JP2015128145A - 検出装置、インプリント装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のマークを検出する検出装置は、ミラー11bと、前記マークに前記ミラーを介して光を照射し、当該マークで反射された光を前記ミラーを介して検出するスコープ11aとをそれぞれ有する複数の検出部を含み、前記複数の検出部は、互いに異なる前記マークからの光を検出する第1検出部10aと第2検出部10bと第3検出部と10cを含み、前記複数のマークが配置された面と平行な面方向において、前記第3検出部における前記ミラーと前記スコープとの間の光軸の方向が、前記第1検出部における前記ミラーと前記スコープとの間の光軸の方向および前記第2検出部における前記ミラーと前記スコープとの間の光軸の方向のうち少なくとも1つと異なる。
【選択図】図5
Description
本発明の第1実施形態のインプリント装置100について、図1を参照しながら説明する。インプリント装置100は、半導体デバイスなどの製造に使用され、パターンが形成されたモールド4を用いて基板上のインプリント材を成形する。例えば、インプリント装置100は、パターンが形成されたパターン領域を有するモールド4を基板上のインプリント材(樹脂)に接触させた状態でインプリント材を硬化させる。インプリント装置100は、モールド4と基板5との間隔を拡げ、硬化したインプリント材からモールド4を剥離するプロセスによって基板上にパターンを転写するインプリント処理を行う。
図8は、第2実施形態のインプリント装置101を示す概略図である。第2実施形態のインプリント装置101は、モールド4を保持するインプリントヘッド3と、基板5を保持する基板ステージ2と、基板上に供給されたインプリント材を硬化させる光を射出する光源8とを含みうる。また、インプリント装置101は、基板5に設けられた複数のマークを検出する検出装置と制御部9とを含みうる。検出装置には、第1実施形態と同様にモールド4に設けられたマーク6と基板5上のショット領域に設けられたマーク7とを検出する複数の検出部10を含む。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された樹脂に上記のインプリント装置を用いてパターンを形成する工程(基板にインプリント処理を行う工程)と、かかる工程でパターンが形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (13)
- 複数のマークを検出する検出装置であって、
ミラーと、前記マークに前記ミラーを介して光を照射し、当該マークで反射された光を前記ミラーを介して検出するスコープとをそれぞれ有する複数の検出部を含み、
前記複数の検出部は、互いに異なる前記マークからの光を検出する第1検出部と第2検出部と第3検出部とを含み、
前記複数のマークが配置された面と平行な面方向において、前記第3検出部における前記ミラーと前記スコープとの間の光軸の方向が、前記第1検出部における前記ミラーと前記スコープとの間の光軸の方向および前記第2検出部における前記ミラーと前記スコープとの間の光軸の方向のうち少なくとも1つと異なる、ことを特徴とする検出装置。 - 各検出部は、前記スコープから光が射出される方向と垂直かつ前記面方向と平行な方向において、前記ミラーの幅が前記スコープの幅より狭くなるように構成され、
前記複数の検出部は、前記スコープの幅より狭い間隔で前記複数のマークを検出する、ことを特徴とする請求項1に記載の検出装置。 - 前記面方向において、前記第3検出部における前記光軸の方向が、前記第1検出部における前記光軸の方向および前記第2検出部における前記光軸の方向のうち少なくとも1つに対して垂直である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の検出装置。
- 前記面方向において、前記第2検出部における前記光軸の方向は、前記第1検出部における前記光軸の方向に対して平行である、ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の検出装置。
- 前記第1検出部のスコープと前記第2検出部のスコープとは、前記面方向に光を射出し、
前記第2検出部のスコープが光を射出する方向は、前記第1検出部のスコープが光を射出する方向の反対方向である、ことを特徴とする請求項4に記載の検出装置。 - 前記複数の検出部は、第4検出部を含み、該第4検出部における前記光軸の方向は、前記第3検出部における前記光軸の方向に対して平行である、ことを特徴とする請求項3乃至5のうちいずれか1項に記載の検出装置。
- 前記第3検出部のスコープと前記第4検出部のスコープとは、前記面方向に光を射出し、
前記第4検出部のスコープが光を射出する方向は、前記第3検出部のスコープが光を射出する方向の反対方向である、ことを特徴とする請求項6に記載の検出装置。 - 前記複数のマークを前記複数の検出部によって検出する際に、前記面方向において互いに直交する第1方向および第2方向における幅がそれぞれ前記スコープの幅より狭い領域内に、前記複数の検出部の各々における前記ミラーが配置される、ことを特徴とする請求項6又は7に記載の検出装置。
- 四角形の頂点の位置に配置された4つのマークを検出する場合、前記4つのマークのうち対角方向に配置された2つのマークを前記第1検出部と前記第2検出部とが検出し、前記4つのマークのうち対角方向に配置され、かつ前記第1検出部と前記第2検出部とによって検出される2つのマークとは異なる2つのマークを前記第3検出部と前記第4検出部とが検出する、ことを特徴とする請求項6乃至8のうちいずれか1項に記載の検出装置。
- 各検出部は、前記スコープから射出されて前記ミラーで反射された後の光の光軸が前記複数のマークが配置された面に対して垂直になるように構成されている、ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の検出装置。
- 前記複数の検出部の各々を、少なくとも前記面方向に個別に駆動する駆動部を含む、ことを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の検出装置。
- パターンが形成されたモールドを用いて基板上のインプリント材を成形するインプリント装置であって、
基板上に設けられた複数のマークを検出する、請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載の検出装置を含み、
前記検出装置における各検出部は、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う際に、前記モールドに設けられたマークを介して前記基板に設けられたマークを検出する、ことを特徴とするインプリント装置。 - 請求項12に記載のインプリント装置を用いて基板上のインプリント材にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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