JP2015143834A - 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法 - Google Patents

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2015143834A
JP2015143834A JP2014253787A JP2014253787A JP2015143834A JP 2015143834 A JP2015143834 A JP 2015143834A JP 2014253787 A JP2014253787 A JP 2014253787A JP 2014253787 A JP2014253787 A JP 2014253787A JP 2015143834 A JP2015143834 A JP 2015143834A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
group
photosensitive resin
photosensitive
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014253787A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
恭子 小澤
Kyoko Ozawa
恭子 小澤
吉田 哲也
Tetsuya Yoshida
哲也 吉田
秀一 板垣
Shuichi Itagaki
秀一 板垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2014253787A priority Critical patent/JP2015143834A/ja
Publication of JP2015143834A publication Critical patent/JP2015143834A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/04Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
JP2014253787A 2013-12-25 2014-12-16 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法 Pending JP2015143834A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014253787A JP2015143834A (ja) 2013-12-25 2014-12-16 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013266899 2013-12-25
JP2013266899 2013-12-25
JP2014253787A JP2015143834A (ja) 2013-12-25 2014-12-16 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015143834A true JP2015143834A (ja) 2015-08-06

Family

ID=53589791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014253787A Pending JP2015143834A (ja) 2013-12-25 2014-12-16 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2015143834A (zh)
KR (1) KR20150075375A (zh)
CN (1) CN104749885A (zh)
TW (1) TW201527885A (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016104639A1 (ja) * 2014-12-26 2016-06-30 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
WO2016152852A1 (ja) * 2015-03-23 2016-09-29 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
JP2017181960A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品
JP2017181959A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品
CN111752104A (zh) * 2019-03-28 2020-10-09 株式会社则武 感光性组合物、复合体、电子部件和电子部件的制造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016104639A1 (ja) * 2014-12-26 2016-06-30 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
WO2016152852A1 (ja) * 2015-03-23 2016-09-29 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
JP2017181960A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品
JP2017181959A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品
CN111752104A (zh) * 2019-03-28 2020-10-09 株式会社则武 感光性组合物、复合体、电子部件和电子部件的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150075375A (ko) 2015-07-03
TW201527885A (zh) 2015-07-16
CN104749885A (zh) 2015-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104834184B (zh) 感光性元件
WO2014200028A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
JP2015143834A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
JP5650945B2 (ja) サンドブラスト用感光性フィルム
JP6684147B2 (ja) サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びサンドブラスト処理方法
JP2022188113A (ja) 感光性樹脂積層体及びレジストパターンの製造方法
TWI664498B (zh) Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminate
WO2016152852A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
TWI826758B (zh) 感光樹脂層以及使用其的乾膜式光阻、感光元件
JP6273690B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
JP2008185949A (ja) サンドブラスト用感光性樹脂組成物及び積層体
TWI690774B (zh) 感光性樹脂積層體及抗蝕劑圖案之製造方法
JP2008233617A (ja) サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びその積層体
WO2014119562A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
JP2015001591A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
JP5731994B2 (ja) サンドブラスト処理
JP5782162B2 (ja) サンドブラスト用感光性フィルム
JP2004184714A (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたドライフィルム
TWI819260B (zh) 感光樹脂層以及使用其的乾膜式光阻、感光元件
WO2021246382A1 (ja) サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びサンドブラスト用感光性フィルム
JP6018664B2 (ja) サンドブラスト用感光性フィルム
JP2006054069A (ja) プラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法
JP2020134694A (ja) サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びサンドブラスト処理
TW202132914A (zh) 感光樹脂層以及使用其的乾膜式光阻、感光元件
JP2006098982A (ja) 感光性フィルム及びそれを用いたプリント配線板の製造方法