26:Yes)は、制御手段32は半導体スイッチング素子29をオフ状態にして、加熱用抵抗28への通電を停止する。これにより、半導体スイッチング素子24a〜24fに対する加熱動作が停止する。また、半導体スイッチング素子24a〜24fのインバータ動作を開始する。これにより電源装置の電力変換動作(インバータ動作)が実現される(ステップS27)。
半導体スイッチング素子24a〜24fが正常にスイッチング動作を開始できれば、スイッチング動作により生ずる自己発熱により、半導体スイッチング素子24a〜24fの温度はゆっくりと上昇していくので、半導体スイッチング素子24a〜24fの温度は熱破壊が懸念される低温領域まで低下することはない。その後は、ヒートシンクと冷却ファン(図示せず)による冷却機能により、半導体スイッチング素子24a〜24fを適正な温度範囲で継続動作させることができる。
以上の説明では、半導体スイッチング素子24a〜24fはワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子であったが、これに限らず半導体スイッチング素子24a〜24fのいくつかをワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子とし、残りの半導体スイッチング素子をSi半導体によって形成された半導体スイッチング素子としてもよい。
また、電流検出手段26の代わりに、下アームの半導体スイッチング素子24d〜24fと直流母線負側N間に抵抗(3シャント構成)を設けて、この抵抗を流れる電流を検出する電流検出手段を設けてもよい。
以上のように本実施の形態における電源装置(インバータ装置)は、実施の形態1で述べた電源装置と同様に、電源装置で使用するSiC(炭化珪素)等のワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子の素子温度が安定な動作が保証できない低温領域にある場合には、加熱用抵抗を通電させて生じる発熱により半導体スイッチング素子を加熱して、半導体スイッチング素子の温度が安定動作可能な温度領域まで変化させるようにしたので、低温環境下でのインバータ装置の起動時でも半導体スイッチング素子が熱破壊されることを防止でき、インバータ装置の通電開始可能な温度領域を拡大することができるという効果が得られる。
なお、電源装置(インバータ装置)においても、実施の形態2(コンバータ装置)ので説明したようにヒートシンク温度検出手段31の代わりに外気温度検出手段とデータ記憶手段を設けて外気温度に基づいた起動制御をするようにできることは言うまでもない。
また、以上の実施の形態1〜3では、SiC(炭化珪素)等のワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体スイッチング素子を用いた電源装置について説明したが、半導体スイッチング素子はワイドバンドギャップ半導体に限らず、低温環境下で素子の電気抵抗が増大する半導体スイッチング素子を用いた電源装置においても同様な構成を適用することができる。
1 交流電源、2 整流手段、3 加熱用抵抗、4 半導体スイッチング素子、5 昇圧手段、6 平滑手段、7 リアクタ、8 半導体スイッチング素子、9 逆流防止ダイオード、10 シャント抵抗、11 直流負荷、12 駆動回路、13 駆動回路、14 制御手段、15 出力電圧検出手段、16 ヒートシンク温度検出手段、17 電流検出手段、18 外気温度検出手段、19 データ記憶手段、20 三相交流電源、21 整流手段、22 直流電源、23 インバータ主回路、24 半導体スイッチング素子、25 駆動回路、26 電流検出手段、27 シャント抵抗、28 加熱用抵抗、29 半導体スイッチング素子、30 駆動回路、31 ヒートシンク温度検出手段、32 制御手段、33 3相モータ

Claims (10)

  1. 1つ以上の第1の半導体スイッチング素子を有し、交流電力を直流電力に変換するコンバータ動作、若しくは直流電力を交流電力に変換するインバータ動作を行う電力変換手段と、
    前記第1の半導体スイッチング素子を加熱する為の加熱用抵抗と、
    該加熱用抵抗の導通を制御する第2の半導体スイッチング素子と、
    前記第1の半導体スイッチング素子の放熱用に設けたヒートシンクの温度若しくは外気温度を検出する温度検出手段と、
    前記温度検出手段が検出した温度を用いて、前記第1の半導体スイッチング素子及び前記第2の半導体スイッチング素子をオン・オフ制御する駆動信号を生成する制御手段と、
    を備えたことを特徴とする電源装置。
  2. 前記制御手段は、前記温度検出手段が検出した温度が予め設定した第1の閾値温度以下である場合には、前記第2の半導体スイッチング素子をオン状態にする駆動信号を生成し、その後前記温度検出手段が検出した温度が予め設定した第2の閾値温度以上になった時に、前記第2の半導体スイッチング素子をオフ状態にする駆動信号を生成することを特徴とする請求項1に記載の電源装置。
  3. 前記制御手段は、前記温度検出手段が検出した温度が予め設定した第1の閾値温度以下である場合には、前記第2の半導体スイッチング素子をオン状態にする駆動信号を生成し、その後予め設定した所定時間を経過後に、前記第2の半導体スイッチング素子をオフ状態にする駆動信号を生成することを特徴とする請求項1に記載の電源装置。
  4. 前記温度検出手段が検出した温度に対応した閾値時間をデータとして保持するデータ記憶手段を備え、
    前記制御手段は、前記データ記憶手段に保持されている閾値時間を予め設定した所定時間として用いることを特徴とする請求項3に記載の電源装置。
  5. 前記電力変換手段は、
    交流電源の交流電圧を直流電圧に整流する整流手段と、
    直流電圧を平滑する平滑手段と、
    前記整流手段と前記平滑手段の間に接続され、昇圧リアクタ、前記第1の半導体スイッチング素子、逆流防止ダイオードからなる1つ以上の昇圧手段とを備え、
    前記加熱用抵抗及び前記第2の半導体スイッチング素子は、前記整流手段の出力端子間に直列接続されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の電源装置。
  6. 前記電力変換手段は、
    直流母線間に直流電圧を出力する直流電源と、
    前記第1の半導体スイッチング素子及び該第1の半導体スイッチング素子を駆動する駆動回路とをそれぞれ有する上アーム及び下アームを前記直流母線間に直列接続したインバータ主回路とを備え、
    前記加熱用抵抗及び前記第2の半導体スイッチング素子は、前記直流電源の出力端子間に直列接続されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の電源装置。
  7. 前記第1の半導体スイッチング素子のいくつか若しくは全部は、ワイドバンドギャップ半導体素子によって形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の電源装置。
  8. 前記ワイドバンドギャップ半導体は、炭化珪素(SiC)、窒化ガリウム(GaN)系材料又はダイヤモンドであることを特徴とする請求項7記載の電源装置。
  9. 1つ以上の第1の半導体スイッチング素子を有し、交流電力を直流電力に変換するコンバータ動作、若しくは直流電力を交流電力に変換するインバータ動作を行う電力変換手段を備えた電源装置の制御方法であって、
    前記第1の半導体スイッチング素子の放熱用に設けたヒートシンクの温度若しくは外気温度が予め設定した第1の閾値温度以下である場合には、加熱用抵抗の導通を制御する第2の半導体スイッチング素子をオン状態にして前記第1の半導体スイッチング素子を加熱する工程と、
    その後前記ヒートシンクの温度若しくは外気温度が予め設定した第2の閾値温度以上になった時に、前記第2の半導体スイッチング素子をオフ状態にして前記第1の半導体スイッチング素子の加熱を停止する工程と、を備えたことを特徴とする電源装置の制御方法。
  10. 1つ以上の第1の半導体スイッチング素子を有し、交流電力を直流電力に変換するコンバータ動作、若しくは直流電力を交流電力に変換するインバータ動作を行う電力変換手段を備えた電源装置の制御方法であって、
    前記第1の半導体スイッチング素子の放熱用に設けたヒートシンクの温度若しくは外気温度が予め設定した第1の閾値温度以下である場合には、加熱用抵抗の導通を制御する第2の半導体スイッチング素子をオン状態にして前記第1の半導体スイッチング素子を加熱する工程と、
    その後予め設定した所定時間を経過後に、前記第2の半導体スイッチング素子をオフ状態にして前記第1の半導体スイッチング素子の加熱を停止する工程と、を備えたことを特徴とする電源装置の制御方法。
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