JP2015101843A - 埋設構造物の施工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】埋設構造物の施工方法は、基準適合区画10から基準不適合区画20までを横断するように埋設される地盤改良体40a〜40lを施工する方法であって、形成予定領域を外部から区画するための区画壁を埋設する区画壁埋設工程と、区画壁埋設工程において区画壁が埋設された形成予定領域の土壌を取り除く除去工程と、除去工程において土壌が取り除かれた形成予定領域に健全土を埋設することにより、汚染拡散防止領域30を形成する形成工程と、形成工程において形成された汚染拡散防止領域30の外縁に埋設された区画壁を撤去する撤去工程と、地盤改良体40e〜40gが汚染拡散防止領域30に配置されるように、当該地盤改良体40e〜40gを埋設する埋設構造物埋設工程と、を含む。
【選択図】図2
Description
まずは、本実施の形態の基本的概念について説明する。本実施の形態は、概略的に、土壌が汚染されていない領域である非汚染領域と土壌が汚染されている領域である汚染領域とを含む施工対象領域に埋設される埋設構造物の施工方法に関するものである。
次に、本実施の形態の具体的内容について説明する。
最初に、本実施の形態に係る埋設構造物が施工される施工対象領域の構成について説明する。図1は、本実施の形態に係る施工対象領域の概要を示す平面図である。図2は、図1における領域Aの拡大図である。図3は、図2のB−B矢視断面図である。なお、以下の説明では、図1のX方向を施工対象領域の右方向、図1のX’方向を施工対象領域の左方向、図1のY方向を施工対象領域の後方向、図1のY’方向を施工対象領域の前方向、図3のZ方向を施工対象領域の上方向、図3のZ’方向を施工対象領域の下方向とする。ここで、図1〜図3において、後述する各基準不適合区画20の外縁(又は、基準適合区画10と基準不適合区画20との境界)を想像線で示している(なお、後述する図4〜図17についても同様とする)。また、図1、図2において、後述する汚染拡散防止領域30を斜線で示している(なお、後述する図12〜図16についても同様とする)。
基準適合区画10は、施工対象領域1における土壌が汚染されていない非汚染領域に設けられた区画である。また、基準不適合区画20は、施工対象領域1における土壌が汚染されている汚染領域に設けられた区画である。この基準不適合区画20には、基準不適合区画20の汚染された土壌が外部へ拡散することを抑制するための設備が設けられることが好ましく、例えば、基準不適合区画20に散水設備、仮囲い、敷き鉄板等が設けられてもよい。
汚染拡散防止領域30は、基準不適合区画20の土壌が基準適合区画10に拡散することを防止するための領域である。この汚染拡散防止領域30は、基準適合区画10と基準不適合区画20との境界に形成されている。ここで、「基準適合区画10と基準不適合区画20との境界に形成されている」とは、汚染拡散防止領域30が基準適合区画10と基準不適合区画20との境界をまたぐ周辺領域に形成されていること、又は汚染拡散防止領域30が上記境界よりも基準不適合区画20側に配置された周辺領域であって、当該汚染拡散防止領域30の一部が上記境界に隣接する周辺領域に形成されていることを意味するが、本実施の形態では、前者の意味として説明する。
次に、地盤改良体40の構成について説明する。図1に示すように、施工対象領域1には、複数の地盤改良体40が左右方向に略沿って埋設されていると共に、前後方向に略沿って埋設されている。ここで、複数の地盤改良体40の構成の詳細については、複数の地盤改良体40は相互に同一のものであるが、以下では、複数の地盤改良体40の中の地盤改良体40a〜40lであって、図2、図3に示す地盤改良体40a〜40lに着目して説明する(なお、地盤改良体40a〜40lは、相互に区別する必要がない場合には「地盤改良体40」と総称する)。
次に、本実施の形態に係る埋設構造物の施工方法について説明する。図4は、後述する埋設構造物の施工方法における区画壁埋設工程を示す平面図である。図5は、図4のC−C矢視断面図である。図6は、後述する埋設構造物の施工方法における除去工程を示す平面図である。図7は、図6のD−D矢視断面図である。図8は、後述する埋設構造物の施工方法における形成工程を示す平面図である。図9は、図8のE−E矢視断面図である。図10は、後述する埋設構造物の施工方法における撤去工程を示す平面図である。図11は、図10のF−F矢視断面図である。図12は、後述する形成工程及び後述する撤去工程が終了した後の状況を示す平面図である。図13は、図12のG−G矢視断面図である。図14は、後述する埋設構造物の施工方法の地盤改良体埋設工程を示す平面図である。図15は、図14のH−H矢視断面図である。図16は、後述する埋設構造物の施工方法の地盤改良体埋設工程を示す平面図である。図17は、図16のI−I矢視断面図である。図4から図17に示すように、本実施の形態に係る埋設構造物の施工方法は、区画壁埋設工程と、除去工程と、形成工程と、撤去工程と、地盤改良体埋設工程とを含んでいる。
まず、区画壁埋設工程について説明する。図4、図5に示すように、区画壁埋設工程においては、形成予定領域31の外縁に区画壁50が埋設される。
次に、除去工程について説明する。図6、図7に示すように、除去工程においては、区画壁埋設工程において区画壁50が埋設された形成予定領域31の土壌が取り除かれる。具体的には、公知の掘削機(図示省略)によって、区画壁50内の土壌が所定深さ(例えば、地盤改良体40の上下方向の長さと略同一となる深さ等)まで掘削され、当該掘削された土が外部へ排出される。なお、この外部へ排出される土が、基準適合区画10から排出された土と基準不適合区画20から排出された土とに分離可能である場合には、例えば、当該基準適合区画10から排出された土は、形成工程において用いられる健全土として利用され、当該基準不適合区画20から排出された土は、車両等によって所定の汚染処理施設に搬送された後に、当該所定の汚染処理施設にて浄化処理されることが望ましい。一方、この外部へ排出される土が、基準適合区画10から排出された土と基準不適合区画20から排出された土とに分離不可能である場合には、当該外部へ排出される土は、車両等によって所定の汚染処理施設に搬送された後に、当該所定の汚染処理施設にて浄化処理されることが望ましい。
次いで、形成工程及び撤去工程について説明する。図8、図9、図12、図13に示すように、形成工程においては、除去工程において土壌が取り除かれた形成予定領域31に健全土が埋設されることにより、汚染拡散防止領域30が形成される。そして、図10から図13に示すように、撤去工程においては、形成工程において形成された汚染拡散防止領域30の外縁に埋設された区画壁50が引き抜かれることにより、当該区画壁50が撤去される。
続いて、地盤改良体埋設工程について説明する。図2、図3、図14から図17に示すように、地盤改良体埋設工程においては、撤去工程において区画壁50が撤去された後、左右方向に略沿って並設される地盤改良体40a〜40lであって、当該地盤改良体40a〜40lの各々の一部が隣接する他の地盤改良体40の一部と相互に重複するように配置される地盤改良体40a〜40lが埋設される。
次に、地盤改良体40に関するpHの測定試験の実験結果について説明する。ここで、「pHの測定試験」とは、所定期間経過後の地盤改良体40及びその周辺領域のpHを測定する試験である。また、以下では、非特許文献(「セメント系固化材による地盤改良マニュアル」、(社)セメント協会、p.58)に示す2つの実験(以下では、「実験A」、「実験B」と称する)の実験結果について説明する。
このように本実施の形態によれば、形成工程において、基準適合区画10と基準不適合区画20との境界に、健全土を埋設することにより汚染拡散防止領域30を形成し、埋設構造物埋設工程において、地盤改良体40e〜40gの少なくとも一部が汚染拡散防止領域30に配置されるように、当該地盤改良体40e〜40gを埋設するので、基準適合区画10から基準不適合区画20までを横断するように地盤改良体40e〜40gを埋設する場合でも、基準不適合区画20の汚染された土壌が基準適合区画10へ拡散することを防止できる。特に、汚染拡散防止領域30が形成された直後でも地盤改良体40e〜40gを埋設できることから、従来方法に比べて施工時間を短縮することが可能となる。
以上、本発明に係る実施の形態について説明したが、本発明の具体的な構成及び手段は、特許請求の範囲に記載した各発明の技術的思想の範囲内において、任意に改変及び改良することができる。以下、このような変形例について説明する。
まず、発明が解決しようとする課題や発明の効果は、上述の内容に限定されるものではなく、発明の実施環境や構成の細部に応じて異なる可能性があり、上述した課題の一部のみを解決したり、上述した効果の一部のみを奏することがある。例えば、埋設構造物埋設工程において、埋設構造物の少なくとも一部が汚染拡散防止領域30に配置されるように、当該埋設構造物を埋設することを従来より正確に実施できない場合であっても、当該埋設構造物の埋設を従来とは異なる技術により従来と同様に達成できている場合には、本願発明の課題が解決されている。
上記実施の形態では、汚染拡散防止領域30の平面形状については、略円形状に形成されていると説明したが、これに限られず、例えば、略三角形状、略四角形状、略五角形状等の方形状にて形成されてもよい。また、汚染拡散防止領域30が上記境界よりも基準不適合区画20側の周辺領域であって、当該汚染拡散防止領域30の一部が上記境界に隣接する周辺領域に形成されている場合には、略方形状や略半円状にて形成されてもよい。この場合において、区画壁50の平面形状については、汚染拡散防止領域30の平面形状に応じた形状にて形成され、例えば、汚染拡散防止領域30の平面形状が略四角形状の場合には、略四角形環状にて形成される。
上記実施の形態では、区画壁50は、略円管状のケーシングであると説明したが、これに限られず、例えば、複数の鋼矢板を隙間なく並設することにより形成された土留め壁等であってもよい。この場合において、区画壁50の埋設方法については任意であるが、例えば、区画壁50がセットされた公知の杭打ち機が形成予定領域31近傍に据え付けた後、この公知の杭打ち機によって、区画壁50を形成予定領域31の外縁に打ち込むことにより埋設する方法等が採用されてもよい。
上記実施の形態では、埋設構造物として埋設する地盤改良体40の個数が複数であると説明したが(具体的には、地盤改良体40e〜40gが該当する)、これに限られず、埋設構造物として埋設する地盤改良体40の個数が単数であってもよい。
上記実施の形態では、区画壁埋設工程と、除去工程と、形成工程と、撤去工程と、地盤改良体埋設工程とが順次行われると説明したが、これに限られない。例えば、施工対象領域1に基準適合区画10と基準不適合区画20との境界が複数存在する場合には、当該複数の境界において区画壁埋設工程と、除去工程と、形成工程と、撤去工程とが行われることで、当該複数の境界のすべてに汚染拡散防止領域30が先行して形成された後に、当該複数の境界において地盤改良体埋設工程が行われることで、地盤改良体40が埋設されてもよい。
上記実施の形態では、形成工程及び撤去工程が交互に行われると説明したが、これに限られない。例えば、区画壁50の埋設深さが比較的浅い場合には、形成工程が行われた後、撤去工程が行われてもよい。
上記実施の形態では、地盤改良体埋設工程において、少なくとも一部が汚染拡散防止領域30と重複する位置に埋設される地盤改良体40e〜40g(埋設構造物)が、基準適合区画10から基準不適合区画20に向けて順次埋設されると説明したが、これに限られない。例えば、地盤改良体40fが埋設された後に、地盤改良体40e、40gが埋設されてもよい。この場合には、1本の攪拌軸下杭60が装着された上記公知の地盤改良処理機器によって、地盤改良体40e〜40gが1体ずつ埋設される。このように、状況に応じて地盤改良体40e〜40gの埋設順序を変更することができるので、従来方法に比べて施工の自由度を向上させることが可能であると言える。
2 地下水が浸透しにくい地層
10 基準適合区画
20 基準不適合区画
30 汚染拡散防止領域
31 形成予定領域
40、40a〜40l 地盤改良体
50 区画壁
60 攪拌軸下杭
Claims (5)
- 土壌が汚染されていない領域である非汚染領域と土壌が汚染されている領域である汚染領域とを含む施工対象領域において、前記非汚染領域から前記汚染領域までを横断するように埋設される埋設構造物を施工する方法であって、
前記汚染領域と前記非汚染領域との境界に形成される汚染拡散防止領域であって、前記汚染領域の土壌が前記非汚染領域に拡散することを防止するための汚染拡散防止領域の形成が予定されている形成予定領域の外縁に、当該形成予定領域を外部から区画するための区画壁を埋設する区画壁埋設工程と、
前記区画壁埋設工程において前記区画壁が埋設された前記形成予定領域の土壌を取り除く除去工程と、
前記除去工程において土壌が取り除かれた前記形成予定領域に健全土を埋設することにより、前記汚染拡散防止領域を形成する形成工程と、
前記形成工程において形成された前記汚染拡散防止領域の外縁に埋設された前記区画壁を撤去する撤去工程と、
前記埋設構造物の少なくとも一部が前記汚染拡散防止領域に配置されるように、当該埋設構造物を埋設する埋設構造物埋設工程と、
を含む埋設構造物の施工方法。 - 前記非汚染領域から前記汚染領域に向かう方向に略沿って並設される複数の地盤改良体であって、当該複数の地盤改良体の各々の一部が隣接する他の地盤改良体の一部と相互に重複するように配置される複数の地盤改良体を埋設する地盤改良体埋設工程を含み、
前記地盤改良体埋設工程の一部を前記埋設構造物埋設工程として行うことにより、前記複数の地盤改良体の一部を前記埋設構造物として埋設する、
請求項1に記載の埋設構造物の施工方法。 - 前記埋設構造物として埋設する前記地盤改良体は、前記汚染領域に至らない領域に配置される地盤改良体と、当該地盤改良体に隣接する地盤改良体であって前記汚染領域に至る領域に配置される地盤改良体とを含み、
前記撤去工程において前記区画壁を撤去した後、前記埋設構造物埋設工程において、前記汚染領域に至らない領域に配置される前記地盤改良体を埋設した後に、前記汚染領域に至る領域に配置される前記地盤改良体を埋設する、
請求項2に記載の埋設構造物の施工方法。 - 前記地盤改良体埋設工程においては、
前記複数の地盤改良体を、前記非汚染領域から前記汚染領域に向けて順次埋設する、
請求項2又は3に記載の埋設構造物の施工方法。 - 前記形成工程においては、
前記形成予定領域の地表面が前記非汚染領域及び前記汚染領域の地表面と略面一になるまで前記健全土を埋設するのに必要な土量から、前記埋設構造物埋設工程において前記埋設構造物が埋設される際に排出される土の土量を減算した量の前記健全土を、前記形成予定領域に埋設する、
請求項1から4のいずれか一項に記載の埋設構造物の施工方法。
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- 2013-11-21 JP JP2013241372A patent/JP6245741B2/ja active Active
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