JP2015126013A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャンバ12では、チャンバ蓋部122が昇降する。チャンバ蓋部122およびカップ部161が接しつつ高い位置に位置する状態にて基板9に薬液が吐出され、カップ部161にて薬液が回収される。チャンバ蓋部122およびカップ部161が接しつつ低い位置に位置する状態にて基板9に純水が吐出され、チャンバ12にて液が集められる。チャンバ蓋部122の内周部は、下方に突出する下方突出部31を含む。下方突出部は、チャンバ蓋部122とチャンバ本体121との間の隙間の径方向内側を覆う。これにより、隙間に処理液が入り込んでパーティクルの発生源となることが抑制される。チャンバ蓋部122にて処理液を受けるため、チャンバ12を小さくすることができる。
【選択図】図5
Description
9 基板
12 チャンバ
14 基板保持部
15 基板回転機構
31 下方突出部
32 上方突出部
33 環状凹部
35 弾性シール部材
81 環状開口
82 隙間
83 境界
100 拡大密閉空間
120 チャンバ空間
121 チャンバ本体
122 チャンバ蓋部
131 チャンバ開閉機構
160 側方空間
161 カップ部
162 カップ部移動機構
181 上部ノズル(処理液吐出部)
191 第1排出路
192 第2排出路
J1 中心軸
Claims (6)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
チャンバ本体およびチャンバ蓋部を有し、前記チャンバ蓋部が前記チャンバ本体の上部開口に近接または前記上部開口に接するチャンバ閉状態においてチャンバ空間を形成するチャンバと、
前記チャンバ蓋部を前記チャンバ本体に対して上下方向に相対的に移動するチャンバ開閉機構と、
前記チャンバ閉状態において前記チャンバ空間に位置し、水平状態で基板を保持する基板保持部と、
上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、
前記基板上に処理液を供給する処理液吐出部と、
前記チャンバの外側に全周に亘って位置し、前記チャンバの外周に側方空間を形成し、前記チャンバ蓋部が前記チャンバ本体から離間することにより前記基板の周囲に形成される環状開口を介して、回転する前記基板から飛散する処理液を受けるカップ部と、
を備え、
前記チャンバ蓋部の下部が、全周に亘って下方に突出する下方突出部を含み、
前記チャンバ閉状態において、前記下方突出部の下端が前記基板保持部に保持される基板よりも下に位置し、かつ、前記下方突出部が前記チャンバ蓋部と前記チャンバ本体との間の隙間または境界の径方向内側を覆い、
前記環状開口が形成された状態で、前記カップ部が前記チャンバ蓋部に接することにより、前記チャンバ本体、前記チャンバ蓋部および前記カップ部を含む部位が1つの拡大密閉空間を形成することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ蓋部が、前記下方突出部の上側に径方向外方に向かって窪む環状凹部を含み、
前記チャンバ閉状態において、前記環状凹部が前記基板保持部に保持される基板の側方に位置することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ本体が、前記下方突出部の径方向外側において全周に亘って上方に突出する上方突出部を含み、
前記上方突出部の上端が、上方に向かって尖っていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記カップ部内の気体を排出する第1排出路と、
前記チャンバ内の気体を排出する第2排出路と、
をさらに備え、
前記チャンバ閉状態において前記チャンバ本体と前記チャンバ蓋部とが非接触にて近接し、回転する基板上に処理液が供給される際に、前記第1排出路からの排気が停止されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ本体が、前記下方突出部の径方向外側において上方に突出する上方突出部を含み、
前記チャンバ閉状態において、前記上方突出部の上端が前記チャンバ蓋部に接し、
前記上方突出部の上部、または、前記チャンバ蓋部の前記上方突出部の上端と接する部位が、弾性シール部材を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし5に記載の基板処理装置であって、
前記カップ部を上下方向に移動するカップ部移動機構をさらに備え、
前記チャンバ本体の位置が固定されており、
基板が前記チャンバ本体と前記チャンバ蓋部との間に搬入される際の前記カップ部の位置が、前記拡大密閉空間が形成される状態の前記カップ部の位置よりも低いことを特徴とする基板処理装置。
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