JP2015076521A

JP2015076521A - 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

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Publication number: JP2015076521A
Application number: JP2013212021A
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Inventors: 真路佐藤; Masamichi Sato
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Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2013-10-09
Filing date: 2013-10-09
Publication date: 2015-04-20
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Abstract

【課題】露光不良の発生を抑制することが可能な露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置は、液浸部材４Ａと、可動部材４２Ａを移動させる移動装置４５１とを備え、移動装置４５１は、第１物体５１が可動部材４２Ａの少なくとも一部の下方で光軸ＡＸに垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する第１期間の少なくとも一部において、光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って可動部材４２Ａを移動させる。
【選択図】図２

Description

本発明は、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法の技術分野に関する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置として、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して投影される露光光を用いて基板を露光する液浸露光装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

米国特許第７，８６４，２９２号

液浸露光装置では、例えば液体が所定の空間から流出したり基板等の物体の上に残留したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明は、露光不良の発生を抑制することが可能な露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法を提供することを課題とする。

第１の態様の露光装置は、光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、前記可動部材を移動させる移動装置とを備え、前記可動部材の少なくとも一部は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体の少なくとも一部に対向し、前記移動装置は、前記第１物体が前記可動部材の少なくとも一部の下方で前記光学部材の光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する第１期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させる。

第２の態様の露光装置は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、前記可動部材を移動させる移動装置とを備え、前記可動部材は第１液体回収口を備え、前記第１液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる。

第３の態様の露光装置は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、前記可動部材を移動させる移動装置とを備え、前記可動部材は第１液体回収口を備え、前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する。

第４の態様の露光装置は、光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、前記可動部材を移動させる移動装置とを備え、前記移動装置は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第４期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整する。

第５の態様の露光装置は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、前記可動部材を移動させる移動装置とを備え、前記移動装置は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する期間の少なくとも一部において、前記所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する前と比較して、前記可動部材の前記第１物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材を移動させる。

第６の態様の露光装置は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、前記可動部材を移動させる移動装置とを備え、前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向と同一の又は異なる若しくは逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材を移動させる。

第１の態様の露光方法は、光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、前記可動部材を移動させることとを備え、前記可動部材の少なくとも一部は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体の少なくとも一部に対向し、前記可動部材を移動させることは、前記第１物体が前記可動部材の少なくとも一部の下方で前記光学部材の光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する第１期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させる。

第２の態様の露光方法は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、前記可動部材を移動させることとを備え、前記可動部材は第１液体回収口を備え、前記露光方法は、前記第１液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する。

第３の態様の露光方法は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、前記可動部材を移動させることとを備え、前記可動部材は第１液体回収口を備え、前記露光方法は、前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する。

第４の態様の露光方法は、光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、前記可動部材を移動させることとを備え、前記可動部材を移動させることは、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第４期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整する。

第５の態様の露光方法は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、前記可動部材を移動させることとを備え、前記可動部材を移動させることは、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する期間の少なくとも一部において、前記所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する前と比較して、前記可動部材の前記第１物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材を移動させる。

第６の態様の露光方法は、液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、前記可動部材を移動させることとを備え、前記可動部材を移動させることは、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向と同一の又は異なる若しくは逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材を移動させる。

第１の態様のデバイス製造方法は、上述した第１の態様の露光装置から第６の態様の露光装置のいずれかを用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することとを備える。

第２の態様のデバイス製造方法は、上述した第１の態様の露光方法から第６の態様の露光方法のいずれかを用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することとを備える。

第１実施形態の露光装置の構成の一例を示す概略構成図である。第１実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。第１実施形態の液浸部材を下側（−Ｚ軸方向側）から観察した平面図と第１実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）とを関連付けて示す説明図である。液浸部材を下側（−Ｚ軸方向側）から観察した平面図上で、第２部材が＋Ｙ軸方向に向かって移動する場合の界面の状態を示す説明図である。第２部材の移動動作の第１の具体例を示す断面図である。第２部材の移動動作の第２の具体例を示す断面図である。基板ステージに保持されている基板の一例を示す平面図である。投影領域の移動軌跡及び第２部材の移動軌跡の一具体例を示す平面図である。図８に示す態様で基板及び第２部材が移動した場合の第２部材の移動動作を示す平面図である。図８に示す態様で基板及び第２部材が移動した場合の第２部材の移動動作を示す平面図である。図８に示す態様で基板及び第２部材が移動した場合の第２部材の移動動作を示す平面図である。図８に示す態様で基板及び第２部材が移動した場合の基板及び第２部材の夫々の移動速度を示すグラフである。スキャン移動期間中に第２部材がＹ軸方向に沿って移動し始めるタイミングを、液浸空間の界面と流体回収口に配置される多孔部材との位置関係に基づいて説明する平面図である。基板ステージ及び計測ステージの上面を示す平面図である。所定部と後方界面との位置関係を示す平面図である。所定部に起因した残水の一例を示す平面図である。第１のタイミングと第２のタイミングとの一致を回避する第２部材の移動動作の一例を、液浸空間の界面と共に示す平面図である。第２実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。第３実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。第４実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。第５実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。第６実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。基板ステージの一例を示す平面図である。デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。

以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、露光装置を構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々が水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、夫々、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。
（１）第１実施形態
はじめに、図１から図１７を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１について説明する。
（１−１）第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成
まず、図１を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成の一例について説明する。図１は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成の一例を示す構成図である。

図１に示すように、露光装置ＥＸ１は、マスクステージ１と、照明系２と、投影光学系３と、液浸部材４Ａと、基板ステージ５と、計測ステージ６と、計測システム７と、チャンバ装置８と、制御装置９とを備えている。

マスクステージ１は、マスク１１を保持可能である。マスクステージ１は、保持したマスク１１をリリース可能である。

マスク１１は、基板ステージ５が保持する基板５１に投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスク１１は、例えば、ガラス板等の透明板と、当該透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたデバイスパターンとを含む透過型マスクであってもよい。但し、マスク１１は、いわゆる反射型マスクであってもよい。

マスクステージ１は、マスク１１を保持した状態で、照明系２から射出される露光光ＥＬが照射される領域（つまり、後述の照明領域ＩＲ）を含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。

例えば、マスクステージ１は、平面モータを含む駆動システム１２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム１２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。但し、駆動システム１２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、マスクステージ１は、駆動システム１２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「マスクステージ１の所定方向に沿った移動」は、「マスクステージ１の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿ったマスクステージ１の移動」の両方又は一方を含む。

照明系２は、露光光ＥＬを射出する。照明系２からの露光光ＥＬは照明領域ＩＲに照射される。照明系２からの露光光ＥＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスク１１の一部に照射される。

露光光ＥＬは、例えば、水銀ランプから射出される輝線（例えば、ｇ線、ｈ線若しくはｉ線等）又はＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光：ＤｅｅｐＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ光）であってもよい。露光光ＥＬは、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）又はＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光：ＶａｃｕｕｍＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ光）であってもよい。

投影光学系３は、マスク１１からの露光光ＥＬ（つまり、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像）を、基板５１に対して投影する。具体的には、投影光学系３は、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを投影する。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、投影領域ＰＲに配置された基板５１の一部（例えば、後述するショット領域Ｓの少なくとも一部）に投影する。

第１実施形態では、投影光学系３は、縮小系である。例えば、投影光学系の投影倍率は、１／４であってもよいし、１／５であってもよいし、１／８であってもよいし、又は、その他の値であってもよい。但し、投影光学系３は、等倍系又は拡大系であってもよい。

投影光学系３は、反射光学素子を含まない屈折系であってもよい。投影光学系３は、屈折光学素子を含まない反射系であってもよい。投影光学系３は、反射光学素子及び屈折光学素子の双方を含む反射屈折系であってもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、倒立像として投影してもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、正立像として投影してもよい。

投影光学系３は、露光光ＥＬが射出される射出面３２を含む終端光学素子３１を備えている。射出面３２は、投影光学系３の像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子３１は、投影光学系３が含む複数の光学素子のうち、投影光学系３の像面に最も近い光学素子である。

終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸に平行である。この場合、終端光学素子３１の光軸ＡＸに平行な方向に着目すると、投影光学素子３１の入射面から射出面３２に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、射出面３２から終端光学素子３１の入射面に向かう方向が＋Ｚ軸方向である。但し、終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸に平行でなくてもよい。

尚、投影光学系３の光軸の少なくとも一部は、終端光学素子３１の光軸ＡＸと一致しており且つＺ軸に平行であってもよい。この場合、Ｚ軸方向に着目すると、投影光学系３から当該投影光学系３の像面に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、投影光学系３から当該投影光学系３の物体面に向かう方向が、＋Ｚ軸方向である。

また、上述した投影領域ＰＲの中心は、光軸ＡＸと一致していてもよいし、一致していなくてもよい。また、投影領域ＰＲは、光軸ＡＸ上に位置していなくともよい。

射出面３２は、−Ｚ軸方向を向いている。従って、射出面３２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ軸方向に向かって進行する。射出面３２は、ＸＹ平面（つまり、水平面）に平行な平面である。但し、射出面３２の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。射出面３２の少なくとも一部は、曲面（例えば、凹面又は凸面）であってもよい。

終端光学素子３１は、−Ｚ軸方向を向いている射出面３２に加えて、当該射出面３２の周囲に配置されている外面３３を含んでいる。露光光ＥＬは、射出面３２から射出される一方で、外面３３からは射出されなくてもよい。外面３３は、＋Ｚ軸方向側に向かうにつれて徐々に光軸ＡＸから遠ざかる形状（つまり、光軸ＡＸに対して傾斜する形状）を有している。但し、外面３３の少なくとも一部は、その他の形状を有していてもよい。

投影光学系３は、基準フレーム３７によって支持されている。基準フレーム３７は、当該基準フレーム３７の下側（つまり、−Ｚ軸方向側）に配置されている装置フレーム３８に支持されている。基準フレーム３７と装置フレーム３８との間には、防振装置３９が配置されている。防振装置３９は、装置フレーム３８から基準フレーム３７への振動の伝達を抑制する。防振装置３９は、例えば、バネ装置を含んでいてもよい。バネ装置の一例として、金属又はゴム等の弾性部材を含むバネ、又は、空気等の気体を含むバネ（いわゆる、エアマウント）が例示される。

液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、例えば純水である液体ＬＱで満たされた空間（言い換えれば、部分又は領域）を意味する。尚、液浸部材４Ａの詳細な構成については、図２から図３等を参照しながら後に詳述する。

基板ステージ５は、基板５１をリリース可能に保持する保持部と、保持部の周囲に配置された上面５２とを備えている。上面５２は、基板５１の上面と平行な平面である。上面５２は、基板５１の上面と同一平面内に配置されている。但し、上面５２の少なくとも一部は、基板５１の上面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでいてもよい。上面５２の少なくとも一部は、基板５１の上面と同一平面内に配置されていなくてもよい。尚、基板ステージ５の一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号及び米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号に開示されている。

基板ステージ５は、基板５１を保持した状態で、投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。基板ステージ５は、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。尚、ガイド面８１１と投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）とは、実質的に平行であってもよい。

例えば、基板ステージ５は、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム８２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。駆動システム８２が含む平面モータは、基板ステージ５に配置された可動子８２５と、ベース部材８１に配置された固定子８２８とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、基板ステージ５は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「基板ステージ５の所定方向に沿った移動」は、「基板ステージ５の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った基板ステージ５の移動」の両方又は一方を含む。

基板５１は、デバイスを製造するための基板である。基板５１は、例えば半導体ウェハ等の基材と、当該基材上に形成された感光膜とを含んでいる。感光膜は、例えば、感光材（例えば、フォトレジスト）の膜である。尚、基板５１は、感光膜に加えて、他の膜（例えば、基板５１の表面での露光光ＥＬの意図せぬ反射を防止する反射防止膜及び基板５１の表面を保護する保護膜の両方又は一方等）を含んでいてもよい。

計測ステージ６は、基板５１を保持しない一方で、露光光ＥＬを計測する計測部材（言い換えれば、計測器）６１を保持可能である。つまり、第１実施形態の露光装置ＥＸ１は、基板ステージ５と計測ステージ６とを備える露光装置である。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，８９７，９６３号及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号に開示されている。

計測ステージ６は、計測部材６１を保持した状態で、投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。

例えば、計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。駆動システム８２が含む平面モータは、計測ステージ６に配置された可動子８２６と、ベース部材８１に配置された固定子８２８とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、計測ステージ６は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「計測ステージ６の所定方向に沿った移動」は、「計測ステージ６の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った計測ステージ６の移動」の両方又は一方を含む。

計測システム７は、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測する。基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するために、計測システム７は、干渉計システムを含んでいてもよい。干渉計システムは、基板ステージ５に配置されている計測ミラー及び計測ステージ６に配置されている計測ミラーの夫々に計測光を照射すると共に、当該計測光の反射光を検出することで基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測してもよい。但し、計測システム７は、干渉計システムに加えて又は代えて、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するエンコーダシステムを含んでいてもよい。尚、エンコーダシステムの一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されている。

チャンバ装置８は、空間ＣＳの環境（例えば、温度、湿度、圧力及びクリーン度のうちの少なくとも一つ）を調整する。空間ＣＳには、少なくとも、終端光学素子３１、液浸部材４、基板ステージ５及び計測ステージ６が配置されている。但し、マスクステージ１及び照明系２のうちの少なくとも一部が空間ＣＳに配置されていてもよい。

制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御する。制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御するコントローラー９１と、コントローラー９１に接続され且つ露光装置ＥＸ１の動作に用いられる各種情報を記憶するメモリ９２とを含んでいる。

コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する際には、計測システム７の計測結果に基づいて、基板ステージ５の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、基板ステージ５を移動させるように、駆動システム８２を制御する。コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する際に、マスクステージ１の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、マスクステージ１を移動させるように、駆動システム１２を制御する。コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が計測ステージ６を用いて露光光ＥＬを計測する際には、計測システム７の計測結果に基づいて、計測ステージ６の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、計測ステージ６を移動させるように、駆動システム８２を制御する。

コントローラー９１は、後に詳述するように、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材（例えば、図２を参照しながら詳述する第２部材４２）の位置を制御する。尚、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材の移動態様については、図５及び図６を参照しながら後に詳述する。
（１−２）第１実施形態の液浸部材４Ａ
続いて、図２から図４を参照して、第１実施形態の液浸部材４Ａについて説明する。
（１−２−１）第１実施形態の液浸部材４Ａの構成
はじめに、図２から図３を参照して、第１実施形態の液浸部材４Ａの構成について説明する。図２は、第１実施形態の液浸部材４Ａの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。図３は、第１実施形態の液浸部材４Ａを下側（−Ｚ軸方向側）から観察した平面図と第１実施形態の液浸部材４Ａの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）とを関連付けて示す説明図である。

以下の説明では、特段の説明がない場合には、“上側（上方側）”は、＋Ｚ軸方向側を意味するものとする。“下側（下方側）”は、−Ｚ軸方向側を意味するものとする。“内側”とは、光軸ＡＸの放射方向における内側であって、光軸ＡＸに近づく側を意味するものとする。“外側”とは、光軸ＡＸの放射方向における外側であって、光軸ＡＸから遠ざかる側を意味するものとする。

図２に示すように、液浸部材４Ａは、射出面３２及び液浸部材４Ａの下側で移動可能な物体の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。従って、物体は、液浸空間ＬＳに面しつつ、射出面３２及び液浸部材４Ａの両方と対向可能である。

物体は、基板ステージ５であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、基板ステージ５の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。物体は、基板ステージ５が保持する基板５１であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、基板５１の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。物体は、計測ステージ６又は計測ステージ６が保持する計測部材６１であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、計測ステージ６の少なくとも一部の上又は計測部材６１の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。

液浸部材４Ａは、２つの異なる物体に跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４Ａは、上面５２と基板５１とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４Ａは、基板ステージ５と計測ステージ６とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。

尚、以下の説明では、説明の簡略化の観点から、物体が基板５１であるものとして説明を進める。

液浸部材４Ａは、露光光ＥＬの光路ＡＴが液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。例えば、液浸部材４Ａは、光路ＡＴのうち射出面３２と基板５１との間の光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成してもよい。液浸部材４Ａは、投影領域ＰＲを含む基板５１の上面の少なくとも一部の領域が液体ＬＱで覆われるように、液浸空間ＬＳを形成してもよい。射出面３２からの露光光ＥＬは、液体ＬＱを介して基板５１に投影される。つまり、第１実施形態の露光装置ＥＸ１は、液体ＬＱを介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する液浸露光装置である。

液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳの一部を、終端光学素子３１と基板５１との間の空間に形成する。液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳの少なくとも一部を、液浸部材４Ａと基板５１との間の空間に形成する。

このような液浸空間ＬＳを形成するために、図２及び図３に示すように、液浸部材４Ａは、第１部材４１Ａと、第２部材４２Ａとを備えている。以下、第１部材４１Ａ及び第２部材４２Ａについて、順に説明する。

はじめに、第１部材４１Ａについて説明する。

第１部材４１Ａは、光路ＡＴの周囲に配置されている。第１部材４１Ａは、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状を有している。ここで言う「光路ＡＴ」は、上述した光路ＡＴＬ及び終端光学素子３１内の露光光ＥＬの光路ＡＴＯの両方又は一方を含んでいてもよい。図３に示す例では、第１部材４１Ａは、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状の一例である環状又は閉ループ状の形状を有している。光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状の他の一例として、例えば、枠状の形状（例えば、非円形若しくは多角形又は楕円等の枠を形成する形状）が例示される。

第１部材４１Ａは、第１部材４１Ａと終端光学素子３１との間に間隙（具体的には、空間ＳＰ２）が形成されるように配置されている。第１部材４１Ａは、終端光学素子３１と接触しないように配置されている。

第１部材４１Ａは、終端光学素子３１の周囲に配置されている。第１部材４１は、終端光学素子３１を取り囲むことが可能な形状を有している。この場合、第１部材４１Ａは、終端光学素子３１を保護する保護部材として機能してもよい。例えば、第１部材４１Ａは、第２部材４２Ａと終端光学素子３１との接触を防止する保護部材として機能してもよい。

第１部材４１Ａの一部（例えば、後述する上面４１４の一部及び内側面４１５）は、射出面３２の下側に配置されている。但し、第１部材４１Ａは、射出面３２の下側に配置されていなくてもよい。第１部材４１Ａの一部（例えば、後述する下面４１３の一部）は、基板５１の一部に対向している。

第１部材４１Ａは、第２部材４２Ａよりも基板５１から離れた位置に配置されている。このため、第１部材４１Ａの一部は、第２部材４２Ａの上側に配置されている。つまり、第１部材４１Ａの一部と基板５１との間には、第２部材４２Ａの少なくとも一部が配置されている。

第１部材４１Ａは、実質的に移動しない。つまり、第１部材４１Ａは、実質的に固定されている。例えば、第１部材４１Ａは、不図示の支持部材を介して装置フレーム３８に固定されていてもよい。尚、投影光学系３及び終端光学素子３１の両方又は一方もまた、実質的に移動しない（つまり、実質的に固定されている）。

第１部材４１は、内側面４１１と、外側面４１２と、下面４１３と、上面４１４と、内側面４１５とを備えている。

また、第１部材４１Ａは、射出面３２からの露光光ＥＬが通過可能な開口４１６を備える。開口４１６は、内側面４１５の下側端部で規定される。開口４１６（内側面４１５の下側端部）の周囲には、下面４１３が配置されている。内側面４１５の下側端部は、下面４１３の内側端部と一致している。開口４１６の中心は、光軸ＡＸに一致している。ＸＹ平面に沿った開口４１６の径及び面積は、射出面３２の径及び面積よりも小さい。ＸＹ平面上における開口４１６の形状は、例えば矩形の形状である（図３参照）。

内側面４１５は、内側を向いている平面である。内側面４１５は、光軸ＡＸに平行である。内側面４１５は、光路ＡＴの外側に配置されている。内側面４１５の上側端部の周囲に上面４１４が配置されている。内側面４１５の上側端部は、上面４１４の内側端部と一致している。内側面４１５は、上面４１４の内側端部と下面４１３の内側端部とを繋ぐ（言い換えれば、連結する又は結ぶ）。

上面４１４は、上側を向いている平面である。上面４１４は、ＸＹ平面に平行である。上面４１４は、下面４１３に平行である。上面４１４は、下面４１３よりも上側に配置されている。上面４１４は、射出面３２よりも下側に配置されている。上面４１４の一部は、射出面３２に対向する。

内側面４１１は、内側を向いている平面である。内側面４１１は、上面４１４の外側端部から上側に向かって延びる。内側面４１１の下側端部は、上面４１４の外側端部と一致している。内側面４１１の一部は、空間ＳＰ２を介して外面３３に対向する。内側面４１２１の一部は、外面３３に平行である。内側面４１２１の一部は、ＸＹ平面に対して傾斜している。内側面４１１の一部は、ＸＹ平面に平行である。内側面４１１は、上面４１４の外側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる第１面と、当該第１面の上側端部から外側に向かってＸＹ平面に平行に延びる第２面と、当該第２面の外側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる第３面とを含む。

下面４１３は、下側を向いている平面である。下面４１３は、ＸＹ平面に平行である。下面４１３は、内側面４１１、外側面４１２、上面４１４及び内側面４１５よりも下側に配置されている。下面４１３の一部は、間隙（具体的には、空間ＳＰ１）を介して基板５１と対向する。下面４１３の一部は、間隙（具体的には、空間ＳＰ３）を介して第２部材４２Ａと対向している。下面４１３は、射出面３２よりも下側に配置されている。下面４１３は、液体ＬＱに対して親液性を有している。例えば、液浸空間ＬＳに面する可能性がある下面４１３の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

外側面４１２は、外側を向いている平面である。外側面４１２は、光軸ＡＸに平行（つまり、ＸＹ平面に垂直）である。外側面４１２は、内側面４１１、下面４１３、上面４１４及び内側面４１５よりも外側に配置されている。外側面４１２は、下面４１３の外側端部から上側に向かって延びる。従って、外側面４１２の下側端部は、下面４１３の外側端部と一致している。

続いて、第２部材４２Ａについて説明する。

第２部材４２Ａは、光路ＡＴの周囲に配置されている。第２部材４２Ａは、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状を有している。図３に示す例では、第２部材４２Ａは、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状の一例である環状又は閉ループ状の形状を有している。

第２部材４２Ａは、第１部材４１Ａよりも基板５１に近い位置に配置されている。言い換えれば、第２部材４２Ａの少なくとも一部は、第１部材４１Ａの下側に配置されている。第２部材４２Ａの一部（例えば、後述する下面４２２）は、基板５１に対向する。第２部材４２Ａは、射出面３２の下側には配置されていない。第２部材４２Ａは、第１部材４１Ａと接触しないように配置されている。つまり、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａと第１部材４１Ａとの間に間隙が形成されるように配置されている。

第２部材４２Ａは、可動部材である。例えば、第２部材４２Ａは、コントローラー９１によって制御される駆動装置４５１の動作によって移動可能であってもよい。駆動装置４５１は、支持部材４５３を介して装置フレーム３８に固定されていてもよい。但し、支持部材４５３が設けられていなくてもよい。駆動装置４５１は、例えばモータ等を含んでいてもよい。例えば、駆動装置４５１の可動子（不図示）を支持部材４５２に接続し、固定子を装置フレーム３８に接続してもよい。駆動装置４５１による第２部材４２Ａの移動に伴って発生する反力の少なくとも一部は、装置フレーム３８に伝達させてもよい。第２部材４２Ａの移動に伴う反力により装置フレーム３８が振動しても、防振装置３９により、投影光学系３は、その影響を実質的に受けない。尚、駆動装置４５１が、第２部材４２Ａの移動に伴う反力の少なくとも一部をキャンセルする機構を有していてもよい。例えば、基板ステージ５の駆動システム８２などに搭載されているカウンターマス方式の反力キャンセル機構と同様の機構を駆動装置４５１に適用することができる。

駆動装置４５１は、一端が第２部材４２Ａに連結され且つ他端が駆動装置４５１に連結されている支持部材４５２を移動させ、支持部材４５２の移動に伴って、支持部材４５２に連結されている第２部材４２Ａが移動してもよい。

第２部材４２Ａは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って移動する。つまり、第２部材４２Ａは、光軸ＡＸに垂直な方向（つまり、ＸＹ平面内の任意の方向）に沿って移動する。尚、「第２部材４２Ａの所定方向に沿った移動」は、「第２部材４２Ａの所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った第２部材４２Ａの移動」の両方又は一方を含む。

第２部材４２Ａは、光路ＡＴの外側で移動可能である。第２部材４２Ａが移動した場合であっても第２部材４２Ａが光路ＡＴの外側に位置するような第２部材４２Ａの移動可能範囲が設定されてもよい。

第２部材４２Ａは、実質的に固定されている終端光学素子３１に対して移動可能であってもよい。第２部材４２Ａの移動に伴い、終端光学素子３１と第２部材４２Ａとの間の相対位置が変化する。

第２部材４２Ａは、第１部材４１Ａに対して、相対的に移動する。第２部材４２Ａの移動に伴い、第１部材４１Ａと第２部材４２Ａとの間の相対位置が変化する。

第２部材４２Ａの一部は、第１部材４１の下側において移動可能である。第２部材４２Ａは、基板５１の上側において移動可能である。

第２部材４２Ａは、液浸空間ＬＳが形成されている状態で移動してもよい。例えば、第２部材４２Ａは、射出面３２と基板５１との間が液体ＬＱで満たされている状態で移動してもよい。但し、第２部材４２Ａは、液浸空間ＬＳが形成されていない状態で移動してもよい。

第２部材４２Ａは、上面４２１と、下面４２２と、内側面４２３と、内側面４２４とを備えている。

上面４２１は、上側を向いている平面である。上面４２１は、ＸＹ平面に平行である。上面４２１の一部は、間隙（具体的には、空間ＳＰ３）を介して下面４１３に対向する。上面４２１は、第１部材４１Ａ及び射出面３２の両方又は一方よりも下側に配置されている。上面４２１は、光軸ＡＸに平行な方向に沿って射出面３２に対向していない。尚、上面４２１が射出面３２と対向するように、第２部材４２Ａが移動可能であってよい。

上面４２１の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性を有している。上面４２１が撥液性を有するために、例えば、上面４２１の少なくとも一部は、フッ素を含む樹脂の膜の表面を含んでいてもよい。このような樹脂の一例として、例えば、ＰＦＡ（ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏａｌｋｙｌｖｉｎｙｌｅｔｈｅｒｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）やＰＴＦＥ（ＰｏｌｙＴｅｔｒａＦｌｕｏｒｏＥｔｈｙｌｅｎｅ）があげられる。

下面４２２は、下側を向いている平面である。下面４２２は、ＸＹ平面に平行である。下面４２２は、上面４２１に平行である。下面４２２は、間隙（具体的には、空間ＳＰ１）を介して基板５１と対向する。下面４２２は、上面４２１、内側面４２３及び内側面４２４よりも下側に配置されている。下面４２２は、第１部材４１Ａ及び射出面３２の両方又は一方よりも下側に配置されている。下面４２２の基板５１からの高さは、下面４１３の基板５１からの高さよりも小さい。下面４２２は、液体ＬＱに対して親液性を有している。

内側面４２３は、内側を向いている平面である。内側面４２３は、光軸ＡＸに平行である。内側面４２３は、間隙を介して外側面４１２に対向する。内側面４２３は、上面４２１、下面４２２及び内側面４２４よりも外側に配置されている。内側面４２３は、上面４２１の外側端部から上側に向かって延びる。従って、内側面４２３の下側端部は、上面４２１の外側端部と一致している。

内側面４２４は、内側を向いている平面である。内側面４２４は、光軸ＡＸに平行である。内側面４２４は、上面４２１、下面４２２及び内側面４２３よりも内側に配置されている。内側面４２４は、上面４２１の内側端部から下側に向かって延びる。従って、内側面４２４の上側端部は、上面４２１の内側端部と一致している。内側面４２４は、下面４２２の内側端部から上側に向かって延びる。従って、内側面４２４の下側端部は、下面４２２の内側端部と一致している。

内側面４２４は、内側面４１５よりも外側に配置されている。つまり、内側面４２４は、下面４１３の下側に配置されている一方で、射出面３２の下側には配置されていない。第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても内側面４２４が内側面４１５よりも外側に配置され続けるように移動する。但し、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで移動した場合に内側面４２４の少なくとも一部が内側面４１５よりも外側に配置されない期間が発生するように移動してもよい。即ち、第２部材４２Ａの一部が光路ＡＴ内に位置するように、第２部材４２Ａが移動可能であってもよい。

第２部材４２Ａは、更に、射出面３２からの露光光ＥＬが通過可能な開口４２６を備えている。開口４２６は、内側面４２４の下側端部で規定される。開口４２６の下側端部の周囲には、下面４２２が配置されている。つまり、ＸＹ平面に沿った開口４２６の径及び面積は、開口４１６のそれよりも大きい。ＸＹ平面上における開口４２６の形状は、例えば円形の形状である（図３参照）。開口４２６は、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても開口４１６が開口４２６よりも内側に配置される状態を実現可能なサイズを有している。

液浸部材４Ａは、更に、液体供給口４３１と、流体回収口４４１と、流体回収口４４２とを備えている。以下、液体供給口４３１と、流体回収口４４１と、流体回収口４４２とについて、順に説明する。

まず、液体供給口４３１について説明する。

液体供給口４３１は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを、液浸空間ＬＳに対して供給する。液体供給口４３１は、下面４１３に形成されている液体供給口４３１ａと、内側面４１１に形成された液体供給口４３１ｂを含む。液体供給口４３１ａは、空間ＳＰ１に面するように形成され、液体供給口４３１ｂは、空間ＳＰ２に面するように形成されている。

尚、図２に示すように、第１部材４１Ａの内部に形成された供給流路を途中で分岐して、液体供給口４３１ａと液体供給口４３１ｂとに液体ＬＱを供給している。しかしながら、第１部材４１Ａの内部に形成された供給流路を途中で分岐することなく、液体供給口４３１ａに液体ＬＱを供給する供給流路と、液体供給口４３１ｂに液体ＬＱを供給する供給流路とを別々に第１部材４１Ａの内部に設けてもよい。

液体供給口４３１ａ及び４３１ｂは、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）に断続的に分布するように形成されている。例えば、図３に示すように、液体供給口４３１ａは、下面４１３上で定義される仮想的な円（例えば、光軸ＡＸを中心とする仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。例えば、液体供給口４３１ｂが、ＸＹ平面に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。

液体供給口４３１ａは、開口４２６の中心が光軸ＡＸに一致している状態において、下面４１３に形成された液体供給口４３１ａのすべてが、開口４２６の内側に配置されるように、下面４１３に形成されている。開口４２６の中心が光軸ＡＸに一致している状態において、液体供給口４３１ａは、ＸＹ平面に平行な方向に沿って内側面４２４（開口４２６）に沿う又は隣接するように形成されている。

液体供給口４３１ａ及び４３１ｂからの液体ＬＱの供給は、コントローラー９１の制御の下で行われる。クリーンで温度調整された液体ＬＱが、液体供給口４３１ａ及び４３１ｂから供給される。液体供給口４３１ｂから供給された液体ＬＱは、空間ＳＰ２に供給される。液体供給口４３１ａ及び４３１ｂの供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、空間ＳＰ１に供給される。液体供給口４３１ａ及び４３１ｂ供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫに供給され、光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされる。

液体供給口４３１ａ及び４３１ｂから空間ＳＰ１に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、下面４１３と上面４２１との間の空間ＳＰ３に供給されてもよい。

続いて、流体回収口４４１について説明する。

流体回収口４４１は、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する。流体回収口４４１は、下面４２２の外側に形成されている。流体回収口４４１は、下面４２２の周囲に形成されている。流体回収口４４１は、空間ＳＰ１に面するように形成されている。流体回収口４４１は、空間ＳＰ１を介して基板５１に対向するように形成されている。

流体回収口４４１は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）に連続的に分布するように形成されている。例えば、流体回収口４４１は、下面４２２上で定義される仮想的な円（例えば、開口４２６の中心周りの仮想的な円）に沿って連続的に分布するように形成されていてもよい。

流体回収口４４１には、メッシュプレート等の多孔部材４４１１が配置されている。多孔部材４４１１は、基板５１の上面に対向する下面と、流体回収路に面する上面と、当該上面及び当該下面を結ぶ複数の孔とを含んでいる。液体回収口４４１は、多孔部材４４１１を介して、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する。尚、多孔部材４４１１の複数の孔の一つを流体回収口４４１と称してもよい。

流体回収口４４１からは、コントローラー９１の制御の下で、流体回収口４４１に配置された多孔部材４４１１を介して液体ＬＱが回収される。例えば、コントローラー９１の制御の下で、多孔部材４４１１の上面側の圧力と多孔部材４４１１の下面側の圧力との差が調整されることで、流体回収口４４１から液体ＬＱが回収されてもよい。

続いて、流体回収口４４２について説明する。

流体回収口４４２は、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ３）から液体ＬＱを回収する。流体回収口４４２は、下面４１３の外側に形成されている。流体回収口４４２は、空間ＳＰ３に面するように形成されている。流体回収口４４２は、空間ＳＰ３を介して上面４２１に対向するように形成されている。流体回収口４４２は、液体供給口４３１よりも外側に形成されている。

第２部材４２Ａは、空間ＳＰ３に流体回収口４４２が面し続けるように移動する。第２部材４２Ａは、上面４２１に流体回収口４４２が対向し続けるように移動する。

流体回収口４４２は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲）に連続的に分布するように形成されている。例えば、流体回収口４４２は、下面４１３上で定義される仮想的な円（例えば、光軸ＡＸを中心とする仮想的な円）に沿って連続的に分布するように形成されていてもよい。

流体回収口４４２には、メッシュプレート等の多孔部材４４２１が配置されている。尚、多孔部材４４２１の複数の孔の一つを流体回収口４４２と称してもよい。尚、流体回収口４４２に配置される多孔部材４４２１は、流体回収口４４１に配置される多孔部材４４１１と同様であってもよい。従って、説明の簡略化のために、多孔部材４４２１の詳細な説明を省略する。

流体回収口４４２からは、コントローラー９１の制御の下で、流体回収口４４２に配置された多孔部材４４２１を介して液体ＬＱが回収される。例えば、コントローラー９１の制御の下で、多孔部材４４２１の上面側の圧力と多孔部材４４２１の下面側の圧力との差が調整されることで、流体回収口４４２から液体ＬＱが回収されてもよい。

以上説明した第１実施形態の液浸部材４Ａでは、第２部材４２Ａの移動に伴って、第２部材４２Ａの一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱ内を移動する。その結果、第２部材４２Ａの移動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を引き起こし得る。このような液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、終端光学素子３１の変動を引き起こし得る。しかしながら、第１実施形態では、開口４２６が開口４１６より大きく且つ第２部材４２Ａが終端光学素子３１に対向していないため、第２部材４２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が、終端光学素子３１に伝達されにくくなる。その結果、終端光学素子３１の変動が好適に抑制される。

尚、第１実施形態の液浸部材４Ａでは、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材４２Ａと基板５１との間に形成される。以下、第２部材４２Ａと基板５１との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ１と称する”。

また、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子３１と第１部材４１Ａとの間に形成される。以下、終端光学素子３１と第１部材４１Ａとの間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ２と称する”。

また、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材４１Ａと第２部材４２Ａとの間に形成される。以下、第１部材４１Ａと第２部材４２Ａとの間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ３と称する”。空間ＳＰ３の液体ＬＱは、流体回収口４４２から回収されるため、界面ＬＧ３は、界面ＬＧ３は、液体回収口４４２よりも外側の空間（例えば、外側面４１２と内側面４２３との間の空間）に移動することが抑制される。従って、外側面４１２と内側面４２３との間の空間には、液体ＬＱが殆ど又は全く存在しない。その結果、外側面４１２と内側面４２３との間の空間は、空間ＣＳの一部に相当する気体空間となる。このため、第２部材４２Ａは、相対的に円滑に移動することができる。

第１実施形態では、上述したように、第１部材４１Ａの下面４２２に液体供給口４３１ａが形成されているため、開口４２６の内側の領域への界面ＬＧ１の移動が抑制される。従って、光路ＡＴにおける気体部分の形成が防止され、光路ＡＴを液体ＬＱで満たし続けることができる。

以下、開口４２６の内側の領域への界面ＬＧ１の移動の抑制について、図４を参照しながら説明する。図４は、液浸部材４Ａを下側（−Ｚ軸方向側）から観察した平面図上で、第２部材４２Ａが＋Ｙ軸方向に向かって移動する場合の界面ＬＧ１の状態の一例を示す説明図である。

図４（ａ）に示すように、開口４２６の中心が開口４１６の中心（つまり、光軸ＡＸ）に一致している状態を、液浸部材４Ａの初期状態として例示する。初期状態にある液浸部材４Ａでは、開口４２６と一点鎖線で示す界面ＬＧ１との間の距離が相対的に大きい。

図４（ａ）に示す状態に対して、図４（ｂ）に示す状態では、開口４１６の＋Ｙ軸方向側において、界面ＬＧ１の一部と開口４２６のとの間の距離が相対的に小さくなる（図４（ｂ）中の点線の楕円で囲まれた箇所参照）。仮に、界面ＬＧ１の少なくとも一部が開口４２６の内側に移動してしまうと、空間ＳＰ２及び空間ＳＰ３並びに光路空間ＳＰＫのうちの少なくとも一つに対する気泡の混入が発生するおそれがある。

しかるに、図４（ｂ）に示すように、第１実施形態では、第２部材４２Ａが移動した場合であっても、液体供給口４３１ａは、空間ＳＰ１に対して液体ＬＱを供給することで、界面ＬＧ１の少なくとも一部を外側へと押し広げることができる。その結果、第２部材４２Ａが移動した場合であっても、界面ＬＧ１と開口４２６との間の距離が相対的に大きくなる。または、液体供給口４３１ａが空間ＳＰ１に対して液体ＬＱを供給することで、開口４２６の内側の領域への界面ＬＧ１の移動が抑制される。このため、上述した空間ＳＰ２及び空間ＳＰ３並びに光路空間ＳＰＫのうちの少なくとも一つへの気泡の混入の発生が抑制され、光路ＡＴを液体ＬＱで満たし続けることが可能となる。

尚、開口４２６の内側の領域への界面ＬＧ１の移動の抑制は、液体供給口４３１ａの少なくとも一部が空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する（つまり、空間ＳＰ１に面する）ことによって実現されることは上述したとおりである。このことを考慮すれば、液体供給口４３１ａは、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても液体供給口４３１ａの全てが空間ＳＰ１に面する状態を実現可能な位置に形成されてもよい。例えば、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで、いずれの方向に移動した場合であっても、液体供給口４３１ａの全てが開口４２６の内側に位置するように、内側面４１５（開口４１６）に沿う又は隣接するように下面４１３に液体供給口４３１ａが形成されてもよい。

尚、図２及び図３を用いて説明した液浸部材４Ａは一例である。従って、液浸部材４Ａの構成が図２及び図３を用いた構成に限定されることはない。以下、液浸部材４Ａの一部の構成の改変の例について説明する。

第１部材４１Ａは、光路ＡＴ及び終端光学素子３１の両方又は一方を取り囲むことが可能な形状を有していなくてもよい。例えば、第１部材４１Ａは、光路ＡＴ及び終端光学素子３１の両方又は一方の周囲の一部に配置されている一方で、光路ＡＴ及び終端光学素子３１の両方又は一方の周囲の他の一部に配置されていない形状（例えば、一部が開放された開ループ状の形状）を有していてもよい。

第１部材４１Ａは、上述した支持部材に加えて、当該支持部材と装置フレーム３８との間に配置される防振装置を介して、装置フレーム３８に支持されていてもよい。この場合、防振装置は、上述した防振装置３９と同様に、バネ装置を含んでいてもよい。

第１部材４１Ａの少なくとも一部は、コントローラー９１によって制御される駆動装置（例えば、アクチュエータ）の動作によって移動可能な可動部材であってもよい。駆動装置は、第１部材４１Ａを支持する支持部材を移動させることで、第１部材４１Ａの少なくとも一部を移動させてもよい。駆動装置は、第１部材４１Ａを支持する支持部材と装置フレーム３８との間に配置されていてもよい。また、第１部材４１Ａを支持する支持部材と装置フレーム３８との間に防振装置が配置されると共に、当該防振装置に駆動機構が搭載されてもよい。

内側面４１１の全体が、外面３３に平行な平面であってもよい。内側面４１１の全体が、外面３３に対して傾斜していてもよい。内側面４１１の全体が、ＸＹ平面に傾斜していてもよい。内側面４１１の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

外側面４１２の一部は、内側面４１１、下面４１３、上面４１４及び内側面４１５の少なくとも一つよりも内側に配置されていてもよい。外側面４１２の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対して傾斜していてもよい。外側面４１２の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

下面４１３の一部は、内側面４１１、外側面４１２、上面４１４及び内側面４１５の少なくとも一つよりも上側に配置されていてもよい。下面４１３の少なくとも一部は、射出面３２よりも上側に配置されていてもよい。下面４１３の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。下面４１３の少なくとも一部は曲面であってもよい。下面４１３の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。

上面４１４の一部は、下面４１３よりも下側に配置されていてもよい。上面４１４の一部は、内側面４１１よりも外側に配置されていてもよい。上面４１４の少なくとも一部は、射出面３２よりも上側に配置されていてもよい。上面４１４は、光軸ＡＸに平行な方向に沿って射出面３２に対向していなくてもよい。上面４１４の少なくとも一部は、射出面３２の下側に配置されていなくてもよい。上面４１４の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。上面４１４の少なくとも一部は、下面４１３に対して傾斜していてもよい。上面４１４の少なくとも一部は曲面であってもよい。

内側面４１５の一部は、内側面４１１、外側面４１２、下面４１３及び上面４１４の少なくとも一つよりも外側に配置されていてもよい。内側面４１５の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対して傾斜していてもよい。例えば、内側面４１５は、下面４１３の内側端部から上面４１４の内側端部に向かって、上側に且つ外側に延びる傾斜面であってもよい。内側面４１５の少なくとも一部は曲面であってもよい。

開口４１６の中心は、光軸ＡＸに一致していなくてもよい。ＸＹ平面における開口４１６の径及び面積の少なくとも一方は、射出面３２のそれよりも大きくてもよいし同一であってもよい。

ＸＹ平面上における開口４１６の形状は、矩形の形状とは異なる任意の形状（例えば、多角形、円形、楕円形、又は、露光光ＥＬの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状）であってもよい。ＸＹ平面上における第１部材４１Ａの各面（例えば、内側面４１１、外側面４１２、下面４１３、上面４１４及び内側面４１５）又は当該各面の各端部（例えば、外側端部及び内側端部、並びに、上側端部及び下側端部）の形状もまた、矩形の形状又は矩形の形状とは異なる任意の形状であってもよい。

第２部材４２Ａは、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状を有していなくてもよい。例えば、第２部材４２Ａは、光路ＡＴの周囲の一部に配置されている一方で、光路ＡＴの周囲の他の一部に配置されていない形状（例えば、一部が開放された開ループ状の形状）を有していてもよい。

第２部材４２Ａは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って移動することに加えて又は代えて、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動してもよい。

上面４２１の少なくとも一部は、第１部材４１Ａ及び射出面３２の両方又は一方よりも上側に配置されていてもよい。上面４２１の少なくとも一部は、光軸ＡＸに平行な方向に沿って射出面３２に対向していてもよい。上面４２１の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。上面４２１の少なくとも一部は、曲面であってもよい。上面４２１の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

下面４２２の一部は、上面４２１、内側面４２３及び内側面４２４の少なくとも一つよりも上側に配置されていてもよい。下面４２２の少なくとも一部は、第１部材４１Ａ及び射出面３２の両方又は一方よりも上側に配置されていてもよい。下面４２２の少なくとも一部の基板５１からの高さは、下面４１３の基板５１からの高さと同じであってもよい。下面４２２の少なくとも一部の基板５１からの高さは、下面４１３の基板５１からの高さよりも小さくてもよい。下面４２２の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。下面４２２の少なくとも一部は、上面４２１に対して傾斜していてもよい。下面４２２の少なくとも一部は、曲面であってもよい。下面４２２の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。

上面４２１と下面４１３との間の空間ＳＰ３のＺ軸方向の大きさ（つまり、Ｚ軸方向に沿った上面４２１と下面４１３との間の距離）は、射出面３２からの露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫのＺ軸方向の大きさ（つまり、Ｚ軸方向に沿った射出面３２と基板５１の上面との間の距離）以下であってもよい。下面４２２と基板５１との間の空間ＳＰ１のＺ軸方向の大きさは、光路空間ＳＰＫのＺ軸方向の大きさよりも小さくてもよい。但し、下面４２２と基板５１との間の空間ＳＰ１のＺ軸方向の大きさは、光路空間ＳＰＫのＺ軸方向の大きさ以上であってもよい。更に、下面４２２と基板５１との間の空間ＳＰ１のＺ軸方向の大きさは、空間ＳＰ３のＺ軸方向の大きさよりも大きい。但し、下面４２２と基板５１との間の空間ＳＰ１のＺ軸方向の大きさは、空間ＳＰ３のＺ軸方向の大きさ以下であってもよい。

内側面４２３の一部は、上面４２１、下面４２２及び内側面４２４の少なくとも一つよりも内側に配置されていてもよい。内側面４２３の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対して傾斜していてもよい。内側面４２３の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

内側面４２４の一部は、上面４２１、下面４２２及び内側面４２３の少なくとも一つよりも外側に配置されていてもよい。内側面４２４の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対して傾斜していてもよい。例えば、内側面４２４は、下面４２２の内側端部から上面４２１の内側端部に向かって、上側に且つ外側に延びる傾斜面であってもよい。内側面４２４の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

ＸＹ平面における開口４２６の径及び面積の少なくとも一方は、開口４１６のそれよりも小さくてもよいし同一であってもよい。

ＸＹ平面上における開口４２６の形状は、円形の形状とは異なる任意の形状（例えば、多角形、楕円形、又は、露光光ＥＬの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状）であってもよい。ＸＹ平面上における第２部材４２Ａの各面（例えば、上面４２１、下面４２２、内側面４２３及び内側面４２４）又は当該各面の各端部（例えば、外側端部及び内側端部、並びに、上側端部及び下側端部）の形状もまた、円形の形状又は円形の形状とは異なる任意の形状であってもよい。

開口４２６は、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても、開口４２６が開口４１６よりも外側に配置される状態を実現可能なサイズを有していなくてもよい。例えば、開口４１６と開口４２６は、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで移動した場合に、開口４２６を規定する内側面４２４の下側端部の一部が、開口４１６を規定する内側面４１５の下側端部よりも内側に配置される状態を実現可能なサイズを有していてもよい。例えば、開口４２６は、第２部材４２Ａが移動可能範囲の限界まで移動した場合に、第２部材４２Ａの一部が光路ＡＴ上に配置される状態を実現可能なサイズを有していてもよい。

液体供給口４３１ｂは、光路空間ＳＰＫに面するように形成されていてもよい。液体供給口４３１ｂは、内側面４１１に加えて又は代えて、液浸空間ＬＳに面する可能性がある第１部材４１Ａの任意の面に形成されていてもよい。

第１部材４１Ａに加えて又は代えて、液浸空間ＬＳに面する可能性がある第２部材４２Ａの任意の面に液体ＬＱを供給する液体供給口が形成されていてもよい。そのような液体供給口を、例えば、上面４２１と下面４２２のいずれか一方または両方に設けてもよい。

液体供給口４３１ａ及び４３１ｂの両方又は一方は、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように形成されていてもよい。液体供給口４３１ａ及び４３１ｂの両方又は一方は、単一の液体供給口であってもよい。

開口４２６の中心が光軸ＡＸに一致している状態において、液体供給口４３１ａの少なくとも一部は、内側面４２４（開口４２６）よりも外側の領域に形成されていてもよい。例えば、液体供給口４３１ａの少なくとも一部は、内側面４２４（開口４２６）の位置とは関係がない又は関係が薄い任意の位置に形成されていてもよい。

多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２２よりも上側に配置されていてもよい。多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２２よりも下側に配置されていてもよい。多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２２と同じ高さに配置されていてもよい。

多孔部材４４１１の下面は、下面４２２に平行であってもよい。但し、多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２２に対して傾斜していてもよい。例えば、多孔部材４４１１の下面は、内側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる傾斜面であってもよい。多孔部材４４１１の下面は、平面であってもよい。但し、多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

第２部材４２Ａは、空間ＳＰ３に流体回収口４４２が面しない期間が発生するように移動してもよい。第２部材４２Ａは、上面４２１に流体回収口４４２が対向しない期間が発生するように移動してもよい。

流体回収口４４１には、多孔部材４４１１が配置されていなくてもよい。流体回収口４４２には、多孔部材４４２１が配置されていなくてもよい。

流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方は、終端光学素子３１の周囲に断続的に分布するように形成されていてもよい。例えば、流体回収口４４１は、下面４２２上で定義される仮想的な円（例えば、光軸ＡＸを中心とする仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。例えば、流体回収口４４２は、下面４１３上で定義される仮想的な円（例えば、開口４２６の中心周りの仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。複数の流体回収口４４１に代えて、単一の流体回収口４４１が形成されていてもよい。複数の流体回収口４４２に代えて、単一の流体回収口４４２が形成されていてもよい。

流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方からは、液体ＬＱが回収される一方で気体が回収されなくてもよい。多孔部材が配置された流体回収口を介して液体を回収する一方で気体を回収しない技術の一例は、例えば、米国特許第７，２９２，３１３号に開示されている。但し、流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方からは、液体ＬＱ及び気体の双方が回収されてもよい。

液体供給口４３１ａ及び４３１ｂの両方若しくは一方からの液体ＬＱの供給と流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方若しくは一方からの液体ＬＱの回収とが並行して行われてもよい。但し、液体供給口４３１ａ及び４３１ｂの両方若しくは一方からの液体ＬＱの供給と流体回収口４４１からの液体ＬＱの回収と流体回収口４４２からの液体ＬＱの回収との全てが並行して行われなくてもよい。

第２部材４２Ａは、液体供給口４３１ａ及び４３１ｂの両方若しくは一方から液体ＬＱが供給されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２Ａは、液体供給口４３１ａ及び４３１ｂの両方若しくは一方から液体ＬＱが供給されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２Ａは、流体回収口４４１から液体ＬＱが回収されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２Ａは、流体回収口４４１から液体ＬＱが回収されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２Ａは、流体回収口４４２から液体ＬＱが回収されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２Ａは、流体回収口４４２から液体ＬＱが回収されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。

第２部材４２Ａの下面４２２は、液体ＬＱを回収しない。従って、下面４２２は、基板５１との間に液体ＬＱを保持する。第２部材４２Ａの上面４２１、内側面４２３及び内側面４２４もまた、液体ＬＱを回収しない。

第１部材４１Ａの下面４１３は、液体ＬＱを回収しない。従って、下面４１３は、上面４２１及び基板５１との間で液体ＬＱを保持する。第１部材４１Ａの内側面４１１、外側面４１２、上面４１４及び内側面４１５もまた、液体ＬＱを回収しない。

（１−２−２）第２部材４２Ａの移動動作の具体例
続いて、図５及び図６を参照して、第２部材４２Ａの移動動作の具体例について説明する。図５は、第２部材４２Ａの移動動作の第１の具体例を示す断面図である。図６は、第２部材４２Ａの移動動作の第２の具体例を示す断面図である。尚、図５及び図６では、図面の簡略化のために、図２に示した液浸部材４Ａの構成要件のうちの一部が省略されている。

第１実施形態では、第２部材４２Ａは、基板５１の移動態様に基づいて移動する。言い換えれば、第２部材４２Ａは、基板５１の移動態様（例えば、移動方向、移動速度、加速度及び移動距離のうちの少なくとも一つ）に基づいて定まる移動態様で移動する。但し、第２部材４２Ａは、基板５１の移動と独立して移動してもよい。

例えば、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａが移動しない場合と比較して、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

例えば、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対加速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａが移動しない場合と比較して、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対加速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２Ａは、コントローラー９１によって制御される駆動装置４５１の動作によって移動することは上述したとおりである。従って、以下に説明する第２部材４２Ａの移動は、コントローラー９１の制御によって実現される。

第２部材４２Ａが移動しない場合における第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度は、実質的には、第１部材４１Ａに対する基板５１の相対速度と一致する。従って、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度の絶対値が、第１部材４１Ａに対する基板５１の相対速度の絶対値よりも小さくなるように移動してもよい。相対加速度についても同様に、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対加速度の絶対値が、第１部材４１Ａに対する基板５１の相対加速度の絶対値よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくするために、第２部材４２Ａは、基板５１が移動する方向と同一の方向に向かって移動してもよい。

例えば、図５に示すように、基板５１が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２Ａは、＋Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板５１のＸ軸方向に沿った移動速度が＋Ｖ５１であり、第２部材４２ＡのＸ軸方向に沿った移動速度が＋Ｖ４２であるとする。第２部材４２Ａが移動しない場合の第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度の絶対値は、｜Ｖ５１｜である。一方で、第２部材４２Ａが移動する場合の第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度は、｜Ｖ５１−Ｖ４２｜（＜｜Ｖ５１｜）である。従って、第２部材４２Ａが移動する場合には、第２部材４２Ａが移動しない場合と比較して、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度が小さくなる。尚、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対加速度についても、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度と同様である。

例えば、図６に示すように、基板５１Ａが−Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２Ａは、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板５１のＸ軸方向に沿った移動速度が−Ｖ５１であり、第２部材４２ＡのＸ軸方向に沿った移動速度が−Ｖ４２であるとする。第２部材４２が移動しない場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値は、｜−Ｖ５１｜である。一方で、第２部材４２Ａが移動する場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度は、｜−Ｖ５１＋Ｖ４２｜（＜｜−Ｖ５１｜）である。従って、第２部材４２Ａが移動する場合には、第２部材４２Ａが移動しない場合と比較して、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度が小さくなる。尚、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対加速度についても、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度と同様である。

基板５１が＋Ｙ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２Ａは、＋Ｙ軸方向に向かって移動してもよい。基板５１が−Ｙ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２Ａは、−Ｙ軸方向に向かって移動してもよい。基板５１がＸＹ平面内の所定方向に向かって移動する場合には、第２部材４２Ａは、当該所定方向に向かって移動してもよい。

第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度のうち基板５１の移動方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａが移動しない場合と比較して、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度のうち基板５１の移動方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対加速度のうち基板５１の移動方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａが移動しない場合と比較して、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対加速度のうち基板５１の移動方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２Ａは、基板５１が移動する方向と同一の方向に向かって移動しつつも、基板５１が移動する方向と交差する又は直交する方向に向かって更に移動してもよい。つまり、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくする際には、基板５１が移動する方向の成分を含むＸＹ平面内の任意の方向へ移動してもよい。例えば、基板５１が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２Ａは、＋Ｘ軸方向に向かって移動しつつ、＋Ｙ軸方向又は−Ｙ軸方向に向かって移動してもよい。

以上説明したように、第１実施形態では、第２部材４２Ａは、第２部材４２Ａに対する基板５１の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくするように移動可能である。従って、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板５１が相対的に高速度で移動しても、液浸空間ＬＳを形成する液体ＬＱの一部が基板５１上で分離すると共に、当該分離した液体ＬＱ（滴など）が基板５１上に残留してしまうことが抑制される。また、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板５１が相対的に高速度で移動しても、液浸空間ＬＳに気泡が発生することが抑制される。従って、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
（１−３）露光装置ＥＸ１による基板５１の露光方法
続いて、図７から図１２を参照して、露光装置ＥＸ１による基板５１の露光方法について説明する。

露光装置ＥＸ１が基板５１を露光する露光処理に先立って、まずは、コントローラー９１は、液浸部材４Ａから離れた基板交換位置に基板ステージ５が移動するように駆動システム８２を制御する。その後、コントローラー９１は、基板交換位置に位置している基板ステージ５に、露光前の基板５１を搬入する（つまり、搬入するように、不図示の基板搬入装置を制御する）。

液浸部材４Ａから離れた基板交換位置に基板ステージ５が位置している間に、コントローラー９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６が移動するように、駆動システム８２を制御する。尚、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６が配置されている期間において、計測ステージ６が保持する計測部材６１によって、液体ＬＱを介して露光光ＥＬを受光する計測が行われてもよい。

露光前の基板５１を基板ステージ５が保持した後、コントローラー９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に、露光前の基板５１が搬入された基板ステージ５を移動させる。

尚、上述の動作が行われている間も、基板ステージ５又は計測ステージ６と終端光学素子３１との間に液浸空間ＬＳが形成され続ける。

次に、コントローラー９１は、基板５１に対する露光処理を開始する。具体的には、コントローラー９１の制御の下で、照明系２がマスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。マスク１１からの露光光ＥＬは、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して、基板５１に投影される。その結果、基板５１には、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像が投影され、基板５１が露光される。

第１実施形態では、露光装置ＥＸ１は、露光時にマスク１１及び基板５１の両方を所定の走査方向（スキャン方向）に沿って移動させる走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である。第１実施形態では、マスク１１の走査方向及び基板５１の走査方向が、共にＹ軸方向であるものとする。従って、コントローラー９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。コントローラー９１は、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。

ここで、図７を参照しながら、基板５１の移動の態様について説明する。図７は、基板ステージ５に保持されている基板５１の一例を示す平面図である。

例えば、ある一つのショット領域Ｓ１に対する露光処理を行う際には、当該ショット領域Ｓ１の上側に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラー９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。更に、コントローラー９１は、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。基板５１及びマスク１１の移動と並行して、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。その結果、ショット領域Ｓ１は、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して投影される露光光ＥＬによって露光される。

ショット領域Ｓ１が露光終了位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了する。ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了した後には、次のショット領域Ｓ２（例えば、＋Ｘ軸方向側においてショット領域Ｓ１と隣接するショット領域Ｓ２）に対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われる。具体的には、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラー９１は、Ｙ軸方向に交わる方向（例えば、Ｘ軸方向、又は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に対して傾斜する方向）に沿って基板５１を移動する。次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射しない。次のショット領域Ｓ２が露光開始位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光光ＥＬの露光処理と同様の態様で、ショット領域Ｓ２に対する露光光ＥＬの露光処理が開始する。以降、同様の動作が、基板５１上の複数のショット領域を対象として行われる。

以下の説明では、ショット領域Ｓに対する露光処理を行うために、投影領域ＰＲに対してショット領域ＳがＹ軸方向に沿って移動するように基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる動作を、適宜“スキャン移動動作”と称する。スキャン移動動作は、ショット領域Ｓが露光開始位置に位置している状態からショット領域Ｓが露光終了位置に位置している状態になるまで、基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。スキャン移動動作は、主として、基板５１をＹ軸方向に沿って等速移動させる動作を含んでいる。但し、スキャン移動動作は、基板５１をＹ軸方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、スキャン移動動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。スキャン移動動作が行われている間は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けていてもよい。

一方で、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了した後に次のショット領域Ｓに対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓが露光開始位置に移動するように基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を、適宜“ステップ移動動作”と称する。ステップ移動動作は、ショット領域Ｓが露光終了位置に位置している状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に位置している状態になるまで、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。ステップ移動動作は、主として、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいる。例えば、ステップ移動動作は、基板５１をＸ軸方向に沿って加減速移動させる動作及び基板５１をＹ軸方向に沿って加減速移動させる動作の両方又は一方を含んでいてもよい。但し、ステップ移動動作は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って等速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、ステップ移動動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射しない。ステップ移動動作が行われている間は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けていてもよい。

尚、露光開始位置は、あるショット領域ＳのＹ軸方向に沿った一方の端部（例えば、投影領域ＰＲの移動方向に沿った後方側の端部）を投影領域ＲＰの前側端部が通過する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（言い換えれば、基板５１の位置）を含んでいてもよい。露光終了位置は、あるショット領域ＳのＹ軸方向に沿った他方の端部（例えば、投影領域ＰＲの移動方向に沿った前方側の端部）を投影領域ＲＰの後側端部が通過する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（言い換えれば、基板５１の位置）を含んでいてもよい。

また、以下の説明では、あるショット領域Ｓに対する露光処理を行うためにスキャン移動動作が行われる期間を、適宜“スキャン移動期間”と称する。一方で、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了してから次のショット領域Ｓに対する露光処理を開始するためにステップ移動動作が行われる期間を、適宜“ステップ移動期間”と称する。

コントローラー９１は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを交互に繰り返し行う。その結果、基板５１上の複数のショット領域Ｓに対する露光処理が順次行われる。

複数のショット領域Ｓに対する露光処理を行う際に、コントローラー９１は、複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、基板５１を移動させてもよい。例えば、コントローラー９１は、複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、基板５１の移動条件（例えば、移動速度、加速度、移動距離、移動方向及びＸＹ平面内での移動軌跡のうちの少なくとも一つ）を調整してもよい。例えば、図７に示すように、コントローラー９１は、露光条件に基づいて、投影領域ＰＲが基板５１に対して移動軌跡Ｓｒに沿って相対的に移動するように、基板５１を移動させてもよい。

複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば、露光レシピと称される露光制御情報に規定されている。露光制御情報は、例えばメモリ９２に記憶されている。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Ｓの配列情報（例えば、複数のショット領域Ｓの夫々の位置）を含んでいてもよい。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Ｓのサイズ（例えば、複数のショット領域ＳのＹ軸方向の長さ）を含んでいてもよい。

図６に示すように、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が上面５２上に形成されてもよい。スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が基板５１と上面５２とに跨るように形成されてもよい。計測ステージ６が基板ステージ５に隣接又は接触した状態で基板５１に対する露光処理が行われる場合には、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が基板ステージ５と計測ステージ６とに跨るように形成されてもよい。

第２部材４２Ａは、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２Ａは、照明系２が露光光ＥＬを照射していない（つまり、終端光学素子３１から露光光ＥＬが射出されていない）期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２Ａは、基板５１がＸ軸方向に沿って移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２Ａは、ステップ移動期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２Ａは、照明系２が露光光ＥＬを照射していない期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２Ａは、基板５１がＸ軸方向に沿って移動する期間中に移動しなくてもよい。

第２部材４２Ａは、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２Ａは、照明系２が露光光ＥＬを照射している（つまり、終端光学素子３１から露光光ＥＬが射出されている）期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２Ａは、基板５１がＹ軸方向に沿って移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２Ａは、スキャン移動期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２Ａは、照明系２が露光光ＥＬを照射している期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２Ａは、基板５１がＹ軸方向に沿って移動する期間中に移動しなくてもよい。

このような第２部材４２Ａの移動動作を踏まえた上で、図８から図１２を参照して、基板５１の具体的な移動動作の一例と第２部材４２Ａの具体的な移動動作の一例との関係について説明する。図８は、投影領域ＰＲの移動軌跡Ｓｒ及び第２部材４２Ａの移動軌跡Ｓｒ’の一具体例を示す平面図である。図９から図１１は、夫々、図８に示す態様で基板５１及び第２部材４２Ａが移動した場合の第２部材４２Ａの移動動作を示す平面図である。図１２は、図８に示す態様で基板５１及び第２部材４２Ａが移動した場合の基板５１及び第２部材４２Ａの夫々の移動速度を示すグラフである。

図８（ａ）に示すように、Ｘ軸方向に沿って隣接する２つのショット領域Ｓ（つまり、ショット領域Ｓａ及びショット領域Ｓｂ）に対する露光処理を行う場合を例にあげる。この場合、コントローラー９１は、実線で示す移動軌跡Ｓｒに沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。

具体的には、コントローラー９１は、ショット領域Ｓａ上の＋Ｙ軸方向側の端部位置ｄ１からショット領域Ｓａ上の−Ｙ軸方向側の端部位置ｄ２に至る経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に沿って（例えば、＋Ｙ軸方向に向かって）移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間に、ショット領域Ｓａが露光される。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓａ上の端部位置ｄ２からショット領域Ｓｂ上の−Ｙ軸方向側の端部位置ｄ３に至る経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させるステップ移動動作を行う。経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間は、基板５１が露光されることはない。例えば、図８（ａ）中の端部位置ｄ２から中間位置ｄ２．５に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させると共に、＋Ｙ軸方向に向かって移動させる。また、図８（ａ）中の中間位置ｄ２．５から端部位置ｄ３に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させると共に、−Ｙ軸方向に向かって移動させる。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓｂ上の端部位置ｄ３からショット領域Ｓｂ上の＋Ｙ軸方向側の端部位置ｄ４に至る経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に沿って（例えば、−Ｙ軸方向に向かって）移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間に、ショット領域Ｓｂが露光される。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓｂ上の端部位置ｄ４からショット領域Ｓｃ上の＋Ｙ軸方向側の端部位置ｄ５に至る経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させるステップ移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間は、基板５１が露光されることはない。例えば、図８（ａ）中の端部位置ｄ４から中間位置ｄ４．５に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させると共に、−Ｙ軸方向に向かって移動させる。また、図８（ａ）中の中間位置ｄ４．５から端部位置ｄ５に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させると共に、＋Ｙ軸方向に向かって移動させる。

投影領域ＰＲがショット領域Ｓｃ上の端部位置ｄ５に位置した後には、投影領域ＰＲが端部位置ｄ１から端部位置ｄ５に到達するまでに行われる動作と同様の動作が繰り返される。

図８（ａ）に示す態様で基板５１が経路Ｔｐ１、経路Ｔｐ２、経路Ｔｐ３及び経路Ｔｐ４を順次移動する場合において、第２部材４２Ａは、図８（ｂ）に示すように、経路Ｔｐ１’、経路Ｔｐ２’、経路Ｔｐ３’及び経路Ｔｐ４’を順次移動する。以下、経路Ｔｐ１’、経路Ｔｐ２’、経路Ｔｐ３’及び経路Ｔｐ４’について順に説明する。

まず、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ１に沿って移動するスキャン移動動作が行われている場合には、第２部材４２Ａは、位置ｄ１’から位置ｄ２’に向かう経路Ｔｐ１’に沿って移動する。

位置ｄ１’は、端部位置ｄ１に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心（例えば、開口４２６の中心）の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ１’は、図９（ａ）に示すように、投影領域ＰＲから−Ｘ軸方向及び−Ｙ軸方向にシフトした位置である。

位置ｄ２’は、端部位置ｄ２に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ２’は、図９（ｃ）に示すように、投影領域ＰＲから＋Ｘ軸方向及び＋Ｙ軸方向にシフトした位置である。

経路Ｔｐ１’は、位置ｄ１’から位置ｄ１．５’に向かう経路Ｔｐ１＿１’を含んでいる。経路Ｔｐ１＿１’は、＋Ｘ軸方向に向かう成分を含む一方で、Ｙ軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Ｔｐ１＿１’は、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。

経路Ｔｐ１’は、更に、位置ｄ１．５’から位置ｄ２’に向かう経路Ｔｐ１＿２’を含んでいる。経路Ｔｐ１＿２’は、＋Ｘ軸方向に向かう成分及び＋Ｙ軸方向に向かう成分を含む経路である。経路Ｔｐ１＿２’は、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に向かう成分、及び、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む経路である。

位置ｄ１．５’が経路Ｔｐ１＿２’の始点であり、位置ｄ１．５’は、位置ｄ１’と位置ｄ２’との間の位置であって、且つ、スキャン移動期間中に第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動し始める時点での投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心の相対的な位置である。

このように、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ１に沿って移動する場合には、第２部材４２Ａは、まずは、経路Ｔｐ１＿１’に沿って移動する。例えば、図９（ａ）に示すように、第２部材４２Ａは、まずは、Ｙ軸方向に沿って移動することなく、＋Ｘ軸方向に向かって移動する。経路Ｔｐ１＿１’に沿って移動した後には、第２部材４２Ａは、経路Ｔｐ１_２’に沿って移動する。例えば、図９（ｂ）に示すように、第２部材４２Ａは、＋Ｘ軸方向及び＋Ｙ軸方向の夫々に向かって移動する。つまり、第２部材４２Ａは、＋Ｘ軸方向に向かう成分及び＋Ｙ軸方向に向かう成分が合成されることで得られる方向に向かって移動する。尚、図９から図１１では、基板５１の移動方向が点線の矢印で示されている一方で、第２部材４２Ａの移動方向が実線の矢印で示されている。尚、図９から図１１では、Ｘ軸方向に向かう成分およびＹ軸方向に向かう成分を含む基板５１の移動は、Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度傾斜した方向を向く点線の矢印で示し、Ｘ軸方向に向かう成分およびＹ軸方向に向かう成分を含む第２部材４２Ａの移動は、Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度傾斜した方向を向く実線の矢印で示されている。

以上説明したスキャン移動期間中の第２部材４２Ａの移動に着目すると、第２部材４２Ａは、スキャン移動期間が開始してから第１所定時間が経過した後に、Ｙ軸方向に沿って移動し始める。第２部材４２Ａは、スキャン移動期間のうちの後半の期間中に、Ｙ軸方向に沿って移動する。第２部材４２Ａは、スキャン移動期間が開始してから第１所定時間が経過する前は、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。第２部材４２Ａは、スキャン移動期間のうちの前半の期間中に、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。尚、第２部材４２Ａは、スキャン移動期間のうちの前半の期間中に、Ｙ軸方向に沿って移動を開始してもよい。

尚、スキャン移動期間中に第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動し始めるタイミングの具体的な例については、後に詳述するため、ここでの詳細な説明を省略する（図１３等参照）。

その後、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ２に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、第２部材４２Ａは、位置ｄ２’から位置ｄ２．５’を介して位置ｄ３’に向かう経路Ｔｐ２’に沿って移動する。

位置ｄ２．５’は、中間位置ｄ２．５に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ２．５’は、図９（ｄ）に示すように、投影領域ＰＲから＋Ｙ軸方向にシフトした位置である。

位置ｄ３’は、端部位置ｄ３に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ３’は、図１０（ａ）に示すように、投影領域ＰＲから−Ｘ軸方向及び＋Ｙ軸方向にシフトした位置である。

経路Ｔｐ２’は、−Ｘ軸方向に向かう成分を含む一方で、Ｙ軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Ｔｐ２’は、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向と同一の方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。

このように、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ２に沿って移動する場合には、第２部材４２Ａは、経路Ｔｐ２’に沿って移動する。例えば、図９（ｃ）に示すように、第２部材４２Ａは、Ｙ軸方向に沿って移動することなく、−Ｘ軸方向に向かって移動する。その後、図９（ｄ）に示すように、Ｙ軸方向に沿った基板５１の移動方向が反転した後であっても、第２部材４２Ａは、Ｙ軸方向に沿って移動することなく、−Ｘ軸方向に向かって移動し続ける。

その後、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ３に沿って移動するスキャン移動動作が行われている場合には、第２部材４２Ａは、位置ｄ３’から位置ｄ４’に向かう経路Ｔｐ３’に沿って移動する。

位置ｄ４’は、端部位置ｄ４に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ４’は、図１０（ｃ）に示すように、投影領域ＰＲから＋Ｘ軸方向及び−Ｙ軸方向にシフトした位置である。

経路Ｔｐ３’は、位置ｄ３’から位置ｄ３．５’に向かう経路Ｔｐ３＿１’を含んでいる。経路Ｔｐ３＿１’は、＋Ｘ軸方向に向かう成分を含む一方で、Ｙ軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Ｔｐ３＿１’は、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。

経路Ｔｐ３’は、更に、位置ｄ３．５’から位置ｄ４’に向かう経路Ｔｐ３＿２’を含んでいる。経路Ｔｐ３＿２’は、＋Ｘ軸方向に向かう成分及び−Ｙ軸方向に向かう成分を含む経路である。経路Ｔｐ３＿２’は、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に向かう成分、及び、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む経路である。

位置ｄ３．５’が経路Ｔｐ３＿２’の始点であり、位置ｄ３．５’は、位置ｄ３’と位置ｄ４’との間の位置であって、且つ、スキャン移動期間中に第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動し始める時点での投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの相対的な位置である。

このように、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ３に沿って移動する場合には、第２部材４２Ａは、まずは、経路Ｔｐ３＿１’に沿って移動する。例えば、図１０（ａ）に示すように、第２部材４２Ａは、まずは、Ｙ軸方向に沿って移動することなく、＋Ｘ軸方向に向かって移動する。経路Ｔｐ３＿１’に沿って移動した後には、第２部材４２Ａは、経路Ｔｐ３_２’に沿って移動する。例えば、図１０（ｂ）に示すように、第２部材４２Ａは、＋Ｘ軸方向及び−Ｙ軸方向の夫々に向かって移動する。つまり、第２部材４２Ａは、＋Ｘ軸方向に向かう成分及び−Ｙ軸方向に向かう成分が合成されることで得られる方向に向かって移動する。

その後、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ４に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、第２部材４２Ａは、位置ｄ４’から位置ｄ４．５’を介して位置ｄ５’に向かう経路Ｔｐ２’に沿って移動する。

位置ｄ４．５’は、中間位置ｄ４．５に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ４．５’は、図１０（ｄ）に示すように、当領域ＰＲから−Ｙ軸方向にシフトした位置である。

位置ｄ５’は、端部位置ｄ５に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２Ａの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ５’は、図１１に示すように、投影領域ＰＲから−Ｘ軸方向及び−Ｙ軸方向にシフトした位置である。

経路Ｔｐ４’は、−Ｘ軸方向に向かう成分を含む一方で、Ｙ軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Ｔｐ４’は、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向と同一の方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。

このように、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ４に沿って移動する場合には、第２部材４２Ａは、経路Ｔｐ４’に沿って移動する。例えば、図１０（ｃ）に示すように、第２部材４２Ａは、Ｙ軸方向に沿って移動することなく、−Ｘ軸方向に向かって移動する。その後、図１０（ｄ）に示すように、Ｙ軸方向に沿った基板５１の移動方向が反転した後であっても、第２部材４２Ａは、Ｙ軸方向に沿って移動することなく、−Ｘ軸方向に向かって移動する。

図８（ａ）に示す移動軌跡Ｓｒに沿って投影領域ＰＲが移動するように基板５１が移動し且つ図８（ｂ）に示す移動軌跡Ｓｒ’に沿って第２部材４２Ａが移動する場合には、基板５１及び第２部材４２Ａの移動速度は、図１２に示す態様で変化する。尚、図１２の１段目のグラフが、Ｘ軸方向に沿った基板５１の移動速度を示している。図１２の２段目のグラフが、Ｙ軸方向に沿った基板５１の移動速度を示している。図１２の３段目のグラフが、Ｘ軸方向に沿った第２部材４２の移動速度を示している。図１２の４段目のグラフが、Ｙ軸方向に沿った第２部材４２の移動速度を示している。

尚、図８（ａ）の投影領域ＰＲの移動軌跡Ｓｒは、一例であり、適宜変更される。また図８（ｂ）の移動軌跡Ｓｒ’も一例であり、基板５１の移動態様などに応じて最適化される。

尚、スキャン移動期間の開始タイミングは、ステップ移動期間の終了タイミングに対応している。従って、第２部材４２Ａは、ステップ移動期間が終了してから第１所定時間が経過した後に、Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。第２部材４２Ａは、ステップ移動期間が終了してから第１所定時間が経過する前は、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。

また、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中には、照明系２が露光光ＥＬを照射している（つまり、終端光学素子３１から露光光ＥＬが射出されている）。従って、第２部材４２Ａは、対象のショット領域（例えば、ショット領域Ｓａ）を露光するために照明系２が露光光ＥＬを照射し始めてから第１所定時間が経過した後に、Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。第２部材４２Ａは、対象のショット領域（例えば、ショット領域Ｓａ）を露光するために基板５１（基板ステージ５）が所定位置を通過した時点から第１所定時間が経過した後に、Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。第２部材４２Ａは、照明系２が露光光ＥＬを照射し始めてから第１所定時間が経過する前は、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。第２部材４２Ａは、対象のショット領域（例えば、ショット領域Ｓａ）を露光するために基板５１（基板ステージ５）が所定位置を通過した時点から第１所定時間が経過する前は、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。

また、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中には、基板５１は、Ｘ軸方向に沿って移動しない一方で、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中には、基板５１は、Ｘ軸方向に沿って移動している。従って、第２部材４２Ａは、Ｘ軸方向に沿った基板５１の移動が停止してから第１所定時間が経過した後に、Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。第２部材４２Ａは、Ｘ軸方向に沿った基板５１の移動が停止してから第１所定時間が経過する前は、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。

尚、第２部材４２ＡのＹ軸方向への移動開始を、基板５１（基板ステージ５）の位置に基づいて制御してもよい。例えば、コントローラー９１は、計測システム７の計測結果に基づいて、基板５１（基板ステージ５）が所定位置を通過するときに、第２部材４２ＡのＹ軸方向への移動を開始してもよい。例えば、投影領域ＰＲが位置ｄ１．５にある状態に対応する位置に基板５１（基板ステージ５）が到達するときに第２部材４２Ａの＋Ｙ軸方向への移動を開始してもよい。

また、図８（ａ）に示す例では、ステップ移動期間中においても、基板５１は、Ｙ軸方向に沿って移動する。具体的には、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ２に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、基板５１は、＋Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分の双方を含む経路に沿って移動した後、−Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分の双方を含む経路に沿って移動する。このため、第２部材４２Ａの経路Ｔｐ２’は、基板５１の経路Ｔｐ２と同様に、＋Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路、並びに、−Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路をこの順に含む経路であってもよい。経路Ｔｐ２’は、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向に向かう成分、及び、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿った成分を含む経路であってもよい。ステップ移動期間中における第２部材４２Ａの経路Ｔｐ４’についても同様である。

また、上述の説明では、１回のスキャン移動期間において、Ｙ軸方向に沿って第２部材４２Ａが移動しない期間とＹ軸方向に沿って第２部材４２Ａが移動する期間とがこの順に１回ずつ現れる例を用いて説明が進められている。しかしながら、スキャン移動期間中には、Ｙ軸方向に沿って第２部材４２Ａが移動する期間とＹ軸方向に沿って第２部材４２Ａが移動しない期間とがこの順に１回ずつ現れてもよい。１回のスキャン移動期間中には、Ｙ軸方向に沿って移動しない期間とＹ軸方向に沿って移動する期間とが任意の順に複数回現れてもよい。

続いて、図１３を参照しながら、スキャン移動期間中に第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動し始めるタイミング（以降、適宜“移動開始タイミング”と称する）について説明する。図１３は、移動開始タイミングを、液浸空間ＬＳの界面（特に、界面ＬＧ１）と流体回収口４４１（多孔部材４４１１）との位置関係に基づいて説明する平面図である。

第２部材４２Ａの移動開始タイミングは、界面ＬＧ１の位置に応じて決められてもよい。例えば、第２部材４２Ａの移動開始タイミングは、界面ＬＧ１と流体回収口４４１との間の位置関係に応じて決められてもよい。但し、界面ＬＧ１の位置は、基板５１の移動態様（例えば、位置、移動速度、移動方向等）に影響を受け得る。従って、基板５１の移動態様に応じた界面ＬＧ１の動き（界面ＬＧ１の位置変化）を予め求めておき、基板５１の移動態様に応じて第２部材４２Ａの移動開始タイミングが決められてもよい。

以下では、界面ＬＧ１と流体回収口４４１との間の位置関係に応じて第２部材４２Ａの開始タイミングを決める例を具体的に用いて説明を進める。

例えば、第２部材４２Ａは、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達した時点又は到達したと想定される時点で、Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。第２部材４２Ａは、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達していない場合には、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。尚、ここで言う「界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達する」状態は、「界面ＬＧ１の少なくとも一部が流体回収口４４１の少なくとも一部に到達する」状態を意味する。以下、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達する状態の一例について説明する。

界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達する状態は、基板５１の移動方向に沿った前方側に位置する界面ＬＧ１の一部（例えば、図１３（ａ）における界面ＬＧ１＊）が、基板５１の移動方向に沿った前方側に位置する流体回収口４４１の一部（例えば、図１３（ａ）における流体回収口４４１＊）に到達する状態を意味していてもよい。例えば、この図１３（ａ）の状態は、図１０（ｂ）の状態に対応する。この場合、図１３（ａ）に示すように、第２部材４２Ａは、界面ＬＧ１＊が流体回収口４４１＊に到達した時点で又は到達したと想定される時点で、Ｙ軸方向に沿って（例えば、基板５１の移動方向と同一の方向に沿って）移動し始めてもよい。図１３（ｂ）に示すように、第２部材４２Ａは、界面ＬＧ１＊が流体回収口４４１＊に到達していない場合又は到達していないと想定される場合には、Ｙ軸方向に沿って移動を開始しなくてもよい。例えば、この図１３（ｂ）の状態は、図１０（ａ）の状態に対応する。

例えば、基板５１の移動方向が＋Ｙ軸方向である場合には、第２部材４２Ａは、＋Ｙ軸方向側に位置する界面ＬＧ１の一部が＋Ｙ軸方向側に位置する流体回収口４４１の一部に到達した時点で又は到達したと想定される時点で、＋Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。例えば、基板５１の移動方向が−Ｙ軸方向である場合には、第２部材４２Ａは、−Ｙ軸方向側に位置する界面ＬＧ１の一部が−Ｙ軸方向側に位置する流体回収口４４１の一部に到達した時点又は到達したと想定される時点で、−Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。

以上説明したように、第１実施形態では、スキャン移動期間中にこのようなタイミングで第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動し始めることで、界面ＬＧ１が基板５１上で薄膜化し、その一部が分離して基板５１上に残留することが抑制できる。

また、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達する状態は、流体回収口４４１＊を介して液体ＬＱが回収される状態を意味していてもよい。この場合、流体回収口４４１＊を介して液体ＬＱが回収され始めた時点又は液体ＬＱが回収され始めたと想定される時点で、第２部材４２ＡをＹ軸方向に沿って移動し始めてもよい。第２部材４２Ａは、流体回収口４４１＊を介して液体ＬＱが回収されていない場合には、Ｙ軸方向に沿って移動しなくてもよい。

また、第２部材４２Ａは、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達してから又は到達した想定されてから第２所定時間が経過した時点で、Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。また、第２部材４２Ａは、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達するまでに要する時間が第３所定時間未満となる時点で、Ｙ軸方向に沿って移動し始めてもよい。

また、第２部材４２Ａは、スキャン移動期間中にＹ軸方向に沿った移動を開始することに加えて又は代えて、界面ＬＧ１と流体回収口４４１との間の位置関係に応じて定まるタイミングで、Ｙ軸方向に沿った移動を停止してもよい。尚、第２部材４２ＡのＹ軸方向に沿った移動を停止するタイミング（以降、適宜“移動停止タイミング”と称する）は、移動開始タイミングと逆の論理で決定されてもよい。例えば、上述した説明では、移動開始タイミングの一例として、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達したタイミングが例示されている。従って、移動停止タイミングの一例として、界面ＬＧ１が流体回収口４４１から離れたタイミングが用いられてもよい。移動開始タイミングのその他の例においても同様である。

また、第２部材４２Ａは、界面ＬＧ１と流体回収口４４１との間の位置関係に応じてＸ軸方向に沿って移動してもよい。

また、第２部材４２Ａは、ステップ移動期間中においても、界面ＬＧ１と流体回収口４４１との間の位置関係に応じて移動してもよい。例えば、第２部材４２Ａは、ステップ移動期間中に−Ｘ軸方向側に位置する界面ＬＧ１の一部が−Ｘ軸方向側に位置する流体回収口４４１の一部に到達した時点又は到達したと想定される時点で、−Ｘ軸方向に沿って移動し始めてもよい。

以上説明した移動開始タイミングは、例えば、制御部の一例であるコントローラー９１によって決定されてもよい。第１実施形態では、コントローラー９１は、界面ＬＧ１の少なくとも一部と流体回収口４４１の少なくとも一部との間の位置関係を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、移動開始タイミングを決定する。例えば、コントローラー９１は、基板５１の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口４４１における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の双方に基づいて、移動開始タイミングを決定する。

露光装置ＥＸ１が基板５１を露光する際には、基板５１は、規則的に移動する可能性がある。更に、第２部材４２Ａが基板５１の移動態様に基づいて移動することを考慮すれば、第２部材４２Ａもまた、規則的に移動する可能性がある。基板５１及び第２部材４２Ａの双方が規則的に移動する可能性があることを考慮すれば、コントローラー９１は、基板５１及び第２部材４２Ａの両方又は一方の移動態様に基づいて界面ＬＧ１の位置を推定することが可能である。

また、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達すると、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達する前と比較して、流体回収口４４１における回収態様が変化し得る。例えば、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達すると、界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達する前と比較して、流体回収口４４１における回収圧及び回収量の両方又は一方が変化し得る。従って、コントローラー９１は、流体回収口４４１における回収態様に基づいて界面ＬＧ１の位置を推定することが可能である。言い換えれば、コントローラー９１は、流体回収口４４１における回収態様に基づいて、界面ＬＧ１の少なくとも一部と流体回収口４４１の少なくとも一部との間の位置関係を推定することが可能である。

従って、第１実施形態では、コントローラー９１は、スキャン移動期間中に基板５１の移動態様と流体回収口４４１における回収態様とに基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。

尚、コントローラー９１は、流体回収口４４１における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づくことなく、基板５１の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。コントローラー９１は、基板５１の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づくことなく、流体回収口４４１における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。

コントローラー９１は、上述した基板５１の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口４４１における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の両方又は一方に加えて又は代えて、その他の情報に基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。

コントローラー９１は、界面ＬＧ１の位置をシミュレーションによって直接的に取得してもよい。この場合、コントローラー９１は、例えば、上述した基板５１の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口４４１における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の両方又は一方に基づいて、界面ＬＧ１の位置を直接的にシミュレートしてもよい。コントローラー９１は、上述した基板５１の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口４４１における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の両方又は一方に加えて又は代えて、その他の情報に基づいて、界面ＬＧ１の位置を直接的にシミュレートしてもよい。

界面ＬＧ１の位置をシミュレーションによって直接的に取得する場合には、コントローラー９１は、取得した界面ＬＧ１の位置と流体回収口４４１との間の位置関係を解析することで、移動開始タイミングを決定してもよい。尚、コントローラー９１は、第２部材４２Ａの位置に基づいて、流体回収口４４１の位置を比較的容易に認識することができる。

コントローラー９１は、界面ＬＧ１の位置を検出するセンサを用いて、界面ＬＧ１の位置を直接的に取得してもよい。この場合も、コントローラー９１は、取得した界面ＬＧ１の位置と流体回収口４４１との間の位置関係を解析することで、移動開始タイミングを決定してもよい。

尚、上述の説明においては、１回のスキャン移動期間に、第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動する期間と第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動しない期間とが含まれる例を説明した。しかしながら、１回のスキャン移動期間に、Ｙ軸方向に沿って第２部材４２Ａが移動する期間が存在しなくてもよい。例えば、１回のスキャン移動期間において、基板５１の移動方向に沿った前方側で界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達することが想定されない場合には、第２部材４２Ａは、１回のスキャン移動期間においてＹ軸方向に沿って移動しなくてもよい。また、１回のスキャン移動期間に、第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動し続けてもよい。例えば、１回のスキャン移動期間の開始直後に、基板５１の移動方向に沿った前方側で界面ＬＧ１が流体回収口４４１に到達することが想定される場合には、１回のスキャン移動期間の開始と同時に第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動し続けてもよい。

尚、基板５１の全てのショット領域のスキャン移動期間のそれぞれで、第２部材４２Ａの移動を同様に制御しなくてもよい。例えば、ある一つのショット領域のスキャン移動期間においては、上述したように、第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動する期間と第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動しない期間を含むように、第２部材４２Ａの移動を制御し、他の一つショット領域のスキャン移動期間においては、第２部材４２ＡがＹ軸方向に沿って移動しなくてもよい。

（１−４）第２部材４２Ａの移動動作の変形例
続いて、図１４から図１７を参照して、第２部材４２Ａの移動動作の変形例について説明する。

第２部材４２Ａは、基板ステージ５若しくは計測ステージ６上又は基板ステージ５と計測ステージ６との間に位置する所定部５５と界面ＬＧ１の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、移動する。以下、図１４を参照しながら、基板ステージ５若しくは計測ステージ６上又は基板ステージ５と計測ステージ６との間に位置する所定部５５の一例について説明する。図１４は、基板ステージ５及び計測ステージ６の上面を示す平面図である。

図１４に示すように、基板ステージ５は、基板５１をリリース可能に保持する保持部と、保持部の周囲に配置された上面５２とを備えている。

所定部５５は、上面５２の少なくとも一部に配置される撥水膜除去部５５ａを含んでいてもよい。

撥水膜除去部５５ａは、上面５２のうち撥水膜が除去された部分を意味する。撥水膜除去部５５ａは、上面５２のうち撥水膜を形成しない部分を意味してもよい。上面５２のうち撥水膜除去部５５ａが配置されていない部分（撥水膜除去部５５ａの周辺部分）は、フッ素樹脂材料や、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素系樹脂材料や、アクリル系樹脂材料や、シリコン系樹脂材料を含む撥水膜の表面を含んでいてもよい。上面５２には、単一の撥水膜除去部５５ａが配置されていてもよい。上面５２には、複数の撥水膜除去部５５ａが配置されていてもよい。撥水膜除去部５５ａは、上面５２上に配置されることに加えて又は代えて、基板５１上に配置されていてもよい。撥水膜除去部５５ａは、基板ステージ５上に配置されることに加えて又は代えて、計測ステージ６上に配置されていてもよい。

撥水膜除去部５５ａは、センサの光入射部でもよい。例えば、このセンサの光入射部（撥水膜除去部５５ａ）に、投影光学系３からの露光光ＥＬが、計測光として、液体ＬＱを介して入射する。

所定部５５は、計測ステージ６に保持されている計測部材６１の少なくとも一部を含んでいてもよい。

所定部５５は、上面５２の凸部５５ｃを含んでいてもよい。尚、凸部５５ｃは、上面５２の一部を構成する若しくは上面５２と一体化されている凸部であってもよい。凸部５５ｃは、上面５２とは別個独立の又は上面５２から分離可能な凸部であってもよい。所定部５５は、基板ステージ５の上面５２の凸部５５ｃに加えて又は代えて、計測ステージ６の上面の凸部であってもよい。

所定部５５は、計測ステージ６の上面の凹部５５ｅを含んでいてもよい。尚、凹部５５ｅは、計測ステージ６の一部を構成する若しくは計測ステージ６と一体化されている凹部であってもよい。凹部５５ｅは、計測ステージ６とは別個独立の又は計測ステージ６から分離可能な凹部であってもよい。所定部５５は、計測ステージ６の上面の凹部５５ｅに加えて又は代えて、基板ステージ５の上面５２の凹部であってもよい。

所定部５５は、基板５１と上面５２との間の間隙５５ｆを含んでいてもよい。所定部５５は、基板ステージ５と計測ステージ６との間の間隙５５ｇを含んでいてもよい。

間隙５５ｆ及び間隙５５ｇの両方又は一方は、ＸＹ平面に平行な方向に沿った間隙である。間隙５５ｆ及び間隙５５ｇの両方又は一方は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの少なくとも一部が進入し得る間隙であってもよい。間隙５５ｆ及び間隙５５ｇの両方又は一方は、当該間隙の全体に液体ＬＱが進入し得る間隙であってもよい。間隙５５ｆ及び間隙５５ｇの両方又は一方は、当該間隙の一部に液体ＬＱが進入し得る間隙であってもよい。

また、図面の簡略化のために図１４には図示しないものの、所定部５５は、上述した間隙５５ｆ及び間隙５５ｇに加えて又は代えて、異なる任意の構造物の間の間隙を含んでいてもよい。所定部５５は、上述した間隙５５ｆ及び間隙５５ｇに加えて又は代えて、互いに隣接し合う任意の構造物の間の間隙を含んでいてもよい。

上記のような所定部５５上に液浸空間ＬＳが形成されると、例えば、所定部５５及び所定部５５の周辺部の少なくとも一方に、液体ＬＱの滴、膜などが残留する可能性がある。また、上記のような所定部５５上に液浸空間ＬＳが形成されると、例えば、液浸空間ＬＳを形成する液体ＬＱ中に気泡が発生する可能性がある。

第１実施形態では、所定部５５に起因する液体ＬＱの残留と気泡の発生の一方、または両方を抑制するように第２部材４２Ａを移動させてもよい。

第２部材４２Ａは、このような所定部５５と前方界面ＬＧ１との間の位置関係及び所定部５５と後方界面ＬＧ１との間の位置関係の両方又は一方に基づいて、移動する。ここで、「前方界面ＬＧ１」とは、所定部５５又は基板ステージ５若しくは計測ステージ６に対する液浸空間ＬＳの相対的な移動方向に沿った前方側に位置する界面ＬＧ１の少なくとも一部を意味する。「後方界面ＬＧ１」とは、所定部５５又は基板ステージ５若しくは計測ステージ６に対する液浸空間ＬＳの相対的な移動方向に沿った後方側に位置する界面ＬＧ１の少なくとも一部を意味する。また、説明の便宜上、以下では、「前方界面ＬＧ１及び後方界面ＬＧ１の両方又は一方」を意味する文言として、「前後界面ＬＧ１」という文言を適宜使用する。尚、所定部５５に対する液浸空間ＬＳの相対的な移動方向は、液浸空間ＬＳ又は液浸部材４Ａ若しくは第２部材４２Ａに対する所定部５５又は基板ステージ５若しくは計測ステージ６の相対的な移動方向とは逆の方向と実質的には同義である。また、所定部５５に対する液浸空間ＬＳの相対的な移動方向は、基板ステージ５又は計測ステージ６に対する液浸部材４Ａ又は第２部材４２Ａの相対的な移動方向と実質的には同義である。

尚、第２部材４２Ａは、所定部５５と当該所定部５５に対する液浸空間ＬＳの相対的な移動方向に沿った前方側及び後方側とは異なる側（例えば、側方側）に位置する界面ＬＧ１の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、移動してもよい。

また、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係は、基板ステージ５又は計測ステージ６の移動態様に依存して変動し得る。従って、第２部材４２Ａは、基板ステージ５又は計測ステージ６の移動態様に基づいて移動してもよい。第２部材４２Ａは、液浸空間ＬＳ又は液浸部材４Ａ若しくは第２部材４２Ａに対する所定部５５又は基板ステージ５若しくは計測ステージ６の相対的の移動態様に基づいて移動してもよい。

以下、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係に基づく第２部材４２Ａの移動動作の変形例として、第１変形例及び第２変形例を用いて更に詳細に説明を進める。

第１変形例では、所定部５５に対する後方界面ＬＧ１の相対速度が小さくなるように移動する。具体的には、第２部材４２Ａは、所定部５５の上側を後方界面ＬＧ１が通過する期間に移動する。例えば、所定部５５上を後方界面ＬＧ１が通過する期間に、所定部５５の移動方向と同じ方向に第２部材４２Ａが移動する。これにより、第２部材４２Ａを、所定部５５の移動方向と同じ方向に移動しない場合に比べて、所定部５５に対する後方界面ＬＧ１の相対速度を小さくすることができる。

ここで、図１５を参照しながら、所定部５５に対する後方界面ＬＧ１の相対速度が小さくなるように第２部材４２Ａが移動する理由について説明する。図１５は、所定部５５と後方界面ＬＧ１との位置関係を示す平面図である。尚、図１５では、所定部５５が撥水膜除去部５５ａである例を用いて説明を進める。但し、所定部５５が撥水膜除去部５５ａでない場合であっても、同様である。

図１５（ａ）に示すように、撥水膜除去部５５ａが液浸空間ＬＳによって覆われている状況下で、第２部材４２Ａに対して基板ステージ５が相対的に＋Ｙ軸方向に向かって移動しているものとする。つまり、第２部材４２Ａに対して撥水膜除去部５５ａが相対的に＋Ｙ軸方向に向かって移動しているものとする。この場合、液浸空間ＬＳは、撥水膜除去部５５ａに対して相対的に−Ｙ軸方向に向かって移動することになる。

その後、ある瞬間において、撥水膜除去部５５ａの上側を後方界面ＬＧ１が通過する。この場合、図１５（ｂ）に示すように、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、撥水膜除去部５５ａによって、撥水膜除去部５５ａに対する液浸空間ＬＳの相対的な移動方向とは逆側の方向に向かって引っ張られる。

図１５（ｂ）に示す状況下での撥水膜除去部５５ａに対する後方界面ＬＧ１の相対速度が相対的に大きいと、図１５（ｃ）に示すように、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部は、撥水膜除去部５５ａによって、分断される可能性がある。その結果、図１５（ｃ）に示すように、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、基板ステージ５上に残水ＬＱ’として残留してしまうおそれがある。

そこで、第１変形例では、撥水膜除去部５５ａに対する後方界面ＬＧ１の相対速度が小さくなるように第２部材４２Ａが移動する。このため、第２部材４２Ａが移動しない場合と比較して、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、撥水膜除去部５５ａによって、分断されにくくなる。その結果、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、基板ステージ５上に残水ＬＱ’として残留してしまうことが抑制される。

尚、後方界面ＬＧ１の位置は、後方流体回収口４４１の移動態様に依存して変動し得る。従って、第２部材４２Ａは、所定部５５に対する後方界面ＬＧ１の相対速度が小さくなるように移動することに加えて又は代えて、所定部５５に対する後方流体回収口４４１の相対速度が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２Ａは、所定部５５に対する前方界面ＬＧ１の相対速度が小さくなるように、移動してもよい。第２部材４２Ａは、所定部５５に対する前方界面ＬＧ１及び後方界面ＬＧ１とは異なるその他の界面ＬＧ１（例えば、所定部５５に対する液浸空間ＬＳの相対的な移動方向に沿った前方側及び後方側とは異なる側（例えば、側方側）に位置する界面ＬＧ１）の相対速度が小さくなるように、移動してもよい。

続いて、第２変形例では、第２部材４２Ａは、所定部５５に起因した残水ＬＱ’の発生を回避するように、移動する。具体的には、第２部材４２Ａは、所定部５５に起因した残水ＬＱ’の発生を回避するように、移動態様を変える。ここで、図１６を参照しながら、所定部５５に起因した残水ＬＱ’の一例について説明する。尚、図１６では、所定部５５が間隙５５ｆである例を用いて説明を進める。但し、図１６は簡略図であるため、間隙５５ｆは、円弧状でなく、Ｘ軸方向に直線状に延びている。尚、所定部５５が間隙５５ｆでない場合においても同様である。

図１６（ａ）に示すように、間隙５５ｆが液浸空間ＬＳによって覆われていない状況下で、基板ステージ５に対して液浸空間ＬＳが＋Ｙ軸方向に向かって移動している状況を想定する。つまり、間隙５５ｆに対して液浸空間ＬＳが＋Ｙ軸方向に向かって移動している状況を想定する。このような状況は、例えば、第２部材４２Ａに対して基板ステージ５が−Ｙ軸方向に向かって移動している場合に生じ得る。また、図１６（ａ）に示す状況では、前後界面ＬＧ１のうちの前方界面ＬＧ１は、間隙５５ｆよりも−Ｙ軸方向側に位置するものとする。

図１６（ａ）に示す状態において、第２部材４２Ａに対して基板ステージ５が−Ｙ軸方向に向かって更に移動すると、図１６（ｂ）に示すように、あるタイミングで、間隙５５ｆの上側に前方界面ＬＧ１が位置することになる。

ここで、間隙５５ｆの上側に前方界面ＬＧ１が位置するタイミングで、第２部材４２Ａに対する基板ステージ５の相対的な移動方向が、−Ｙ軸方向から＋Ｙ軸方向に切り替わるとする。この場合、図１６（ｃ）に示すように、前方界面ＬＧ１を構成していた液体ＬＱの少なくとも一部が、間隙５５ｆによって、第２部材４２Ａに対する基板ステージ５の移動方向に向かって（つまり、基板ステージ５に対する液浸空間ＬＳの移動方向とは逆側の方向に向かって）引っ張られるおそれがある。

その後、第２部材４２Ａに対して基板ステージ５が＋Ｙ軸方向に向かって更に移動すると、図１６（ｄ）に示すように、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部は、間隙５５ｆによって、分断されてしまいかねない。その結果、図１６（ｄ）に示すように、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、基板ステージ５上に残水ＬＱ’として残留してしまうおそれがある。

間隙５５ｆを含む所定部５５に起因した残水の発生を回避するために、第２部材４２Ａは、液浸空間ＬＳに対する所定部５５の相対的な移動方向（つまり、基板ステージ５及び計測ステージ６の両方又は一方の相対的な移動方向）が反転する第１のタイミングと、所定部５５の上側に前後界面ＬＧ１が位置する第２のタイミングとが一致しないように移動してもよい。つまり、第２部材４２Ａは、第１のタイミングと第２のタイミングとの一致を回避するように移動してもよい。

尚、所定部５５の上側に前後界面ＬＧ１が位置する第２のタイミングは、所定部５５の上側に前後流体回収口４４１の両方又は一方が位置するタイミングであってもよい。

このような第１のタイミングと第２のタイミングとの一致を回避する第２部材４２Ａの移動動作の一例について、図１７を参照しながら、更に詳細に説明する。図１７は、第１のタイミングと第２のタイミングとの一致を回避する第２部材４２Ａの移動動作の一例を、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１と共に示す平面図である。尚、図１７においてもまた、図１６と同様に、所定部５５が間隙５５ｆである例を用いて説明を進める。また、図１７も簡略図であるため、間隙５５ｆは、円弧状でなく、Ｘ軸方向に直線状に延びている。また、所定部５５が間隙５５ｆでない場合においても同様である。

図１７（ａ）に示すように、第２部材４２Ａに対して（つまり、液浸空間ＬＳに対して）基板ステージ５が−Ｙ軸方向に向かって移動しているものとする。更に、第２部材４２Ａが移動しなければ、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する第１のタイミングと、間隙５５ｆの上側に前後界面ＬＧ１（図１７（ａ）から図１７（ｃ）に示す例では、前方界面ＬＧ１）が位置する第２のタイミングとが一致するものとする。

図１７（ａ）に示す状況下において、第１のタイミングと第２のタイミングとの一致を回避するために、図１７（ｂ）に示すように、第２部材４２Ａは、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する前に、第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向とは逆の方向（図１７（ｂ）に示す例では、＋Ｙ軸方向）に向かって移動する。つまり、第２部材４２Ａは、間隙５５ｆの上側に前後界面ＬＧ１が位置する前に、第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向とは逆の方向に向かって移動する。具体的には、例えば、第２部材４２Ａは、間隙５５ｆと前後界面ＬＧ１との間の位置関係が所定関係となった時点で、第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向とは逆の方向に向かって移動してもよい。例えば、第２部材４２Ａは、間隙５５ｆと前後界面ＬＧ１との間の距離が第２所定距離以下となる時点で、第２部材４２Ａに対する所定部５５の相対的な移動方向とは逆の方向に向かって移動してもよい。

図１７（ａ）及び図１７（ｂ）は、説明の簡略化のために、第２部材４２Ａが移動していない状況下で第２部材４２Ａが移動しなければ第１のタイミングと第２のタイミングとが一致する場合における第２部材４２Ａの移動動作を説明している。一方で、第２部材４２Ａが移動している状況下で、第１タイミングと第２タイミングとが一致しないように第２部材４２Ａの移動態様を変えてもよい。

第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向とは逆の方向に向かって第２部材４２Ａが移動すると、図１７（ｂ）に示すように、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する第１のタイミングにおいて、間隙５５ｆの上側に前後界面ＬＧ１が位置することはなくなる。例えば、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する第１のタイミングにおいて、間隙５５ｆよりも一方側（第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向とは逆の方向側であって、図１７（ｂ）に示す例では＋Ｙ軸方向に向かう側に相当する外側）に前後界面ＬＧ１が位置することになる。

一方で、図１７（ａ）に示す状況下において、第１のタイミングと第２のタイミングとの一致を回避するために、図１７（ｃ）に示すように、第２部材４２Ａは、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する前に、第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向と同一の方向（図１７（ｃ）に示す例では、−Ｙ軸方向）に向かって移動する。つまり、第２部材４２Ａは、間隙５５ｆの上側に前後界面ＬＧ１が位置する前に、第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向と同一の方向に向かって移動する。具体的には、例えば、第２部材４２Ａは、間隙５５ｆと前後界面ＬＧ１との間の位置関係が所定関係となった時点で、第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向と同一の方向に向かって移動してもよい。例えば、第２部材４２Ａは、間隙５５ｆと前後界面ＬＧ１との間の距離が第３所定距離以下となる時点で、第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向と同一の方向に向かって移動してもよい。

図１７（ａ）及び図１７（ｃ）は、説明の簡略化のために、第２部材４２Ａが移動していない状況下で第２部材４２Ａが移動しなければ第１のタイミングと第２のタイミングとが一致する場合における第２部材４２Ａの移動動作を説明している。一方で、第２部材４２Ａが移動している状況下で、第１タイミングと第２タイミングとが一致しないように第２部材４２Ａの移動態様を変えてもよい。

第２部材４２Ａに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向と同一の方向に向かって第２部材４２Ａが移動すると、図１７（ｃ）に示すように、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する第１のタイミングにおいて、間隙５５ｆの上側に前後界面ＬＧ１が位置することはなくなる。例えば、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する第１のタイミングにおいて、間隙５５ｆよりも他方側（第２部材４２Ａに対する基板ステージ５の相対的な移動方向と同一の方向側であって、図１７（ｃ）に示す例では−Ｙ軸方向に向かう側に相当する内側）に前後界面ＬＧ１が位置することになる。

図１７（ｂ）及び図１７（ｃ）に示すように第２部材４２Ａが移動することで、液浸空間ＬＳ（前後界面ＬＧ１）の位置を変えることができる。図１７（ｂ）及び図１７（ｃ）に示すように第２部材４２Ａを移動することで、例えば、液浸空間ＬＳに対する間隙５５ｆの相対的な移動方向が反転する第１のタイミングと、間隙５５ｆの上側に前後界面ＬＧ１が位置する第２のタイミングとの一致が回避される。従って、間隙５５ｆに起因した残水の発生が回避される。

以上説明した第２部材４２Ａの移動動作は、制御部の一例であるコントローラー９１によって制御される。従って、コントローラー９１は、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、第２部材４２Ａの移動態様を制御する。

ここで、上述したように、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係は、基板ステージ５又は計測ステージ６の移動態様に依存して変動し得る。このため、コントローラー９１は、基板ステージ５又は計測ステージ６の移動態様に基づいて、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係を推定することが可能である。

同様に、上述したように、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係は、前後流体回収口４４１の移動態様に依存して変動し得る。このため、コントローラー９１は、前後流体回収口４４１の移動態様に基づいて、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係を推定することが可能である。

従って、コントローラー９１は、基板ステージ５若しくは計測ステージ６の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報及び前後流体回収口４４１の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報の両方又は一方に基づいて、第２部材４２Ａの移動態様を制御する。その結果、コントローラー９１は、所定部５５と前後界面ＬＧ１との間の位置関係に基づいて第２部材４２Ａを好適に移動させることができる。

尚、コントローラー９１は、上述した基板ステージ５若しくは計測ステージ６の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報及び前後流体回収口４４１の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報に加えて又は代えて、その他の情報に基づいて、第２部材４２Ａの移動態様を制御してもよい。

コントローラー９１は、界面ＬＧ１の位置をシミュレーションによって直接的に取得してもよい。この場合、コントローラー９１は、例えば、前後流体回収口４４１の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報に基づいて、界面ＬＧ１の位置を直接的にシミュレートしてもよい。コントローラー９１は、例えば、基板ステージ５又は計測ステージ６の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報に基づいて、界面ＬＧ１の位置を直接的にシミュレートしてもよい。コントローラー９１は、例えば、その他の情報に基づいて、界面ＬＧ１の位置を直接的にシミュレートしてもよい。

界面ＬＧ１の位置をシミュレーションによって直接的に取得する場合には、コントローラー９１は、取得した界面ＬＧ１の位置と所定部５５との間の位置関係を解析することで、第２部材４２Ａの移動態様を制御してもよい。尚、コントローラー９１は、基板ステージ５又は計測ステージ６の位置に基づいて、所定部５５の位置を比較的容易に取得することができる。

コントローラー９１は、界面ＬＧ１の位置を検出するセンサを用いて、界面ＬＧ１の位置を直接的に取得してもよい。この場合も、コントローラー９１は、取得した界面ＬＧ１の位置と所定部５５との間の位置関係を解析することで、第２部材４２Ａの移動態様を制御してもよい。

（２）液浸部材４の各種実施形態
上述した説明では、第１実施形態の液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１を用いて説明が進められている。しかしながら、露光装置ＥＸ１は、液浸部材４Ａに代えて、第１部材４１と第１部材４１に対して移動可能な第２部材４２とを備える任意の液浸部材４を備えていてもよい。このような任意の液浸部材４が備える第２部材４２は、第１実施形態の液浸部材４Ａが備える第２部材４２Ａと同様の態様で移動してもよい。任意の液浸部材４が備える第２部材４２が、第１実施形態の液浸部材４Ａが備える第２部材４２Ａと同様の態様で移動する場合であっても、上述した各種効果が相応に享受される。

以下、任意の液浸部材４の一例として、第２実施形態の液浸部材４Ｂ、第３実施形態の液浸部材４Ｃ、第４実施形態の液浸部材４Ｄ、第５実施形態の液浸部材４Ｅ及び第６実施形態の液浸部材４Ｆの夫々について、順に簡単に説明する。尚、第１実施形態の液浸部材４Ａが備える構成要素と同一の構成要素については、同一の参照番号を付することで、その詳細な説明については省略する。

（２−１）第２実施形態の液浸部材４Ｂ
図１８を参照しながら、第２実施形態の液浸部材４Ｂについて説明する。図１８は、第２実施形態の液浸部材４Ｂの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。

図１８に示すように、第２実施形態では、第２部材４２Ｂの内側面４２４の少なくとも一部は、第１部材４１Ｂの内側面４１５よりも内側に配置されている。第２部材４２Ｂの開口４２６の径は、第１部材４１Ｂの開口４１６の径よりも小さい。

第２実施形態の液浸部材４Ｂを備える露光装置においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体ＬＱが界面ＬＧ１よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。

（２−２）第３実施形態の液浸部材４Ｃ
図１９を参照しながら、第３実施形態の液浸部材４Ｃについて説明する。図１９は、第３実施形態の液浸部材４Ｃの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。

図１９に示すように、第３実施形態では、第２部材４２Ｃは、第１部材４１Ｃと第２部材４２Ｃとの間の空間ＳＰ３の少なくとも一部に液体ＬＱが進入することを抑制する抑制部４６１Ｃを備えている。抑制部４６１Ｃは、第１部材４１Ｃと第２部材４２Ｃとの間の空間ＳＰ３のうち抑制部４６１Ｃよりも外側の空間に液体が進入することを抑制する。

抑制部４６１Ｃは、空間ＳＰ３に面する第２部材４２Ｃの面に配置されていてもよい。例えば、抑制部４６１Ｃは、第２部材４２Ｃの上面４２１の少なくとも一部に形成されていてもよい。但し、抑制部４６１Ｃは、空間ＳＰ３に面する第１部材４１Ｃの面に配置されていてもよい。

抑制部４６１Ｃは、第１部材４１Ｃと第２部材４２Ｃとの間の空間ＳＰ３の少なくとも一部に気体を供給する給気口を含んでいてもよい。給気口は、当該給気口よりも外側へ液体ＬＱが飛び出すことを防ぐエアカーテンを形成するための気体を供給してもよい。尚、抑制部４６１Ｃが給気口を備えている場合には、抑制部４６１Ｃは更に、給気口から供給される気体を回収する排気口を備えていてもよい。

抑制部４６１Ｃは、吸気口及び排気口の両方又は一方を備えることに加えて又は代えて、空間ＳＰ３への液体ＬＱの進入を抑制することが可能な任意の構成要件を含んでいてもよい。例えば、抑制部４６１Ｃは、下面４１３の少なくとも一部及び上面４２１の少なくとも一部の両方又は一方となり得る撥水膜を含んでいてもよい。

第１部材４１Ｃ及び第２部材４２Ｃの両方又は一方が抑制部４６１Ｃを備えている場合には、第１部材４１Ｃは、流体回収口４４２を備えていなくてもよい。但し、第１部材４１Ｃは、流体回収口４４２を備えていてもよい。

第２部材４２Ｃを移動させるための構成要素（例えば、駆動装置４５１、支持部材４５２及び支持部材４５３）の少なくとも一部は、Ｚ軸方向に沿って第１部材４１Ｃを貫通する貫通孔を介して第２部材４２Ｃに連結されている。この場合、貫通孔の少なくとも一部には、液体ＬＱが進入してもよいし、進入しなくてもよい。

第３実施形態の液浸部材４Ｃを備える露光装置においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体ＬＱが界面ＬＧ１よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。

（２−３）第４実施形態の液浸部材４Ｄ
図２０を参照しながら、第４実施形態の液浸部材４Ｄについて説明する。図２０は、第４実施形態の液浸部材４Ｄの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。

図２０に示すように、第４実施形態では、液浸部材４Ｄは、流体回収口４４２が、上面４２１に加えて、基板５１にも対向している。更に、流体回収口４４２の少なくとも一部は、第２部材４２Ｄの外側端部よりも外側に配置されている。従って、流体回収口４４２は、空間ＳＰ３から液体ＬＱを回収すると共に、空間ＳＰ１からも液体ＬＱを回収する。この場合、第２部材４２Ｄは、流体回収口４４１を備えていなくてもよい。

第２部材４２Ｄを移動させるための構成要素（例えば、駆動装置４５１、支持部材４５２及び支持部材４５３）の少なくとも一部は、Ｚ軸方向に沿って第１部材４１Ｄを貫通する貫通孔を介して第２部材４２Ｄに連結されている。この場合、貫通孔の少なくとも一部には、液体ＬＱが進入してもよいし、進入しなくてもよい。

第４実施形態の液浸部材４Ｄを備える露光装置においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体ＬＱが界面ＬＧ１よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。

（２−４）第５実施形態の液浸部材４Ｅ
図２１を参照しながら、第５実施形態の液浸部材４Ｅについて説明する。図２１は、第５実施形態の液浸部材４Ｅの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。

図２１に示すように、第５実施形態では、第１部材４１Ｅは、空間ＳＰ３に面する流体回収口４４２に加えて、空間ＳＰ２に面する流体回収口４４３Ｅを備えている。尚、流体回収口４４３Ｅは、空間ＳＰ２に面するように内側面４１１に形成されているという点を少なくとも除いては、流体回収口４４２と同様の特徴を有していてもよい。従って、説明の簡略化のため、流体回収口４４３Ｅの詳細な説明を省略する。

第２部材４２Ｅは、空間ＳＰ１に面する液体供給口４３２Ｅを備えている。尚、液体供給口４３２Ｅは、下面４２２に形成されているという点を少なくとも除いては、液体供給口４３１と同様の特徴を有していてもよい。従って、説明の簡略化のため、液体供給口４３２Ｅの詳細な説明を省略する。

第５実施形態の液浸部材４Ｅを備える露光装置においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体ＬＱが界面ＬＧ１よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。

（２−５）第６実施形態の液浸部材４Ｆ
図２２を参照しながら、第６実施形態の液浸部材４Ｆについて説明する。図２２は、第６実施形態の液浸部材４Ｆの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。

図２２に示すように、第６実施形態では、第１部材４１Ｆの下面４１３が空間ＳＰ１を介して基板５１に対向している。加えて、第１部材４１Ｆの一部が第２部材４２Ｆの下面４２２の一部の下側に配置されている。具体的には、第１部材４１Ｆのうち下面４１３が形成する板状部分４１７Ｆの一部は、下面４２２の一部である内側下面４２２２Ｆの下側に配置されている。尚、下面４２２の他の一部である外側下面４２２１Ｆは、下面４１３と同一平面上であって且つ内側下面４２２２Ｆ及び下面４１３の外側に配置されている。

第２部材４２Ｆは、液体供給口４３２Ｆを更に備えている。尚、液体供給口４３２Ｆは、下面４２２（外側下面４２２１Ｆ）に形成されているという点を少なくとも除いては、液体供給口４３１と同様の特徴を有していてもよい。従って、説明の簡略化のため、液体供給口４３２Ｆの詳細な説明を省略する。

流体回収口４４２は、下面４１３に代えて、内側下面４２２２Ｆに形成されている。

第６実施形態の液浸部材４ｆを備える露光装置においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体ＬＱが界面ＬＧ１よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。

尚、上述した第１実施形態から第６実施形態において、コントローラー９１は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含んでいてもよい。コントローラー９１は、コンピュータシステムと外部装置との間の通信させるためのインタフェースを含んでいてもよい。コントローラー９１には、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、例えば、キーボード、マウス及びタッチパネル等のうちの少なくとも一つを含む入力機器等を含んでいてもよい。入力装置は、例えば、外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含んでいてもよい。コントローラー９１には、液晶ディスプレイ等の表示装置が接続されていてもよい。

メモリ９２は、例えば、ＲＡＭ（ＲａｎｄｏｍＡｃｃｅｓｓＭｅｍｏｒｙ）、ハードディスク及びＣＤ−ＲＯＭ等のうちの少なくとも一つを含む記憶媒体を含んでいてもよい。メモリ９２には、コンピュータシステムを制御するためのＯＳ（オペレーティングシステム）がインストールされていてもよい。メモリ９２には、露光装置ＥＸ１（ＥＸ２、以下同じ）を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。メモリ９２には、光路ＡＴに満たされた液体ＬＱを介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光するように露光装置ＥＸ１を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。

メモリ９２に記憶されているプログラムは、コントローラー９１によって読み込まれ且つ実行されてもよい。その結果、液浸部材４Ａ（４Ｂ）、基板ステージ５及び計測ステージ６等の露光装置ＥＸ１が備える各種構成要素が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で基板５１を露光する露光処理等の各種処理が行われる。

上述の説明では、終端光学素子３１の射出面３２側（つまり、像面側）の光路ＡＴが液体ＬＱで満たされている投影光学系３が例示されている。しかしながら、終端光学素子３１の入射側（つまり、物体面側）の光路ＡＴが液体ＬＱで満たされている投影光学系が用いられてもよい。終端光学素子３１の入射側の光路が液体ＬＱで満たされている投影光学系の一例は、例えば、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されている。

上述の説明では、液体ＬＱが水（例えば、純水）である例が例示されている。しかしながら、液体ＬＱは、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性を有していてもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有していてもよい。液体ＬＱは、投影光学系３又は基板５１の表面を形成する感光材（つまり、フォトレジスト）等に対して安定しているという特性を有してもよい。このような液体ＬＱの一例として、例えば、フッ素系液体（例えば、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）又はフォンブリンオイル等）があげられる。液体ＬＱは、様々な流体（例えば、超臨界流体）であってもよい。

上述の説明では、基板５１が半導体デバイス製造用の半導体ウェハを含む例が例示されている。しかしながら、基板５１は、ディスプレイデバイス用のガラス基板を含んでいてもよい。基板５１は、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェハを含んでいてもよい。基板５１は、露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（例えば、合成石英又はシリコンウェハ）を含んでいてもよい。

上述の説明では、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを移動させることでマスク１１に形成されたデバイスパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である例が例示されている。しかしながら、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを静止させた状態でマスク１１に形成されたデバイスパターンを一括露光すると共に、当該一括露光が終了する毎に基板５１をステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆる、ステッパ）であってもよい。ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置は、第１マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第１マスク１１に形成された第１デバイスパターンの縮小像を基板５１に露光した後に、第２マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第２マスク１１に形成された第２デバイスパターンの縮小像を、第１デバイスパターンの縮小像に重ねて基板５１に露光する露光装置（いわゆる、スティッチ方式の露光装置）であってもよい。スティッチ方式の露光装置は、基板５１上で２つ以上のデバイスパターンを部分的に重ねて露光すると共に、基板５１を順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、投影光学系３を介して２つのマスク１１のデバイスパターンを基板５１上で合成すると共に、１回の走査露光によって基板５１上のショット領域Ｓをほぼ同時に二重露光する露光装置であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，６１１，３１６号に開示されている。露光装置ＥＸ１は、プロキシミティ方式の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、ミラープロジェクションアライナー等であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、複数の基板ステージ５を備えるツインステージ型又はマルチステージの露光装置であってもよい。ツインステージ型の露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，３４１，００７号、米国特許第６，２０８，４０７号及び米国特許第６，２６２，７９６号に開示されている。例えば、図２３に示すように、露光装置ＥＸ１が２つの基板ステージ５Ａ及び５Ｂを備えている場合には、終端光学素子３１の射出面３２に対向するように配置される物体は、一方の基板ステージ５Ａ、当該一方の基板ステージ５Ａに保持された基板５１Ａ、他方の基板ステージ５Ｂ及び当該他方の基板ステージ５Ｂに保持された基板５１Ｂのうちの少なくとも一つであってもよい。

露光装置ＥＸ１は、複数の基板ステージ５及び計測ステージ６を備えるツインステージ型又はマルチステージ型の露光装置であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、基板５１に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、液晶表示素子製造用の又はディスプレイ製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（例えば、ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ及びマスク１１（或いは、レチクル）のうちの少なくとも一つを製造するための露光装置であってもよい。

上述の説明では、マスク１１が、光透過性の透明板の上に所定の遮光パターン（或いは、移動パターン又は減光パターン）を形成した透過型マスクである例が例示されている。しかしながら、マスク１１は、露光すべきデバイスパターンの電子データに基づいて透過パターン、反射パターン又は発光パターンを形成する可変成形マスク（いわゆる、電子マスク、アクティブマスク又はイメージジェネレータ）であってもよい。可変成形マスクの一例は、米国特許第６，７７８，２５７号に開示されている。マスク１１は、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を備えるパターン形成装置であってもよい。

上述の説明では、投影光学系３を備える露光装置ＥＸ１が例示されている。しかしながら、投影光学系３を備えていない露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成すると共に光学部材を介して投影される露光光で基板を露光する露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。

露光装置ＥＸ１は、干渉縞を基板５１に形成することで基板５１にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（いわゆる、リソグラフィシステム）であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されている。

上述の露光装置ＥＸ１は、上述の各種構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように組み合わせることで製造されてもよい。機械的精度を保つために、組み合わせの前後において、機械的精度を達成するための調整処理が各種機械系に行われてもよい。電気的精度を保つために、組み合わせの前後において、電気的精度を達成するための調整処理が各種電気系に行われてもよい。光学的精度を保つために、組み立ての前後において、光学的精度を達成するための調整処理が各種光学系に行われてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の機械的接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の電気回路の配線接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の気圧回路の配管接続を行う工程を含んでいてもよい。尚、各種サブシステムを組み合わせる工程の前に、各種サブシステムの夫々を組み立てる工程が行われる。各種サブシステムを組み合わせる工程が終了した後には、総合調整が行われることで露光装置ＥＸ１の全体としての各種精度が確保される。尚、露光装置ＥＸ１の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われてもよい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２４に示す各ステップを経て製造されてもよい。マイクロデバイスを製造するためのステップは、マイクロデバイスの機能及び性能設計を行うステップＳ２０１、機能及び性能設計に基づいたマスク（レチクル）１１を製造するステップＳ２０２、デバイスの基材である基板５１を製造するステップＳ２０３、上述の実施形態に従って、マスク１１のデバイスパターンからの露光光ＥＬで基板５１を露光し且つ露光された基板５１を現像するステップＳ２０４、デバイス組み立て処理（ダイシング処理、ボンディング処理、パッケージ処理等の加工処理）を含むステップＳ２０５及び検査ステップＳ２０６を含んでいてもよい。

上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

また、本発明は、請求の範囲及び明細書全体から読み取るこのできる発明の要旨又は思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法もまた本発明の技術思想に含まれる。

１マスクステージ
２照明系
３投影光学系
３１終端光学素子
３２射出面
３３外面
４Ａ液浸部材
４１Ａ第１部材
４２Ａ第２部材
４３１液体供給口
４４１、４４２流体回収口
５基板ステージ
５１基板
６計測ステージ
７計測システム
８チャンバ装置
９制御装置
９１コントローラー
ＡＴ、ＡＴＯ、ＡＴＬ光路
ＡＸ光軸
ＥＬ露光光
ＥＸ１露光装置
ＬＱ液体
ＬＳ液浸空間

Claims

光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記可動部材の少なくとも一部は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体の少なくとも一部に対向し、
前記移動装置は、前記第１物体が前記可動部材の少なくとも一部の下方で前記光学部材の光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する第１期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させる露光装置。
前記可動部材は、少なくとも一部が前記第１物体の少なくとも一部に対向する下面を備え、
前記移動装置は、前記第１物体の上面の少なくとも一部が前記下面の少なくとも一部に対向しながら前記第１物体が前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する前記第１期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させる請求項１に記載の露光装置。
前記第１物体は、前記基板を含む請求項１又は２に記載の露光装置。
前記基板の上面の少なくとも一部は、夫々が前記露光光によって露光される複数の露光領域を備えており、
前記複数の露光領域は、前記光軸に垂直な第１方向成分を含む第１方向に向かって前記基板が移動する期間の少なくとも一部において前記露光光によって露光される第１領域を含んでおり、
前記第１期間は、前記第１領域が前記露光光によって露光される第２期間の少なくとも一部を含む請求項３に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第２期間のうち前記第１領域に対する露光が開始されてから第１時間が経過した後の期間において、前記移動部材を移動させる請求項４に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１領域に対する露光が開始されてから前記第１時間が経過した後に前記移動部材の移動を開始する請求項５に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１領域に対する露光が開始されてから前記第１時間が経過するまでは前記移動部材を移動させない請求項５又は６に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記可動部材を、前記第１方向成分を含む第２方向に向かって移動させる請求項４に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第２期間のうち前記第１領域に対する露光が開始されてから第１時間が経過した後の期間において、前記第２方向に向かって前記移動部材を移動させる請求項８に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１領域に対する露光が開始されてから前記第１時間が経過した後に前記第２方向に向かう前記移動部材の移動を開始する請求項９に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１領域に対する露光が開始されてから前記第１時間が経過するまでは、前記第２方向に向かって前記移動部材を移動させない請求項９又は１０に記載の露光装置。
前記複数の露光領域は、前記第１領域に対する露光が終了した後の期間であって、且つ、前記第１方向成分とは逆向きである前記光軸に垂直な第２方向成分を含む第３方向に向かって前記基板が移動する期間の少なくとも一部において前記露光光によって露光される第２領域を含んでおり、
前記第１期間は、前記第１領域に対する露光が終了してから前記第２領域に対する露光が開始されるまでの間の第３期間の少なくとも一部を含む請求項４から１１のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第３期間の少なくとも一部において、前記可動部材を、前記光軸、前記第１方向成分及び前記第２方向成分の夫々に垂直な第３方向成分を含む第４方向に向かって移動させる請求項１２に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第２期間の少なくとも一部において、前記可動部材を、前記第３方向成分とは逆向きである前記光軸に垂直な第４方向成分を含む第５方向に向かって移動させる請求項１３に記載の露光装置。
前記第１物体の移動態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する請求項１から１４のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第１物体が所定態様で移動した時点で前記可動部材の移動を開始するように前記移動タイミングを決定する請求項１５に記載の露光装置。
前記第１物体が所定位置に到達した時点で前記可動部材の移動を開始するように前記移動タイミングを決定する請求項１５又は１６に記載の露光装置。
前記可動部材は第１液体回収口を備える請求項１から１７のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第１液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する請求項１８に記載の露光装置。
前記液体回収における回収量及び回収圧の両方又は一方が所定条件を満たした時点で前記可動部材の移動を開始するように前記移動タイミングを決定する請求項１９に記載の露光装置。
前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する請求項１８から２０のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第１物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記界面の少なくとも一部と前記第１物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記移動タイミングを決定する請求項２１に記載の露光装置。
前記界面の少なくとも一部と前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係が所定関係になると推定される時点で前記可動部材の移動を開始するように、前記移動タイミングを決定する請求項２１又は２２に記載の露光装置。
前記界面の少なくとも一部が前記第１液体回収口の少なくとも一部に到達すると推定される、前記界面の少なくとも一部が前記第１液体回収口の少なくとも一部に到達してから第２時間が経過したと推定される又は前記界面の少なくとも一部が前記第１液体回収口の少なくとも一部に到達するまでに要する時間が第３時間未満であると推定される時点で前記可動部材の移動を開始するように、前記移動タイミングを決定する請求項２１から２３のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第１物体の移動態様及び前記第１液体回収口による液体回収の態様の両方又は一方に基づいて、前記界面の少なくとも一部の間の位置を推定する請求項２１から２４のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第１物体の移動態様及び前記第１液体回収口による液体回収の態様の両方又は一方に基づいて、前記界面の少なくとも一部と前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係を推定する請求項２１から２５のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記光軸に対して前記第１液体回収口の外周端部の内側に前記液浸空間の界面が位置するように、前記可動部材を移動させる請求項１８から２６のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記第１液体回収口の外周端部の内側に、前記第１物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記界面の少なくとも一部が位置するように、前記可動部材を移動させる請求項２７に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記可動部材を、前記第１物体の移動方向と同一の方向に向かって移動させる請求項１から２８のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体上の又は第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第４期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整する請求項１から２９のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の距離が第１距離以下となる期間を含む請求項３０に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記液浸部材の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む請求項３０又は３１に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合と比較して、前記可動部材の前記第１物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から３２のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記可動部材の位置を基準として、前記第１物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記可動部材が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から３３のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から３４のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定場合の前記可動部材の位置を基準として、前記第１物体の移動方向と同一の方向に向かって前記可動部材が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から３５のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向と同一の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から３６のいずれか一項に記載の露光装置。
前記可動部材は第２液体回収口を備える請求項３０から３７のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記所定箇所と前記第２液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる期間を含む請求項３８に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記所定箇所と前記第２液体回収口の少なくとも一部との間の距離が第２距離以下となる期間を含む請求項３８又は３９に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記第２液体回収口の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む請求項３８から４０のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記第１物体の移動方向に沿った前方側又は後方側に位置する前記第２液体回収口の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む請求項３８から４１のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記第２液体回収口の少なくとも一部の位置を基準として、前記第１物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記第２液体回収口の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３８から４２のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記第２液体回収口の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３８から４３のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記第２液体回収口の少なくとも一部の位置を基準として、前記第１物体の移動方向と同一の方向に向かって前記第２液体回収口の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３８から４４のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向と同一の方向に向かって前記第２液体回収口の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３８から４５のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記所定箇所と前記液浸空間の界面の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる期間を含む請求項３０から４６のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記所定箇所と前記液浸空間の界面の少なくとも一部との間の距離が第３距離以下となる期間を含む請求項３０から４７のいずれか一項に記載の露光装置。
前記第４期間は、前記液浸空間の界面の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む請求項３０から４８のいずれか一項に記載の露光装置。
前記所定期間は、前記第１物体の移動方向に沿った前方側又は後方側に位置する前記液浸空間の界面の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む請求項３０から４９のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定場合の前記液浸空間の界面の少なくとも一部の位置を基準として、前記第１物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記界面の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から５０のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記液浸空間の界面の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から５１のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定場合の前記液浸空間の界面の少なくとも一部の位置を基準として、前記第１物体の移動方向と同一の方向に向かって前記界面の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から５２のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向と同一の方向に向かって前記液浸空間の界面の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から５３のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記液浸空間の界面の少なくとも一部の位置を基準として、前記光軸に対して前記界面の少なくとも一部が内側又は外側に位置することになるように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から５４のいずれか一項に記載の露光装置。
前記移動装置は、前記光軸に対して前記界面の少なくとも一部が前記所定箇所よりも内側又は外側に位置するように、前記可動部材の移動態様を調整する請求項３０から５５のいずれか一項に記載の露光装置。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記可動部材は第１液体回収口を備え、
前記第１液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する露光装置。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記可動部材は第１液体回収口を備え、
前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する露光装置。
光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記移動装置は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第４期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整する露光装置。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記移動装置は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する期間の少なくとも一部において、前記所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する前と比較して、前記可動部材の前記第１物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材を移動させる露光装置。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記移動装置は、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向と同一の又は異なる若しくは逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材を移動させる露光装置。
光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材の少なくとも一部は、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体の少なくとも一部に対向し、
前記可動部材を移動させることは、前記第１物体が前記可動部材の少なくとも一部の下方で前記光学部材の光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する第１期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させることを含む露光方法。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材は第１液体回収口を備え、
前記露光方法は、前記第１液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定することを備える露光方法。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材は第１液体回収口を備え、
前記露光方法は、前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第１液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定することを備える露光方法。
光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材を移動させることは、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第４期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整することを含む露光方法。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材を移動させることは、前記光学部材の下方で移動可能な第１物体上の又は前記第１物体と前記光学部材の下方で移動可能な第２物体との間の所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する期間の少なくとも一部において、前記所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する前と比較して、前記可動部材の前記第１物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材を移動させることを含む露光方法。
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材を移動させることは、前記第１物体に対して、前記第１物体の移動方向と同一の又は異なる若しくは逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材を移動させることを含む露光方法。
請求項１から６１のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと
を備えるデバイス製造方法。
請求項６２から６７のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと
を備えるデバイス製造方法。