JP2015122456A - リアクトル - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、リアクトル1を模式的に示す正面図である。図2は、図1の矢印II方向視図である。図1および図2に示すように、本実施形態のリアクトル1は、コア2と、コア2に巻き回されるコイル3と、を備えており、コア2には、閉磁路CC1が形成される。図1に示す閉磁路CC0は、コア2を有しない空芯の場合に形成される閉磁路を示している。同図に示すように、コア2は、中空円柱状に形成されており、コア2の軸(中心軸)を軸AZ1で示している。軸AZ1は、紙面に垂直な方向に形成されている。
(数1)
Hf=Tn×Ic/lm
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分されていない点で第1実施形態と異なる。図8は、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P16および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に2つに区分されている点で第1実施形態と異なる。図9は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P20および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、隣り合う位置部位(第一位置部位2A1および第二位置部位2A2)が線接触している点で第2実施形態と異なる。図10は、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P12および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、隣り合う位置部位(第一位置部位2A1および第二位置部位2A2)が、離間している点で第2実施形態と異なる。図11は、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P08および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、各層部位2U、2M、2Lは、径方向に1層に形成されている点で第1実施形態と異なる。なお、本実施形態においても、各層部位2U、2M、2Lは、周方向に12区分されている。図12は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P16および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に2つに区分されている点で第6実施形態と異なる。図13は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P16および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、隣り合う周方向位置部位(第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4)が線接触している点で第7実施形態と異なる。図14は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P12および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、第一周方向位置部位2B1〜第三周方向位置部位2B3間の接触面積が増加している点で第6実施形態と異なる。図15は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01(位置P01M、位置P01L)〜位置P12(位置P12M、位置P12U)および位置P01(位置P01M、位置P01L)の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8間において、面接触する部位と線接触する部位とを有している点で第6実施形態と異なる。図16は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01M〜位置P12(位置P12U、位置P12M、位置P12L)および位置P01Mの順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に2つに区分されている点で第10実施形態と異なる。図17は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01L〜位置P12(位置P12U、位置P12L)および位置P01Lの順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本実施形態では、第一周方向位置部位2B1〜第六周方向位置部位2B6が、それぞれ離間して配置されている点で第6実施形態と異なる。図18は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01M〜位置P11(位置P11U、位置P11L)および位置P01Mの順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
本発明は上記し且つ図面に示した実施形態のみに限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更して実施することができる。
2:コア、21:第一コア部、22:第二コア部、
2U,2M,2L:層部位、
2A1:第一位置部位、2A2:第二位置部位、
2B1〜2B8:第一周方向位置部位〜第八周方向位置部位、
3:コイル、
CC1:閉磁路、
AZ1:コア2の軸。
Claims (7)
- 第一透磁率を有する第一コア部と、前記第一透磁率と比べて大きい第二透磁率を有する第二コア部とを有し、前記第一コア部および前記第二コア部により閉磁路が形成されるコアと、
前記コアに巻き回されるコイルと、
を備えるリアクトルであって、
前記第二コア部は、前記コアの軸方向視において前記軸からの距離がそれぞれ異なる複数の位置部位を有し、前記軸からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う複数の前記位置部位を通って前記閉磁路の主部が形成されているリアクトル。 - 前記コアは、前記軸方向と垂直方向に区分された複数の層部位を有し、
隣接する前記層部位には、前記軸からの距離が異なる前記位置部位がそれぞれ設けられている請求項1に記載のリアクトル。 - 隣り合う前記位置部位は、面接触または線接触している請求項1または2に記載のリアクトル。
- 第一透磁率を有する第一コア部と、前記第一透磁率と比べて大きい第二透磁率を有する第二コア部とを有し、前記第一コア部および前記第二コア部により閉磁路が形成されるコアと、
前記コアに巻き回されるコイルと、
を備えるリアクトルであって、
前記コアは、前記コアの軸方向と垂直方向に区分された複数の層部位を有し、
前記第二コア部は、前記コアの軸方向視において周方向位置がそれぞれ異なる複数の周方向位置部位を有し、
隣接する前記層部位には、前記周方向位置が異なる前記周方向位置部位がそれぞれ設けられ、前記周方向位置がそれぞれ異なり、互いに隣り合う複数の前記周方向位置部位を通って前記閉磁路の主部が形成されているリアクトル。 - 隣り合う前記周方向位置部位は、面接触または線接触している請求項4に記載のリアクトル。
- 前記第一コア部と前記第二コア部の境界において、前記第二コア部から前記第一コア部に向かって透磁率が徐々に減少する請求項1〜5のいずれか一項に記載のリアクトル。
- 前記コアには、前記第一コア部および前記第二コア部が存在しないギャップが設けられている請求項1〜6のいずれか一項に記載のリアクトル。
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