JP2015130315A - 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 - Google Patents

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正浩 李
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Abstract

【課題】本願発明の目的は、新規な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第1有機材料が貯蔵される第1貯蔵部と、第1貯蔵部と連結され、第1貯蔵部に貯蔵される第1有機材料を噴射する第1ノズル部と、第1ノズル部に隣接するように配置され、噴射された第1有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第1光照射部と、第2有機材料が貯蔵される第2貯蔵部と、第1ノズル部に隣接するように配置され、第2貯蔵部と連結され、第2貯蔵部に貯蔵される第2有機材料を噴射する第2ノズル部と、第2ノズル部に隣接するように配置され、噴射された第2有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第2光照射部と、を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、薄膜形成装置及び薄膜形成方法に関し、より詳細には基板上に有機薄膜を形成する薄膜形成装置及び薄膜形成方法に関する。
有機発光素子は、自発光型素子であって、厚さを薄くし、かつ曲げられるディスプレイなどのような多様な製品に応用ことができる。しかし、このような有機発光素子は外部環境から流入する水分と酸素などに露出される場合、素子特性が急激に劣化する傾向がある。
したがって、有機発光素子を構成した後、カンやガラス基板を使用して封止するが、一般的にはUVあるいは熱硬化型エポキシやアクリルのような高分子材料をシーラント(sealant)材として使用する。しかし、高分子材料は水分に対する防湿力が落ちるため、時間の経過につれ、有機発光素子側に流入する水分と酸素の影響によって輝度などのような特性が劣化し、寿命が減少する。これを防止するため、水分を吸湿する吸湿材をデバイスの内部に装着して、シーラントを通過した水分が有機発光素子に影響を与えることを防止する。しかし、このような方式は製造工程を複雑にし、ディスプレイ装置の重さ及び大きさが増加する問題点を引き起こす。
このような問題点を解決するため、表示素子を保護膜で覆い、封止する薄膜封止(film encapsulation)技術が提案された。このような薄膜封止は有機膜または無機膜が少なくとも一回積層された積層構造を有する。このような積層構造を有する封止膜を形成するためには、基板上に薄膜を形成する技術が必要であり、このような必要に応じて基板上に薄膜を形成する装置及び方法に対する多様な技術的試みが行われている。
本発明が解決しようとする課題は、基板上に少なくとも一つの有機薄膜を形成する薄膜形成装置を提供することにある。
本発明が解決しようとする他の課題は、基板上に複数の有機膜を形成することにおいて、その工程時間を短縮させる薄膜形成装置を提供することにある。
本発明が解決しようとする他の課題は、基板上に少なくとも一つの有機薄膜を形成する薄膜形成方法を提供することにある。
本発明が解決しようとする他の課題は、基板上に複数の有機膜を形成することにおいて、その工程時間を短縮させる薄膜形成方法を提供することにある。
本発明の課題は、以上で言及した技術的課題に制限されず、言及されていない技術的課題又は他の技術的課題はこれ以降の記載から当業者に明確に理解できるであろう。
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第1有機材料が貯蔵される第1貯蔵部と、第1貯蔵部と連結された第1ノズル部であって、第1貯蔵部に貯蔵される第1有機材料を噴射する第1ノズル部と、第1ノズル部に隣接するように配置された第1光照射部であって、噴射された第1有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第1光照射部と、第2有機材料が貯蔵される第2貯蔵部と、第1ノズル部に隣接するように配置された第2ノズル部であって、第2貯蔵部と連結されており、第2貯蔵部に貯蔵される第2有機材料を噴射する第2ノズル部と、第2ノズル部に隣接するように配置された第2光照射部であって、噴射された第2有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第2光照射部と、を含む。
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、長さ方向に延長形成されて並列に配置される第1ノズル部及び第2ノズル部と、第1ノズル部に接続された第1貯蔵部であって、第1有機材料を貯蔵する第1貯蔵部と、第2ノズル部と接続された第2貯蔵部であって、第2有機材料を貯蔵する第2貯蔵部と、第1ノズル部の一側に隣接するように配置された第1紫外線ランプであって、第1ノズル部と並列に延長される第1紫外線ランプと、第2ノズル部の他側に隣接するように配置された第2紫外線ランプであって、第2ノズル部と並列に延長される第2紫外線ランプと、を含む。
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による薄膜形成方法は、基板を第1方向に移動させて基板上に第1薄膜を形成する第1スキャン段階、及び、基板を第1方向と反対方向である第2方向に移動させて第2薄膜を形成する第2スキャン段階を含み、第1スキャン段階及び第2スキャン段階は、基板上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。
その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明及び図面に含まれている。
本発明の実施形態によれば、少なくとも次のような効果がある。
すなわち、基板上に複数個の有機薄膜を同時にまたは順次に形成することによって、工程時間を短縮できる。
本発明による効果は、以上で例示した内容によって制限されず、さらに多様な効果が本明細書内に記載されている。
本発明の一実施形態による有機薄膜形成装置のブロック図である。 本発明の他の実施形態による薄膜形成装置のブロック図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。 図3のI−I’線に沿って切断した断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。 図7の薄膜形成装置の断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板の断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。 図10の薄膜形成装置の断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板の断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。 本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板の断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。 本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の断面図である。 本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。 本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。 本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。
本発明の利点及び特徴、これらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態において明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現されるものであり、本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範囲によってのみ定義される。
素子(elements)または層が他の素子または層の「上(on)」と指称された場合、他の素子の真上にまたは中間に他の層または他の素子を介在する場合のすべてを含む。明細書全体において、同一の参照符号は同一の構成要素を指称する。
第1、第2などの用語が多数の素子又は構成要素を叙述するために使用されるが、これらの素子又は構成要素はこれらの用語によって制限されないことはいうまでもない。これらの用語は、単に一の構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。したがって、以下で言及される第1構成要素は本発明の技術的思想内で第2構成要素であり得ることは勿論である。
以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態による有機薄膜形成装置のブロック図である。
図1を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第1有機材料が貯蔵される第1貯蔵部120と、第1貯蔵部120と連結される第1ノズル部100であって、第1貯蔵部120に貯蔵される第1有機材料を噴射する第1ノズル部100と、第1ノズル部100に隣接するように配置された第1光照射部110であって、第1有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第1光照射部110と、第2有機材料が貯蔵される第2貯蔵部220と、第1ノズル部100に隣接するように配置された第2ノズル部200であって、第2貯蔵部220と連結されており、第2貯蔵部220に貯蔵される第2有機材料を噴射する第2ノズル部200と、第2ノズル部200に隣接するように配置された第2光照射部210であって、第2有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第2光照射部210と、を含む。
第1貯蔵部120は第1有機材料を貯蔵する役割を果たす。第1貯蔵部120は、気体、液体または固体状態の第1有機材料を貯蔵する。すなわち、第1貯蔵部120に貯蔵される第1有機材料の相(phase)が制限されるものではない。
第1有機材料は薄膜形成に使用されるすべての有機材料を含みうる。すなわち、現在の薄膜形成工程に使用される有機材料及び今後、技術の発展につれ使用される有機材料をすべて含みうる。すなわち、本明細書における有機材料が特定の種類の材料に制限されるものではない。
第1ノズル部100は第1貯蔵部120と連結される。すなわち、第1貯蔵部120と第1ノズル部100は連通しており、これによって、第1貯蔵部120に貯蔵される第1有機材料が第1ノズル部100を介して噴射される。
第1ノズル部100と第1貯蔵部120とは、例えば少なくとも一つの管やチューブなどの連結手段を介して連結される。ただし、これは例示的なものであって、第1ノズル部100と第1貯蔵部120との連結方式がこれに制限されるものではない。
第1ノズル部100は、第1貯蔵部120に貯蔵された第1有機材料を基板に向かって噴射する。たとえば、第1ノズル部100は、第1貯蔵部120に貯蔵される有機材料を液状、気状またはエアゾール(aerosol)状で噴射する。
第1光照射部110は第1ノズル部100に隣接するように配置される。第1光照射部110は、第1ノズル部100から噴射した第1有機材料に向かって光を照射する。言い換えると、第1光照射部110は、第1ノズル部100から噴射して基板に提供された第1有機材料に向かって光を照射する。例えば、第1光照射部110は紫外線波長の光を照射する。ただし、これは例示的なものであり、光照射部110が照射する光の波長がこれに制限されるものではない。
第1有機材料の種類によって硬化波長が違う場合もある。すなわち、特定種類の有機材料は特定の範囲の波長を有する光を受けて硬化する。例示的に第1光照射部110は、第1有機材料に対応する波長を有する光を照射する。言い換えると、第1有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する。すなわち、第1有機材料の種類によって、第1光照射部110が照射する光の波長が変わる。
本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第2有機材料が貯蔵される第2貯蔵部220をさらに含む。第2貯蔵部220は、前述した第1貯蔵部120と実質的に同じである。
すなわち、第2貯蔵部220は第2有機材料を貯蔵する役割を果たす。第2貯蔵部220は気体、液体または固体状態の第2有機材料を貯蔵できる。すなわち、第2貯蔵部220に貯蔵される第2有機材料の相(phase)が制限されるものではない。
第2有機材料は第1有機材料と異なる場合もあるが、これに制限されるものではない。第2有機材料は薄膜形成に使用されるすべての有機材料を含む。すなわち、現在薄膜形成工程に使用されている有機材料及び今後、技術の発展につれ使用される可能性がある有機材料をすべて含みうる。すなわち、本明細書における有機材料は特定の種類の材料に制限されるものではない。
第2ノズル部200は第1ノズル部100と実質的に同じである。すなわち、第2ノズル部200は第2貯蔵部220と連結される。すなわち、第2貯蔵部220と第2ノズル部200とは連通しすることができ、これによって第2貯蔵部220に貯蔵される第2有機材料は第2ノズル部200を介して噴射される。
第2ノズル部200と第2貯蔵部220とは、例示的に少なくとも一つの管やチューブなどの連結手段を介して連結される。ただし、これは例示的なものであり、第2ノズル部200と第2貯蔵部220との連結方式がこれに制限されるものではない。
第2ノズル部200は、第2貯蔵部220に貯蔵された第2有機材料を基板に向かって噴射する。例えば第2ノズル部200は、第2貯蔵部220に貯蔵された有機材料を液状、気状またはエアゾール(aerosol)状に噴射する。
第2ノズル部200は第1ノズル部100に隣接するように配置される。例示的な実施形態において、第2ノズル部200は第1ノズル部100と並列に配置される。これに関する詳しい説明は省略する。
第2光照射部210は第2ノズル部200に隣接するように配置される。第2光照射部210は、第2ノズル部200から噴射した第2有機材料に向かって光を照射する。言い換えると、第2光照射部210は、第2ノズル部200から噴射して基板に提供された第2有機材料に向かって光を照射する。例えば第2光照射部210は紫外線波長の光を照射する。ただし、これは例示的なものであり光照射部210が照射する光の波長がこれに制限されるものではない。
第2有機材料の種類によって硬化波長が違う場合もある。すなわち、特定種類の有機材料は特定の範囲の波長を有する光を受けて硬化される。例えば第2光照射部210は、第2有機材料に対応する波長を有する光を照射する。言い換えると、第2有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する。すなわち、第2有機材料の種類によって第2光照射部210が照射する光の波長が変わる。
前述した構成を含む本発明の一実施形態による薄膜形成装置1000は基板上に少なくとも一つの有機薄膜を形成する。例示的な実施形態において、本発明の一実施形態による薄膜形成装置1000と基板とは互いに相対移動し、このような相対移動により基板上に少なくとも一層以上の有機薄膜を形成できる。これに関する詳しい説明は後述する。
図2は、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置1001のブロック図である。
図2を参照すると、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置1001は第1貯蔵部120及び第2貯蔵部220に貯蔵された第1有機材料及び第2有機材料を気化させる第1気化部130及び第2気化部230をさらに含みうる。
例示的な実施形態において、第1貯蔵部120及び第2貯蔵部220は、液状の第1有機材料及び第2有機材料を貯蔵する。
第1気化部130及び第2気化部230は、第1貯蔵部120及び第2貯蔵部220に貯蔵された液状の第1有機材料及び第2有機材料を気化させる。すなわち、第1気化部130及び第2気化部230によって気化する第1有機材料及び第2有機材料は、第1ノズル部100及び第2ノズル部を介して噴射される。言い換えると、第1ノズル部100及び第2ノズル部200は第1気化部130及び第2気化部230によって気化した状態の第1有機材料及び第2有機材料を噴射する。
以下では図面を参照して本発明のさらに具体的な実施形態について説明する。
図3は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置1002の平面図である。図4は、図3のI−I’線に沿って切断した断面図である。
図3及び図4を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置1002は、長さ方向に延在する第1ノズル部101及び第2ノズル部102であって、並列に配置される第1ノズル部101及び第2ノズル部201と、第1ノズル部101に接続された、第1有機材料を貯蔵する第1貯蔵部121と、第2ノズル部201に接続された、第2有機材料を貯蔵する第2貯蔵部221と、第1ノズル部101の一側に隣接するように配置された第1光照射部111であって、第1ノズル部101と並列に延在された第1光照射部111と、第2ノズル部201の他側に隣接するように配置された第2光照射部211であって、第2ノズル部201と並列に延在された第2光照射部211と、を含む。
例示的な実施形態において、第1ノズル部101は長さ方向に延在している。すなわち、第1ノズル部101は、長さ方向に延在されたバー(bar)状を有する。第1ノズル部101は長さ方向に沿って延在するボディー部101b及びボディー部101b上に形成される少なくとも一つの噴射口101aを有する。例示的な実施形態において、噴射口101aは長さ方向に沿って整列して配置される。図3では、複数個の噴射口101aが一列に整列して配置される場合を例示しているが、これは例示的なものであり、噴射口101aの配列がこれに制限されるものではない。すなわち、噴射口101aは少なくとも一つの行と少なくとも一つの列を有するマトリックス(matrix)状に配置されうる。
噴射口101aは上部に向かって開放される。すなわち、例示的な実施形態において、噴射口101aは固定され、噴射口101a上で基板が水平移動し、基板上に薄膜が形成される。基板上に薄膜が形成される具体的な過程については後述する。
第1ノズル部101の一端部には、第1貯蔵部121が配置される。第1貯蔵部121は第1有機材料を貯蔵し、第1ノズル部101と連結される。すなわち、第1貯蔵部121に貯蔵された第1有機材料は第1ノズル部101を介して噴射される。第1有機材料が液体、固体または気体状態で貯蔵されるのは前述した通りである。また、第1有機材料が液状である場合は、図面に示していないが、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置1002は、第1有機材料を気化させる第1気化部をさらに含む。
第1光照射部111は、第1ノズル部101の一側に隣接するように配置される。第1光照射部111は長さ方向に沿って延在される。すなわち、第1光照射部111は第1ノズル部101と並列に配置される。例示的な実施形態において、第1光照射部111は第1紫外線ランプ(図示せず)を含む。
第1光照射部111は特定波長の第1紫外線を照射する。例えば、第1光照射部111が照射する第1紫外線は、基板に提供される第1有機材料を硬化させる波長を有する。すなわち、第1紫外線の波長は第1有機材料の種類によって異なる。
第2ノズル部201は、第1ノズル部101の他側に隣接するように配置される。第2ノズル部201は長さ方向に延在される。すなわち、第2ノズル部201はバー状を有する。第2ノズル部201は、長さ方向に沿って延在するボディー部201b及びボディー部201b上に形成される少なくとも一つの噴射口201aを有する。例示的な実施形態において、噴射口201aは長さ方向に沿って整列して配置される。図3では複数個の噴射口201aが一列に整列して配置される場合を例示するが、これは例示的なものであり、噴射口201aの配列がこれに制限されるのではない。すなわち、噴射口201aは少なくとも一つの行と少なくとも一つの列を有するマトリックス(matrix)状に配置されうる。
噴射口201aは上部に向かって開放される。すなわち、例示的な実施形態において、噴射口201aは固定され、噴射口201a上で基板が水平移動し、基板上に薄膜が形成される。基板上に薄膜が形成される具体的な過程については後述する。
第2ノズル部201の他端部には、第2貯蔵部221が配置される。すなわち、第1貯蔵部121と第2貯蔵部221との間に第1ノズル部101及び第2ノズル部201が配置される。ただし、これは例示的なものであり、第1貯蔵部121及び第2貯蔵部221の位置がこれに制限されるものではない。第1貯蔵部121及び第2貯蔵部221は、第1ノズル部101及び第2ノズル部201と連結可能なすべての位置に配置されることができる。すなわち、本発明の範囲が第1貯蔵部121及び第2貯蔵部221の位置によって制限されるものではない。
第2貯蔵部221は第2有機材料を貯蔵し、第2ノズル部201と連結される。すなわち、第2貯蔵部221に貯蔵された第2有機材料は、第2ノズル部201を介して噴射される。第2有機材料が液体、固体または気体状態で貯蔵されるのは前述した通りである。また、第2有機材料が液状である場合、図面に示していないが、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置1002は、第2有機材料を気化させる第2気化部をさらに含みうる。
第2光照射部211は第2ノズル部201の他側に隣接するように配置される。すなわち、第2光照射部211と第1光照射部111との間に第1ノズル部101及び第2ノズル部201が配置される。第2光照射部211は長さ方向に沿って延在される。すなわち、第2光照射部211は、第2ノズル部101と並列に配置される。第2光照射部211は、第2紫外線ランプ(図示せず)を含みうる。
第2光照射部211は、特定波長の第2紫外線を照射する。例えば、第2光照射部211が照射する第2紫外線は、基板に提供される第2有機材料を硬化させる波長を有する。すなわち、第2紫外線の波長は第2有機材料の種類によって異なる。
以下では本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置の動作について詳しく説明する。
図5は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
図5を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置上には、基板500が配置される。
本明細書で基板500とは、画像を示すための表示基板であって、LCD (Liquid Crystal Display)表示基板、電気泳動表示基板(Electrophoretic Display)、OLED(Organic Light Emitting Diode)表示基板、LED (Light Emitting Diode)表示基板、無機EL(Electro Luminescent Display Panel)表示基板、FED (Field Emission Display)表示基板、SED(Surface−conduction Electron−emitter Display)表示基板、PDP(Plasma Display Panel)表示基板及びCRT(Cathode Ray Tube)表示基板を含みうる。
ただし、前述した表示基板の種類は例示的なものであって、表示基板の種類がこれに制限されるものではない。また、表示基板は硬質基板だけでなく、曲げたり(bending)、折り折りたたんだり(folding)、丸めたり(rolling)することが可能なフレキシブル基板を含む概念として理解することができる。
例示的な実施形態で本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置は、有機発光表示装置の封止膜を形成するのに利用される。すなわち、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置を利用して有機発光表示装置の封止膜を製造する。すなわち、本明細書において基板とは、封止膜形成前のいくつかの素子が形成された有機発光表示装置の基板でありうる。
基板500は薄膜形成装置上に配置される。すなわち、基板500の一の面と薄膜形成装置とが一定間隔離隔して、互いに対向するように配置される。
本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置は、薄膜形成装置上に配置される基板500に対して相対的に移動する。すなわち、薄膜形成装置が固定され、薄膜形成装置の上部に配置される基板500が水平方向に移動するか、又は、基板500が固定され、薄膜形成装置が水平方向に移動する。
以下では説明の便宜上、薄膜形成装置が固定され、基板が水平移動する場合を例示するが、本発明の範囲がこれに制限されるものではないのはもちろんである。
図5で示すように、基板500の幅wは、薄膜形成装置の延在方向の長さd1と実質的に同じである。すなわち、薄膜形成装置の延在方向の長さd1は、基板500の幅に対応する。言い換えると、基板500の一側辺と薄膜形成装置の延在方向とが並列に配置された状態で、基板500は薄膜形成装置の延在方向と垂直な方向に移動する。これに伴い、基板500の一側から他側まで薄膜形成装置の垂直方向上部を通過する。薄膜形成装置の延在方向の長さd1が基板500の幅に対応する値を有する状態で、基板500の一側から他側が薄膜形成装置の垂直方向上部を通過する場合、基板500の前領域上には一つの薄膜が形成される。
ただし、これは例示的なものであって薄膜形成装置の延在方向の長さd1がこれに制限されるものではなく、薄膜形成装置の延在方向の長さd1は、基板500の幅wより小さい場合もある。この場合、基板500は薄膜形成装置の延在方向の長さ方向及び薄膜形成装置の延在方向に対して垂直な方向に少なくとも一回移動し、基板500の全領域に薄膜を形成することができる。これに関する詳しい説明は後述する。
図6は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
図6を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置上に配置される基板500は第1方向に移動する。
前述したように第1方向は、薄膜形成装置の延在方向に対して垂直な方向にありうる。
基板500が第1方向に沿って移動することによって、基板500の一側から始まって他側まで順次に薄膜形成装置の上部を通過する。すなわち、基板500が第1方向に沿って移動すると、基板500の一側から他側まで順次に薄膜が形成される。すなわち、基板500が第1方向に沿って移動し、基板500の他側が薄膜形成装置を通過すると基板500の全領域には一つの薄膜が形成される。
基板500が第1方向に沿って移動する場合、第1ノズル部101及び/または第2ノズル部201は、第1有機材料または第2有機材料を基板500に向かって提供する。また、これと同時にまたは順次に、第1光照射部111及び/または第2光照射部211は、基板500に向かって第1有機材料及び/または第2有機材料を硬化させる光を照射する。図7ないし図12を参照してさらに詳細に説明する。
図7は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。図8は図7の薄膜形成装置の断面図である。図9は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板500の断面図である。
図7ないし図9を参照すると、基板500が第1方向に沿って移動して、これによって基板500の一側から基板の他側まで順次に薄膜が形成される。
第1方向は、図7でy軸の負の方向である。すなわち、基板500の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で基板500は第1方向、すなわち薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。
図8を参照すると、基板500の一側辺が薄膜形成装置に隣接すると、第1ノズル部101で第1有機材料が噴射される。すなわち、第1ノズル部101が基板500に向かって第1有機材料を提供する。第1ノズル部101は、基板500が移動することにより連続的または断続的に第1有機材料を噴射する。第1ノズル部101が第1有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第1光照射部111は、基板500上に提供された第1有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板500上に提供された第1有機材料が硬化する。例えば第1光照射部111が第1有機材料を硬化させる第1紫外線を照射するのは前述した通りである。
前記した過程を経て基板500が継続して移動し、基板500の他側が薄膜形成装置を通過すると、基板500上には、第1有機材料が硬化して形成された第1薄膜140が形成される(図9参照)。
説明の便宜上、基板500が第1方向に移動し、基板500上に薄膜が形成される過程を第1スキャンと定義する。第1スキャンは、基板500一側から他側が薄膜形成装置を通過して基板500上に薄膜が形成される過程である。すなわち、第1スキャンが行われると、基板500一側から他側に至るまで、基板500上の薄膜形成装置に対応する領域に薄膜が形成される。言い換えると、第1スキャンは基板500の一側で他側まで薄膜が形成される過程を含みうる。
図10は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。図11は図10の薄膜形成装置の断面図である。図12は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板500の断面図である。
図10を参照すると、基板500の他側が薄膜形成装置の上部を通過した後、すなわち、基板500の他側が薄膜形成装置に隣接した状態で、基板500は第1方向と反対方向である第2方向、すなわち、図10でy軸の正の方向に移動する。
基板500が第2方向に沿って移動し、これによって基板500の他側から一側まで順次に薄膜が形成される。
基板500の他側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で、基板500は第2方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。
図11を参照すると、基板500の他側が薄膜形成装置に隣接すると、第2ノズル部201によって第2有機材料が噴射される。すなわち、第2ノズル部201が基板500に向かって第2有機材料を提供する。第2ノズル部201は、基板500が移動することにより連続的または断続的に第2有機材料を噴射する。第2ノズル部201が第2有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第2光照射部211は、基板500上に提供された第2有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板500上に提供された第2有機材料が硬化する。
このような過程を経て基板500が継続して移動し、基板500の一側が薄膜形成装置を通過すると、基板500上には、第2有機材料が硬化して形成された第2薄膜240が形成される。第2薄膜240は第1薄膜140と完全に重なっているか、又は第1薄膜140を完全に覆うように形成されるが、これに制限されるものではない。
説明の便宜上、基板500が第2方向に移動し、基板500上に薄膜が形成される過程を第2スキャンと定義する。第2スキャンは、基板500の他側から一側まで薄膜形成装置を通過して基板500上に薄膜が形成される過程である。すなわち、第2スキャンが行われると、基板500他側から一側に至るまで、基板500上の薄膜形成装置に対応する領域に薄膜が形成される。言い換えると、第2スキャンは基板500の他側から一側まで薄膜が形成される過程を含みうる。
本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置で第1スキャン及び第2スキャンは、少なくとも一回は行われる。すなわち、第1スキャンが行われ、次いで第2スキャンが行われたり、第1スキャンが行われ、薄膜形成装置が長さ方向に一定間隔シフトした後、再び第2スキャンが開始され得、前記した順序に従い第1スキャン及び第2スキャンが繰り返して行われ得る。
図13は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。図14は本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板500の断面図である。
図13及び図14を参照すると、例示的な実施形態で基板500が第1方向に移動するとき、第1ノズル部101と第2ノズル部201とは、同時に第1有機材料及び第2有機材料を噴射する。すなわち、第1スキャンの際に第1ノズル部101及び第2ノズル部201が同時に動作する点が図8の実施形態と違う点である。
具体的には、基板500の一側が薄膜形成装置に隣接すると、第1ノズル部101及び第2ノズル部201で第1有機材料及び第2有機材料を噴射する。すなわち、第1ノズル部101は第1有機材料を、第2ノズル部202は第2有機材料を各々基板500上に提供する。第1ノズル部101及び第2ノズル部201は、基板500が移動することにより連続的または断続的に第1有機材料及び第2有機材料を噴射する。第1ノズル部101及び第2ノズル部201が第1有機材料及び第2有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第1光照射部111及び第2光照射部211は、基板500上に提供された第1有機材料及び第2有機材料に向かって光を照射する。すなわち、第1光照射部111は第1有機材料を硬化させる波長を有する第1紫外線を照射し、第2光照射部211は第2有機材料を硬化させる波長を有する第2紫外線を照射する。
このような過程を経て基板500が継続して移動し、基板500の他側が薄膜形成装置を通過すると、基板500上には第1有機材料及び第2有機材料が混合した状態で硬化した第3薄膜300が形成される(図14参照)。
以上では基板500上に第1薄膜140及び第2薄膜240が順次に積層された場合及び第1有機材料と第2有機材料とが混合した状態で硬化した第3薄膜300が形成された場合を例示したが、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって形成される薄膜の様相はこれに制限されない。すなわち、第1ノズル部101及び第2ノズル部201を調節することによって、多様な積層薄膜を形成できる。
図15ないし図18は、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板500上に形成される薄膜を示す断面図である。
図15を参照すると、第3薄膜300上に第2薄膜240が配置される。
第1スキャンの際に第1ノズル部101及び第2ノズル部201が第1有機材料及び第2有機材料を同時に噴射し、第1光照射部111と第2光照射部211が第1紫外線及び第2紫外線を照射することによって第3薄膜300が形成される。
第3薄膜300が形成された後、第2スキャンが行われる。第2スキャン段階で第2ノズル部201が第2有機材料を噴射し、第2光照射部211が第2紫外線を照射することによって第2薄膜240が形成される。
図16を参照すると、第3薄膜300上に第1薄膜140が配置される。
第1スキャンの際に第1ノズル部101及び第2ノズル部201が第1有機材料及び第2有機材料を同時に噴射し、第1光照射部111と第2光照射部211とが第1紫外線及び第2紫外線を照射することによって第3薄膜300が形成される。
第3薄膜300が形成された後、第2スキャンが行われる。第2スキャン段階で第1ノズル部101が第1有機材料を噴射し、第1光照射部111が第1紫外線を照射することによって第1薄膜140が形成される。
図17を参照すると、第3薄膜300が連続的に積層される。
第1スキャンの際に第1ノズル部101及び第2ノズル部201が第1有機材料及び第2有機材料を同時に噴射し、第1光照射部111と第2光照射部211とが第1紫外線及び第2紫外線を照射することによって、第1第3薄膜300aが形成される。次いで、第2スキャンの際に第1ノズル部101及び第2ノズル部201が第1有機材料及び第2有機材料を同時に噴射し、第1光照射部111と第2光照射部211とが第1紫外線及び第2紫外線を照射することによって、第2第3薄膜300bが形成される。すなわち、第1スキャン及び第2スキャンが互いに同じ種類の薄膜を形成する。これによって、一回のスキャンによって形成された薄膜より相対的に厚い薄膜を形成する。
すなわち、図17のように第1ノズル部101と第2ノズル部201とを同時に動作させて第3薄膜(300a、300b)を形成することができる、又は、図18のように第1ノズル部101及び第2ノズル部201のうちいずれか一つのみを作動させて同じ薄膜を順次に積層することができる。図18は、第1スキャン及び第2スキャンの際に第1ノズル部101のみを作動させた場合を例示する。
以下、本発明の他の実施形態について説明する。以下の実施形態ですでに説明した構成と同様の構成については同じ参照番号で示し、重複する説明は省略または簡略にする。
図19は、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置1003の断面図である。
図19を参照すると、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置1003は、延在方向の長さが基板の幅に比べて相対的に小さい点が図5の実施形態と違う点である。
例示的な実施形態において、薄膜形成装置1003の延在方向の長さd2は基板500の幅wに比べて相対的に小さい場合もある。薄膜形成装置1003の延在方向の長さd2が基板500の幅wに比べて相対的に小さい場合、薄膜形成のために薄膜形成装置1003は第1スキャン及び第2スキャンを一回以上繰り返して行う。
図20ないし図22を参照して本発明の他の実施形態について具体的に説明する。
図20ないし図22は、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。
図20ないし図22を参照すると、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置は第1スキャン及び第2スキャンを一回以上行う。
先に、基板500の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で、基板500は第1方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向に対して垂直な方向に移動する。すなわち、第1スキャンが行われる。
基板500が第1方向に移動することによって、第1ノズル部102及び第2ノズル部202のうちいずれか一つ以上のノズル部が作動し、基板500上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を基板500上に提供する。また、これに対応して第1光照射部112及び第2光照射部212のうちいずれか一つ以上が基板500上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する。
第1ノズル部102、第2ノズル部202、第1光照射部112及び第2光照射部212の動作は前に本発明の一実施形態による薄膜形成装置で説明した内容と実質的に同じであるため、これに関する詳しい説明は省略する。
第1スキャンが終わると、薄膜形成装置は基板500の他側に隣接するように配置される。この状態で、基板500は薄膜形成装置の長さ方向、すなわち、第1方向または第2方向に対して垂直な第3方向に一定間隔シフトする。例示的な実施形態で基板500は薄膜形成装置の延在方向の長さd2だけシフトするが、シフト距離がこれに制限されるものではない(図21参照)。
基板500が長さ方向にシフトした後、第2スキャンが行われる。すなわち、基板500の他側から一側まで順次に薄膜形成装置を通過し、これによって、基板500上に順次に薄膜が形成される。
図20ないし図22は、第1スキャン及び第2スキャンが各々一回ずつ行われた場合を例示するが、スキャン数がこれに制限されるものではない。すなわち、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置は第1スキャン、長さ方向シフト、及び第2スキャンを一回以上行う。すなわち、第1スキャン、長さ方向シフト、及び第2スキャンの順序を一回以上繰り返して行う。
これによって、基板500の全領域に少なくとも一層以上の有機薄膜を形成する。
以下では本発明の一実施形態による薄膜形成方法について説明する。
本発明の一実施形態による薄膜形成方法は、基板を第1方向に移動させて基板上に第1薄膜を形成する第1スキャン段階、基板を第1方向と反対方向である第2方向に移動させて第2薄膜を形成する第2スキャン段階を含み、第1スキャン段階及び第2スキャン段階は基板上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。
本発明の一実施形態による薄膜形成方法は、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって行われる。ただし、本発明の一実施形態による薄膜形成方法がこれに制限されるものではない。
先ず、基板500を第1方向に移動させて基板500上に第1薄膜を形成する第1スキャンが行われる。
再び図7ないし図9を参照して第1スキャン段階について説明する。また、説明の便宜上、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置を利用して薄膜を形成する方法を説明するが、これによって範囲が制限されないのは前述した通りである。
第1スキャン段階は、基板上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。基板上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階は、第1ノズル部101及び第2ノズル部201のうちいずれか一つ以上によって行われる。また、基板500上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階は、第1光照射部111及び第2光照射部211のうちいずれか一つ以上によって行われる。ただし、これは例示的なものであって、これに制限されるものではない。これについてさらに具体的に説明する。
以下では、第1ノズル部101が噴射する第1有機材料によって第1薄膜が形成される場合を例示して説明するが、これに制限されないのはもちろんである。すなわち、前述したように第1スキャン段階は第1有機材料、第2有機材料、第1有機材料及び第2有機材料が混合された薄膜のうちいずれか一つを形成する。
第1方向は、図7でy軸の負の方向である。すなわち、基板500の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で、基板500は第1方向すなわち、薄膜形成装置の長さ方向に対して垂直な方向に移動する。
図8を参照すると、基板500の一側辺が薄膜形成装置に隣接すると、第1ノズル部101によって第1有機材料が噴射される。すなわち、第1ノズル部101が基板500に向かって第1有機材料を提供する。第1ノズル部101は基板500が移動することにより連続的または断続的に第1有機材料を噴射する。第1ノズル部101が第1有機材料を噴射すると同時にまたは順次に第1光照射部111は基板500上に提供された第1有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板500上に提供された第1有機材料が硬化される。例えば、第1光照射部111が第1有機材料を硬化させる第1紫外線を照射するのは、前述した通りである。
前記した過程を経て基板500が継続して移動し、基板500の他側が薄膜形成装置を通過すると、基板500上には第1有機材料が硬化して形成された第1薄膜140が形成される(図9参照)。
第1スキャン段階後に、第2スキャン段階が行われる。第2スキャン段階は、基板を第1方向と反対方向である第2方向に移動させて第2薄膜を形成する段階である。
再び図10ないし図12を参照して、第2スキャン段階について説明する。また、説明の便宜上、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置を利用して薄膜を形成する方法を説明するが、これによって範囲が制限されないのは前述した通りである。
第2スキャン段階は、基板上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。基板上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階は、第1ノズル部101及び第2ノズル部201のうちいずれか一つ以上によって行われる。また、基板500上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階は、第1光照射部111及び第2光照射部211のうちいずれか一つ以上によって行われる。ただし、これは例示的なものであり、これに制限されるものではない。これについてさらに詳細に説明する。
以下では第2ノズル部101が噴射する第2有機材料によって第2薄膜が形成される場合を例示して説明するが、これに制限されないのはもちろんである。すなわち、前述したように第2スキャン段階は第1有機材料、第2有機材料、第1有機材料及び第2有機材料が混合した薄膜のうちいずれか一つを形成する。
図10を参照すると、基板500の他側が薄膜形成装置を通過した後、すなわち、基板500の他側が薄膜形成装置に隣接した状態で、基板500は第1方向と反対方向である第2方向、すなわち、図10でy軸の正の方向に移動する。
基板500が第2方向に沿って移動し、これによって基板500の他側から一側まで順次に薄膜が形成される。
基板500の他側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で基板500は第2方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。
図11を参照すると、基板500の他側が薄膜形成装置に隣接すると、第2ノズル部201から第2有機材料が噴射される。すなわち、第2ノズル部201が基板500に向かって第2有機材料を提供する。第2ノズル部201は基板500が移動することにより連続的または断続的に第2有機材料を噴射する。第2ノズル部201が第2有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第2光照射部211は、基板500上に提供された第2有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板500上に提供された第2有機材料が硬化される。
このような過程を経て基板500が継続して移動し、基板500の一側が薄膜形成装置を通過すると、基板500上には、第2有機材料が硬化して形成された第2薄膜240が形成される。第2薄膜240は第1薄膜140と完全に重なるか、または第1薄膜140を完全に覆うように形成されるが、これに制限されるものではない。
本発明の他の実施形態による薄膜形成方法は、第1スキャン段階と第2スキャン段階との間に基板を第1方向または第2方向と垂直な第3方向にシフトさせる段階をさらに含む。再び図20ないし図22を参照して詳細に説明する。
先ず、基板500の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で基板500は第1方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。すなわち、第1スキャン段階が行われる。
基板500が第1方向に移動することによって、第1ノズル部102及び第2ノズル部202のうちいずれか一つ以上のノズル部が作動し、基板上に第1有機材料及び第2有機材料のうちいずれか一つ以上を基板500上に提供する。また、これに対応し、第1光照射部112及び第2光照射部212のうちいずれか一つ以上が基板500上に第1紫外線及び第2紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する。
第1ノズル部102、第2ノズル部202、第1光照射部112及び第2光照射部212の動作は前に本発明の一実施形態による薄膜形成装置で説明した内容と実質的に同じである。したがって、これに関する詳しい説明は省略する。
第1スキャン段階が終わると、薄膜形成装置は基板500の他側に隣接するように配置される。この状態で、基板500は薄膜形成装置の長さ方向、すなわち、第1方向または第2方向と垂直な第3方向に一定間隔シフトする。例示的な実施形態で基板500は、薄膜形成装置の延在方向の長さd2だけシフトするが、シフト距離がこれに制限されるものではない(図21参照)。
基板500が長さ方向にシフトした後、第2スキャンが行われる。すなわち、基板500の他側から一側まで順次に薄膜形成装置を通過し、これによって、基板500上に順次に薄膜が形成される。
以上添付された図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や必須の特徴を変更しない範囲で他の具体的な形態で実施され得ることを理解することができる。したがって、上記実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。
1000,1001,1002,1003 薄膜形成装置
110,111 第1光照射部
100,101,102 第1ノズル部
120,121 第1貯蔵部
200,201,202 第2ノズル部
210,211 第2光照射部
220,221 第2貯蔵部
130 第1気化部
230 第2気化部

Claims (10)

  1. 第1有機材料が貯蔵される第1貯蔵部と、
    前記第1貯蔵部と連結された第1ノズル部であって、前記第1貯蔵部に貯蔵される前記第1有機材料を噴射する第1ノズル部と、
    前記第1ノズル部に隣接するように配置された第1光照射部であって、前記第1有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第1光照射部と、
    第2有機材料が貯蔵される第2貯蔵部と、
    前記第1ノズル部に隣接するように配置された第2ノズル部であって、前記第2貯蔵部と連結されており、前記第2貯蔵部に貯蔵される前記第2有機材料を噴射する第2ノズル部と、
    前記第2ノズル部に隣接するように配置された第2光照射部であって、前記第2有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第2光照射部と、
    を含む薄膜形成装置。
  2. 前記第1貯蔵部及び前記第2貯蔵部は、液状形態の前記第1有機材料及び前記第2有機材料を貯蔵し、前記第1有機材料及び前記第2有機材料を気化させる第1気化部及び第2気化部をさらに含む、請求項1に記載の薄膜形成装置。
  3. 前記第1光照射部は、前記第1有機材料を硬化させる波長を有する光を照射し、前記第2光照射部は前記第2有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する、請求項1に記載の薄膜形成装置。
  4. 長さ方向に延在し、並列に配置される第1ノズル部及び第2ノズル部と、
    前記第1ノズル部と接続された第1貯蔵部であって、第1有機材料を貯蔵する第1貯蔵部と、
    前記第2ノズル部と接続された第2貯蔵部であって、第2有機材料を貯蔵する第2貯蔵部と、
    前記第1ノズル部の一側に隣接するように配置された第1光照射部、前記第1ノズル部と並列に延在される第1光照射部と、
    前記第2ノズル部の他側に隣接するように配置された第2光照射部、前記第2ノズル部と並列に延在される第2光照射部と、
    を含む薄膜形成装置。
  5. 前記第1ノズル部及び前記第2ノズル部の上に、前記第1ノズル部及び前記第2ノズル部と対向するように基板が配置され、
    前記基板の幅は、前記薄膜形成装置の延在方向の長さと対応する、請求項4に記載の薄膜形成装置。
  6. 前記基板は、前記長さ方向に対して垂直な第1方向または前記第1方向と異なる第2方向に水平移動する、請求項5に記載の薄膜形成装置。
  7. 前記基板が前記第1方向に移動することにより、前記基板上に薄膜が形成される第1スキャン、及び、前記基板が前記第2方向に移動することにより、前記基板上に薄膜が形成される第2スキャンが定義される、請求項6に記載の薄膜形成装置。
  8. 前記第1スキャンの際、前記第1ノズル部は前記第1有機材料を前記基板に提供し、前記第1光照射部は、前記基板に向かって前記第1有機材料を硬化させる波長を有する第1紫外線を照射し、
    前記第2スキャンの際、前記第2ノズル部は前記第2有機材料を前記基板に提供し、前記第2光照射部は、前記基板に向かって前記第2有機材料を硬化させる波長を有する第2紫外線を照射する、請求項7に記載の薄膜形成装置。
  9. 前記第1スキャンの際、前記第1ノズル部及び前記第2ノズル部は、前記第1有機材料及び前記第2有機材料を前記基板に提供し、前記第1光照射部及び前記第2光照射部は、前記第1有機材料を硬化させる第1紫外線及び前記第2有機材料を硬化させる第2紫外線を前記基板に照射する、請求項7に記載の薄膜形成装置。
  10. 前記第1スキャンが行われた後、前記基板は前記長さ方向に沿って一定間隔シフトする、請求項7に記載の薄膜形成装置。
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