JP2015119177A - バッフルアセンブリー及びこれを有する基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
記第1位置及び前記第3位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される。
は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置である。
される。第2可変ホール542の中の一部が配列された列548bと第1可変ホール541の中の一部が配列された列548aとがなす角度はその大きさが第1可変ホール541の中の一部が配列された列548a間の角度より小さく提供される。
が開閉される形態を示した図面である。図13を参考すれば、第2噴射板540が第1位置に位置する場合、第1可変ホール541は第1固定ホール522及び第2固定ホール524と対向されるように位置される。したがって、第1固定ホール522及び第2固定ホール524は開放される。
4を通じたガス又はプラズマの噴射量は同一である。
が開閉される形態を示した図面である。図20を参考すれば、第2噴射板540が第1位置に位置する場合、第1可変ホール541は第1固定ホール522、第2固定ホール524、及び第3固定ホール526と対向されるように位置される。したがって、第1固定ホール522、第2固定ホール524、及び第3固定ホール526は開放される。
面520b、及び上面520aと下面520bを連結する側面520cを有する。上面520a及び下面520bには第1固定ホール522及び第2固定ホール524が形成される。第1固定ホール522及び第2固定ホール524は図4の第1固定ホール522及び第2固定ホール524と同一の形態に配置及び形成される。第1噴射板520の側面520cには開口520dが形成される。第2噴射板540はその側面のギヤが開口520dを通じて駆動ギヤ562と噛み合うように提供される。
200 基板支持ユニット、
300 ガス供給ユニット、
400 プラズマソース、
500 バッフルアセンブリー。
Claims (27)
- 工程チャンバーと、
前記工程チャンバー内で基板を支持するように提供された基板支持ユニットと、
前記工程チャンバー内の前記基板支持ユニットの上部に位置され、互いに上下に積層された第1噴射板と第2噴射板、及び前記第2噴射板をその中心を軸として回転させるための駆動ユニットを有するバッフルアセンブリーと、
前記第1噴射板及び前記第2噴射板の上部にガスを供給するガス供給ユニットと、を具備し、
前記バッフルアセンブリーは、
前記第2噴射板の回転角度によって前記基板の領域別にプラズマ又はガスの噴射量を調節できるように提供される基板処理装置。 - 前記第1噴射板の中央領域には、上下方向に貫通する第1固定ホールが形成され、
前記第1噴射板の縁領域には、上下方向に貫通する第2固定ホールが形成される請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホールと、
前記第2噴射板の中央領域に配置された第2可変ホールと、
前記第2噴射板の縁領域に配置された第3可変ホールと、が形成され、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第2噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第2位置に位置する場合、前記第2可変ホールは、前記第1固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置及び前記第2位置と異なる第3位置に位置する場合、前記第3可変ホールは、前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置、前記第2位置、及び前記第3位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置である請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記第1固定ホールの中の一部と前記第2固定ホールの中の一部とは、前記第1噴射板の半径方向に一列に提供され、
前記第1可変ホールの中の一部、前記第2可変ホールの中の一部、及び前記第3可変ホールの中の一部は、前記第2噴射板の半径方向に各々一列に提供される請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホールと、
前記第2噴射板の中央領域に配置された第2可変ホールと、が形成され、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第1噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第2位置に位置する場合、前記第2可変ホールは、前記第1固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置及び前記第2位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置である請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記第1固定ホールの中の一部と前記第2固定ホールの中の一部とは、前記第1噴射板の半径方向に一列に提供され、
前記第1可変ホールの中の一部及び前記第2可変ホールの中の一部は、前記第2噴射板の半径方向に各々一列に提供される請求項5に記載の基板処理装置。 - 前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホールと、
前記第2噴射板の縁領域に配置された第3可変ホールと、が形成され、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第1噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第3位置に位置する場合、前記第3可変ホールは、前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置及び前記第3位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置である請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記第1固定ホールの中の一部と前記第2固定ホールの中の一部とは、前記第1噴射板の半径方向に一列に提供され、
前記第1可変ホールの中の一部及び前記第3可変ホールの中の一部は、前記第2噴射板の半径方向に各々一列に提供される請求項7に記載の基板処理装置。 - 前記第1噴射板には、
前記第1噴射板の中央領域と前記第1噴射板の縁領域との間の領域であるミドル領域に配置された第3固定ホールがさらに形成され、
前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域と前記第2噴射板の縁領域との間の領域であるミドル領域に配置された第4可変ホールがさらに形成され、
前記第4可変ホールは、
前記第2噴射板が前記第2位置又は前記第3位置に位置する場合、前記第3固定ホールと対向されるように提供される請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記第1固定ホールの中の一部、前記第2固定ホールの中の一部、及び前記第3固定ホールの中の一部は、前記第1噴射板の半径方向に一列に提供され、
前記第1可変ホールの中の一部は、前記第2噴射板の半径方向に一列に提供され、
前記第4可変ホールの中の一部は、前記第2可変ホールの中の一部又は前記第3可変ホールの中の一部と前記第2噴射板の半径方向に各々一列に提供される請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記第2噴射板は、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホール及び第5可変ホールを有し、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第2噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第2位置に位置する場合、前記第5可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置及び前記第2位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置であり、
前記第1可変ホール及び前記第5可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールよりその大きさが同一であるか、或いは小さく提供され、
前記第2噴射板の中央領域に配置された前記第5可変ホールと、前記第2噴射板の縁領域に配置された前記第5可変ホールとは、その大きさが互いに異なるように形成される請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記第1固定ホールの中の一部と前記第2固定ホールの中の一部とは、前記第1噴射板の半径方向に一列に提供され、
前記第1可変ホールの中の一部及び前記第5可変ホールの中の一部は、前記第2噴射板の半径方向に各々一列に提供される請求項11に記載の基板処理装置。 - 前記第2噴射板は、その側端部にギヤが提供され、
前記駆動ユニットは、
前記ギヤに噛み合うように提供される駆動ギヤと、
前記第2噴射板を回転させるための駆動力を発生させるモーターと、
前記モーターで発生された駆動力を前記駆動ギヤに伝達させる連結部材と、を有する請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記駆動ユニットは、磁力を利用して前記第2噴射板をその中心を軸として回転させるように提供される請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第1噴射板は、前記工程チャンバーに固定されるように提供される請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記第2噴射板は、前記第1噴射板の上部に提供される請求項1乃至請求項10の何れか1つに記載の基板処理装置。
- 前記第2噴射板は、前記第1噴射板の下部に提供される請求項1乃至請求項10の何れか一つに記載の基板処理装置。
- 前記第1噴射板は、中空の円板状に提供され、
前記第2噴射板は、前記第1噴射板の内部に提供される請求項1乃至請求項10の何れか一つに記載の基板処理装置。 - 前記ガス供給ユニットと供給されたガスからプラズマを発生させるプラズマソースをさらに含む請求項1乃至請求項10の何れか一つに記載の基板処理装置。
- 互いに上下に積層された第1噴射板及び第2噴射板と、
前記第2噴射板をその中心を軸として回転させるための駆動ユニットと、を有し、
前記第2噴射板の回転角度によって基板の領域別にプラズマ又はガスの噴射量を調節できるように提供されるバッフルアセンブリー。 - 前記第1噴射板の中央領域には上下方向に貫通する第1固定ホールが形成され、
前記第1噴射板の縁領域には上下方向に貫通する第2固定ホールが形成される請求項20に記載のバッフルアセンブリー。 - 前記第1噴射板は、工程チャンバーに固定されるように提供される請求項21に記載のバッフルアセンブリー。
- 前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホールと、
前記第2噴射板の中央領域に配置された第2可変ホールと、
前記第2噴射板の縁領域に配置された第3可変ホールと、が形成され、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第2噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第2位置に位置する場合、前記第2可変ホールは、前記第1固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置及び前記第2位置と異なる第3位置に位置する場合、前記第3可変ホールは、前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置、前記第2位置、及び前記第3位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置である請求項21に記載のバッフルアセンブリー。 - 前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホールと、
前記第2噴射板の中央領域に配置された第2可変ホールと、が形成され、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第1噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第2位置に位置する場合、前記第2可変ホールは、前記第1固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置及び前記第2位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置である請求項21に記載のバッフルアセンブリー。 - 前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホールと、
前記第2噴射板の縁領域に配置された第3可変ホールと、が形成され、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第1噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第3位置に位置する場合、前記第3可変ホールは、前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置及び前記第3位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置である請求項21に記載のバッフルアセンブリー。 - 前記第1噴射板には、
前記第1噴射板の中央領域と前記第1噴射板の縁領域との間の領域に配置された第3固定ホールがさらに形成され、
前記第2噴射板には、
前記第2噴射板の中央領域と前記第2噴射板の縁領域との間の領域に配置された第4固定ホールがさらに形成され、
前記第4固定ホールは、
前記第2噴射板が前記第2位置又は前記第3位置に位置する場合、前記第3固定ホールと対向されるように提供される請求項23に記載のバッフルアセンブリー。 - 前記第2噴射板は、
前記第2噴射板の中央領域及び縁領域に配置された第1可変ホール及び第5可変ホール
を有し、
前記第2噴射板の中央領域は、前記第1噴射板の中央領域に対向され、
前記第2噴射板の縁領域は、前記第1噴射板の縁領域に対向され、
前記第2噴射板が第1位置に位置する場合、前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第2噴射板が前記第1位置と異なる第2位置に位置する場合、前記第5可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールと対向されるように提供され、
前記第1位置及び前記第2位置は、前記第2噴射板の回転によって変更される前記第2噴射板の位置であり、
前記第1可変ホールは、前記第1固定ホール及び前記第2固定ホールよりその大きさが同一であるか、或いは小さく提供され、
前記第2噴射板の中央領域に配置された前記第5可変ホールと、前記第2噴射板の縁領域に配置された前記第5可変ホールは、その大きさが互いに異なるように形成される請求項21に記載のバッフルアセンブリー。
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