JP2015101769A - 蒸着装置、成膜方法及び有機el装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
2 真空室および排気部系統
3 ガス混合部
4 蒸発装置
5 加熱キャリアーガス流送部
6 キャリアーガス導入部
7、8 薄膜形成用材料蒸発系統
9 基材
100 有機EL装置
110 ガラス基板
120 透明電極層
130 機能層
140 裏面電極層
150 封止部
21 真空室
22 真空排気ポンプ
201 排気バルブ
211 基材保持機構
212 蒸着ヘッド
213 ゲートバルブ
214 薄膜形成用材料回収機構
215 冷媒流通部
311 ガスミキサー
400、401 薄膜形成用材料
411、412、413 蒸発室
421、422、423 薄膜形成用材料タンク
431、432、433、434、435、436 マスフローコントローラー
441、442、443 熱交換器
611 マスフローメーター
Claims (10)
- 基材を設置可能な真空室を有し、該真空室内に基材を設置し、蒸発装置で蒸気として発せられた薄膜形成用材料を基材上に着膜させる蒸着装置であって、
該蒸発装置が、蒸発室、薄膜形成用材料供給部、キャリアーガス供給部、及び蒸気含有ガス排出部を備え、該薄膜形成用材料供給部から該蒸発室に粉体として供給された該薄膜形成用材料、及び該キャリアーガス供給部から該蒸発室に供給されたキャリアーガスから、該蒸発室にて該蒸気を含む蒸気含有ガスを生成可能に、かつ、該蒸気含有ガスを該蒸発室から該真空室に該蒸気含有ガス排出部を介して供給可能に構成されてなり、さらに、前記粉体を、それを構成する粒子の個数平均質量に応じて振動させることが可能な振動機構を有することを特徴とする蒸着装置。 - 前記振動機構が、前記蒸発室内に滞留した複数の前記粒子の集合で形成される粉体の表面を平坦化可能である請求項1に記載の蒸着装置。
- 前記薄膜形成用材料供給部が、前記蒸発室に供給する前記薄膜形成用材料の供給速度を一定に保つ手段を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の蒸着装置。
- 前記薄膜形成用材料供給部から供給される前記薄膜形成用材料、及び前記キャリアーガス供給部から供給される前記キャリアーガスが混合された材料キャリアーガスエアロゾルが、前記蒸発室に供給可能に構成されてなる請求項1〜3のいずれかに記載の蒸着装置。
- さらに、前記キャリアーガス供給部から供給される前記キャリアーガスの一部が、直接前記蒸発室に供給可能に構成されてなる請求項4に記載の蒸着装置。
- 前記蒸発室の天板の開口部を介して、前記薄膜形成用材料、及び前記キャリアーガスが前記蒸発室に供給され、前記蒸気含有ガスが前記真空室に供給されるように構成されてなる請求項1〜5のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記蒸発室の底面と、それ以外の部分とが異なる温度に維持可能となるように構成されてなる請求項1〜6のいずれかに記載の蒸着装置。
- 1つの前記蒸発装置が、複数の薄膜形成用材料供給部を備える、請求項1〜7のいずれかに記載の蒸着装置。
- 請求項1〜8のいずれかの蒸着装置を用いた製膜方法であって、該蒸発室内部の圧力を1000Pa〜50000Paの間に制御して製膜することを特徴とする成膜方法。
- 基材上に少なくとも第1電極層と、複数の有機化合物の薄膜からなり発光層を含む機能層と、第2電極層を順次積層して有機EL装置を製造する方法であって、該有機化合物の薄膜の少なくとも1つを請求項9に記載の成膜方法により成膜する工程を含む、有機EL装置の製造方法。
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- 2013-11-26 JP JP2013243884A patent/JP6282852B2/ja active Active
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