JP5711581B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
S 処理空間
W ウエハ
10 プラズマ処理装置
12 サセプタ
13 シャワーヘッド
13a 上面
23 上部電極板
27,28,29,40,50,60,70 磁力線生成ユニット
27a,27b,28a,28b,29a,29b,41a,41b 磁石列
27c,28c,29c,42,43、44 ヨーク
30 第2の直流電源
Claims (12)
- 下部電極と、該下部電極と対向して配置された上部電極とを有し、前記下部電極と前記上部電極との間の処理空間においてプラズマを生じさせて前記下部電極に載置された基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記上部電極に関して前記処理空間とは反対側に配置された磁場形成部を有し、
前記磁場形成部は、前記上部電極の前記処理空間とは反対側の面において平面視において同心状に配置された一対の環状の磁石列を備えた少なくとも1つの磁力線生成ユニットを有し、
前記磁力線生成ユニットにおける前記一対の環状の磁石列は、各磁石列を形成する磁石の軸線によって形成される角度θ1が鋭角となるように配置され、且つ、前記一対の環状の磁石列における前記処理空間側とは反対側の端部が互いに磁界的に接続されて、前記処理空間側の各端部の間において前記処理空間に進入する磁力線を生じさせ、
前記磁場形成部によって前記処理空間内に形成される磁場の垂直成分を該磁場の水平成分よりも小さくしたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記上部電極と前記下部電極との間に直流電源又は高周波電源を接続したことを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも1つの磁力線生成ユニットは、前記処理空間に対して近接及び離脱自在であることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも1つの磁力線生成ユニットは、複数の磁力線生成ユニットであり、該複数の磁力線生成ユニットは、それぞれ個別に前記処理空間に対して近接及び離脱自在であることを特徴とする請求項3記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも1つの磁力線生成ユニットを形成する一対の磁石列のうち一方の磁石列が独立して前記処理空間に対して近接及び離脱自在であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 下部電極と、該下部電極と対向して配置された上部電極とを有し、前記下部電極と前記上部電極との間の処理空間においてプラズマを生じさせて前記下部電極に載置された基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記上部電極に関して前記処理空間とは反対側に配置された磁場形成部を有し、
前記磁場形成部は、前記上部電極の前記処理空間とは反対側の面において平面視において同心状に配置された一対の環状の磁石列と、該一対の環状の磁石列の前記処理空間側の端部にそれぞれ当接された2つのヨークとを備えた複数の磁力線生成ユニットを有し、
前記2つのヨークの軸線によって形成される角度θ2は、0°<θ2≦180°であり、
前記一対の環状の磁石列において前記処理空間側とは反対側の端部は互いに磁界的に接続され、前記一対の環状の磁石列は、前記処理空間側の端部にそれぞれ当接された2つのヨークの各端部の間において前記処理空間に進入する磁力線を生じさせ、
前記複数の磁力線生成ユニットのうちの一の磁力線生成ユニットにおける各磁石列の端部に当接された前記ヨークに、隣接する他の磁力線生成ユニットにおける磁石列の端部に当接されたヨークに向かって突出する突起部を設け、該突起部によって前記隣接する磁力線生成ユニット相互における前記ヨーク相互間の間隔を、前記突起部を形成しない場合の前記ヨーク相互間の間隔よりも小さくし、
前記磁場形成部によって前記処理空間内に形成される磁場の垂直成分を該磁場の水平成分よりも小さくしたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記角度θ2は、鋭角であることを特徴とする請求項6記載のプラズマ処理装置。
- 前記角度θ2は、90°であることを特徴とする請求項6記載のプラズマ処理装置。
- 前記一対の環状の磁石列における前記処理空間側とは反対側の端部は平面視において環状のヨークを介して互いに磁界的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記一対の環状の磁石列における前記処理空間側とは反対側の端部は空間を介して互いに磁界的に接続されていること、を特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記磁力線生成ユニットを、1つの前記磁石列と、一端が該磁石列の前記処理空間側とは反対側の端部と接続し且つ他端が前記処理空間を指向するヨークとで形成したことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記磁力線生成ユニットを、前記処理空間側が開放された断面逆U字状の永久磁石の列で形成したことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
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